本发明专利技术公开了一种永悬浮钻石研磨液，其特征在于是由以下组分及配比的物质混合而成：烷烃80～90％、分散触变剂1～5％、表面活性剂10％、pH调节剂1～3％、金刚石微分0.1～1％；制备方法为：将上述比例的烷烃、分散触变剂、表面活性剂充分搅拌溶合，将金刚石微分加入上述溶合后的溶液中，采用超声分散，结束后用pH调节剂调至中性。用于LED芯片、LED显示屏、光学晶体、硅片、化合物晶体、液晶面板、宝石、陶瓷、锗片、金属工件等的研磨抛光，可长期保持均匀悬浮状态，不会产生任何沉淀、分层和失效现象。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种研磨液，属于化学机械的抛光
，特别涉及一种永悬浮钻石研磨液。
技术介绍
在半导体加工过程中，最初的半导体基片需要进行抛光，抛光过程通常采用研磨液进行。研磨液通常的成分是金刚石微分、航空汽油、煤油、变压器油，各种植物油、动物油和烃类，再配以若干乳化剂混合制成，这种研磨液在使用时可以达到悬浮状，从而达到使磨料悬浮的效果，但是对于颗粒较大的磨料，需要悬浮性更高的研磨液，上述研磨液通常是在使用时悬浮，即在使用前摇勻，使用时一直处于搅拌状态，浪费人力物力，并且对于大颗粒悬浮效果不佳。如中国专利申请号是02138718. 4，名称是“高悬浮力水溶性防锈研磨液”，其制备方法对温度和真空度要求较高，提高了成本。对于现有技术，市场上需要一种永悬浮研磨液，在制备完成后即可保证悬浮状态， 达到一种“永悬浮”状态，可以使其在使用时抛光效果更好，节省工时，提高工作效率，并且保存方便。
技术实现思路
为解决上述技术问题，本专利技术提供一种永悬浮钻石研磨液，制备完成即可达到悬浮状态，方便保存，使用时无需一直处于搅拌状态，提高效率，降低成本。本专利技术是通过以下的技术方案实现的一种永悬浮钻石研磨液，是由以下组分及配比的物质混合而成烷烃80 90% ；分散触变剂1 5% ；表面活性剂10% ；PH调节剂1 3% ；金刚石微分0. 1 1%。所述永悬浮钻石研磨液的最优组分及配比为烷烃87% ；分散触变剂；表面活性剂10% ；PH调节剂1% ；金刚石微分1%。所述烷烃为直链的十一烷、十二烷或十三烷中的一种或几种混合物。所述分散触变剂为聚乙烯醇、乙烯醚或壬基酚聚氧中的一种或几种混合物。所述表面活性剂为聚氧乙烯乙基酚醚或环氧丙烃中的一种或两种混合物。所述pH调节剂是乙醇胺、三乙醇胺、盐酸或磷酸中的一种。所述金刚石微粉是粒径为1 10 μ m的金刚石微粉。本专利技术的制备工艺为将上述比例的烷烃、分散触变剂、表面活性剂充分搅拌溶合，将金刚石微分加入上述溶合后的溶液中，采用超声分散，超声分散采用500瓦，分散时间为10 20min，结束后用pH调节剂调至中性，至6 8即可。本专利技术的有益效果为用于LED芯片，LED显示屏，光学晶体、硅片、化合物晶体、液晶面板、宝石、陶瓷、锗片、金属工件等的研磨抛光。该研磨液可长期保持均勻悬浮状态，不会产生任何沉淀、分层和失效现象；该产品为稳定的永悬浮状，使用前及使用过程中不需要任何的搅拌装置同时可以有效的保证产品的稳定使用。具体实施例方式以下结合实施例，对本专利技术做进一步说明。实施例1研磨液配方选择^^一烷 87%; 分散触变剂(聚乙烯醇)1 % ；表面活性剂(聚氧乙烯乙基酚醚)10% ；pH调节剂(乙醇胺和三乙醇胺的混合物)1 % ；金刚石微分1%。制备方法将上述比例的烷烃、分散触变剂、表面活性剂充分搅拌溶合，将粒径是 1 10 μ m的金刚石微分加入上述溶合后的溶液中，采用超声分散，超声分散采用500瓦，分散时间为lOmin，结束后用乙醇胺和三乙醇胺的混合物调pH至7. 8。使用上述配好的抛光液在专用抛光机上抛光2英寸5片蓝宝石片，抛光前表面粗超度在0. 05 μ m左右，抛光压力为40公斤，抛光盘转速为80rpm，抛光液流量为2ml/min，抛光时间为lOmin，抛光后蓝宝石片表面粗超度变为0. 008 μ m。抛光表面无明显划痕，抛光速率为 2. 2 μ m/min。