本发明专利技术提供一种曝光装置，能够对与产生在工件基板上的应变变形极力对应的掩模图形像进行投影。本发明专利技术的曝光装置具备应变变形形成机构(17)，该应变变形形成机构(17)包括：平行平面板(31)，设置在将掩模图形(13’)投影到工件基板(14)的投影光路中；约束部件，将由平行平面板(31)的彼此相交的两边构成的角部(31A)和角部(31A)之间的中间部作为支点；加压部件，沿投影光路的光轴方向，对平行平面板(31)的各角部(31A)施加加压力，以约束部件作为支点使平行平面板(31)应变变形。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及能够对与产生在工件基板上的变形相对应的掩模图形像进行投影的曝光装置。
技术介绍
以往，在曝光装置中周知的是测定工件基板的温度，对应工件基板的温度，并使配置在投影光路中的两张平行平面板中的一者沿厚度方向以一对纵向边为支点进行弯曲， 从而在横向(X方向)弯曲变形；使另一平行平面板以一对横边为支点沿厚度方向弯曲而在纵向方向(Y方向)弯曲变形，从而改变横向(X方向)、纵向(Y方向)的倍率，由此，将对应于工件基板的伸缩的掩模图形像投影到工件基板上(例如参考专利文献1)。此外，还周知一种具有可转动所述两张平行平面板的结构的曝光装置(例如参考专利文献2。)。而且，还周知一种无需变更所述两张平行平面板的弯曲率而将对应于工件基板的伸缩的掩模图形像投影到工件基板上的曝光装置(例如参考专利文献3。)。上述工件基板中，有印制电路布线基板和IAB卷带、多层化印制电路布线基板等各种基板，例如在印制电路布线基板中，通过由环氧树脂和铜箔的热膨胀差引起的张紧来改变纵横比，TAB卷带同样也可以利用聚酰亚胺树脂和铜箔的热膨胀差来改变纵横比。此外，例如在多层化印制电路布线基板中，当使新的上部图形形成在已经最初形成的下部图形之上时，最初形成的下部图形会由于工件基板的伸缩而伸展或者收缩。上述的现有技术中的曝光装置，均能够伴随着它们的工件基板的伸缩而不断校正纵横比。(现有技术文献)(专利文献1)日本特开平10-303115号公报(专利文献2)日本特开2003-223003号公报(专利文献3)日本特开2006-292902号公报然而，近年来对形成在工件基板上的微细曝光图形的要求日益升高，另外，在工件基板上，不仅产生由热膨胀差或是其它原因引起的纵横伸缩变形，还产生朝向如对角方向的其它方向的变形，例如在工件基板上产生梯形变形和菱形形状的应变变形等各种应变变形。以往的曝光装置存在如下问题点，即由于进行倍率校正而难以将与在工件基板上产生的应变变形相极力对应的掩模图形像投影到上述工件基板。
技术实现思路
本专利技术正是鉴于上述情况而提出，其目的是提供一种能够对与在工件基板上产生的应变变形相极力对应的掩模图形像进行投影的曝光装置。本专利技术的曝光装置的特征在于，具备应变变形形成机构，该应变变形形成机构包括应变变形用平行平面板，设置在投影到工件基板的掩模图形的投影光路中而被应变变形；约束部件，将由平行平面板的彼此相交的两边构成的角部和角部之间的中间部作为支点；加压部件，沿投影光路的光轴方向对该平行平面板的各角部施加加压力，以约束部件作为支点使该平行平面板应变变形。根据本专利技术，使设置在工件基板的投影光路中的应变变形用平行平面板和该平行平面板的角部沿光轴方向变形，从而能够形成具有与该工件基板的应变变形对应的应变变形的掩模图形像，进而具有如下效果，即能够将如下掩模图形像投影到工件基板上，这种掩模图形像的形状与不能由横向倍率校正机构和纵向倍率校正机构彻底校正的、又在工件基板上产生的应变变形相对应。附图说明图1是表示本专利技术所述的曝光装置的光学系统的概况的说明图；图2是表示在图1中所示的倍率校正机构的详细机构的俯视图；图3是表示在图2中所示的倍率校正机构的详细机构的侧视图；图4是表示在图2中所示的横向倍率校正机构的详细机构的俯视图；图5是表示在图2中所示的横向倍率校正机构的详细机构的侧视图；图6是表示在图4、图5中所示的横向倍率校正机构的详细机构的立体图；图7是表示在图2中所示的应变变形形成机构的详细结构的俯视图；图8是表示在图7中所示的约束部件的约束状态的侧视图；图9是表示在图7中所示的加压夹持部件的加压夹持状态的侧视图；图10是用来说明在图2中所示的横向倍率校正机构的作用的模式图，(a)是表示第1平行平面板的支承状态的模式图，(b)是从侧面观察在(a)中所示的横向平行平面板的弯曲状态的模式图。图11是用来说明应变变形形成机构的作用的模式图，(a)是在从俯视方向观察的情况下，对于第3平行平面板的一对角方向的一对顶点施加同向的加压力，而且对于其它的对角方向的一对顶点，施加与上一对角方向的一对顶点施加的加压力的方向相反的加压力的状况下的模式图；(b)是从侧视方向对施加有(a)中所示的加压力的第3平行平面板进行观察的情况下的模式图；(c)是夸张表示通过该加压力使第3平行平面板呈菱形变形的状况的模式图。图12是用来说明应变变形形成机构的作用的模式图，(a)是在从俯视方向观察的情况下，对于第3平行平面板的横向的一边的一对顶点施加同向的加压力，而且对于与横向的一边相平行的其它边的一对顶点，施加与给上一边的一对顶点施加的加压力的方向相反的加压力的状况下的模式图；(b)是从侧视方向对施加了(a)中所示的加压力的第3平行平面板进行观察的情况下的模式图；(c)是夸张表示通过该加压力使第3平行平面板呈纵向梯形变形的状况的模式图。图13是用来说明应变变形形成机构的作用的模式图，(a)是在从俯视方向观察的情况下，对于第3平行平面板的纵向的一边的一对顶点施加同向的加压力，而且对于与纵向的一边相平行的其它边的一对顶点，施加与给上一边的一对顶点施加的加压力的方向相反的加压力的状况下的模式图；(b)是从侧视方向对施加了(a)中所示的加压力的第3平行平面板进行观察的情况下的模式图；(C)是夸张表示通过该加压力使第3平行平面板呈横向梯形变形的状况的模式图。附图标记说明13’掩模图形14工件基板17应变变形形成机构31第3平行平面板(应变变形用平行面板)3IA 角部33加压夹持部件(加压部件)具体实施例方式(实施例)图1是表示本专利技术所涉及的曝光装置的光学系统的概况的说明图，1是光源部、2 是冷镜、3是曝光快门、4是紫外线(i线)带通滤波器、5是积分透镜、6是准直透镜、7是平面镜、8是掩模台、9是掩模盲区部、10是投影透镜保持筒、11是倍率校正机构、12是曝光台。 另外，该曝光快门3在曝光时，可以适当从光学系统的光路退避。光源部1由水银灯Ia和旋转椭圆镜Ib构成，水银灯Ia配置在旋转椭圆镜Ib的第1焦点位置，从水银灯Ia发出的发光光束被旋转椭圆镜Ib反射而集聚在第2焦点位置， 利用冷镜2去除长波长大于红外波长的红外线并反射比可见红外光的波长短的短波范围的光束，并引导至带通滤波器4，利用该带通滤波器4滤除紫外线(i线)以外的其它的波长范围的光线，从而将曝光用光束P引