实施例2研磨液配方选择十二烷85%;分散触变剂(壬基酚聚氧)3 % ； 表面活性剂(环氧丙烷)10 % ；pH调节剂(盐酸)2% ；金刚石微分1%。制备方法将上述比例的烷烃、分散触变剂、表面活性剂充分搅拌溶合，将粒径是 1 10 μ m的金刚石微分加入上述溶合后的溶液中，采用超声分散，超声分散采用500瓦，分散时间为15min，结束后用乙醇胺和三乙醇胺的混合物调pH至6. 8。使用上述配好的抛光液在专用抛光机上抛光2英寸5片蓝宝石片，抛光前表面粗超度在0. 05 μ m左右，抛光压力为40公斤，抛光盘转速为80rpm，抛光液流量为2ml/min，抛4光时间为lOmin，抛光后蓝宝石片表面粗超度变为0. 009 μ m。抛光表面无明显划痕，抛光速率为 2. 6 μ m/min。实施例3研磨液配方选择十三烷82%;分散触变剂(乙烯醚和壬基酚聚氧混合物)5 % ；表面活性剂(环氧丙烷)10 % ； pH调节剂(磷酸与乙醇胺混合物)2 % ；金刚石微分1%。制备方法将上述比例的烷烃、分散触变剂、表面活性剂充分搅拌溶合，将粒径是 1 10 μ m的金刚石微分加入上述溶合后的溶液中，采用超声分散，超声分散采用500瓦，分散时间为20min，结束后用乙醇胺和三乙醇胺的混合物调pH至7. 2。使用上述配好的抛光液在专用抛光机上抛光2英寸5片蓝宝石片，抛光前表面粗超度在0. 05 μ m左右，抛光压力为40公斤，抛光盘转速为80rpm，抛光液流量为2ml/min，抛光时间为lOmin，抛光后蓝宝石片表面粗超度变为0. 008 μ m。抛光表面无明显划痕，抛光速率为 1. 8 μ m/min。权利要求1.一种永悬浮钻石研磨液，其特征在于是由以下组分及配比的物质混合而成 烷烃80 90% ；分散触变剂1 5% ； 表面活性剂10% ； PH调节剂1 3% ； 金刚石微分0. 1 1%。2.如权利要求1所述的永悬浮钻石研磨液，其特征在于所述永悬浮钻石研磨液的最优组分及配比为烷烃87% ； 分散触变剂； 表面活性剂10% ； PH调节剂1% ； 金刚石微分1%。3.如权利要求1所述的永悬浮钻石研磨液，其特征在于所述烷烃为直链的十一烷、 十二烷或十三烷中的一种或几种混合物。4.如权利要求1所述的永悬浮钻石研磨液，其特征在于所述分散触变剂为聚乙烯醇、 乙烯醚或壬基酚聚氧中的一种或几种混合物。5.如权利要求1所述的永悬浮钻石研磨液，其特征在于所述表面活性剂为聚氧乙烯乙基酚醚或环氧丙烃中的一种或两种混合物。6.如权利要求1所述的永悬浮钻石研磨液，其特征在于所述PH调节剂是乙醇胺、三乙醇胺、盐酸或磷酸中的一种。7.如权利要求1所述的永悬浮钻石研磨液，其特征在于所述金刚石微粉是粒径为1 10 μ m的金刚石微粉。全文摘要本专利技术公开了一种永悬浮钻石研磨液，其特征在于是由以下组分及配比的物质混合而成烷烃80～90％、分散触变剂1～5％、表面活性剂10％、pH调节剂1～3％、金刚石微分0.1～1％；制备方法为将上述比例的烷烃、分散触变剂、表面活性剂充分搅拌溶合，将金刚石微分加入上述溶合后的溶液中，采用超声分散，结束后用pH调节剂调至中性。用于LED芯片、LED显示屏、光学晶体、硅片、化合物晶体、液晶面板、宝石、陶瓷、锗片、金属工件等的研磨抛光，可长期保持均匀悬浮状态，不会产生任何沉淀、分层和失效现象。文档编号C09G1/02GK102268225SQ201110143348公开日2011年12月7日 申请日期2011年5月30日 优先权日2011年5月30日专利技术者朱孟奎 申请人:上海百兰朵电子科技有限公司本文档来自技高网...
【技术保护点】
１．一种永悬浮钻石研磨液，其特征在于是由以下组分及配比的物质混合而成：烷烃８０～９０％；分散触变剂１～５％；表面活性剂１０％；ｐＨ调节剂１～３％；金刚石微分０．１～１％。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：朱孟奎，
申请(专利权)人：上海百兰朵电子科技有限公司，
类型：发明
国别省市：31
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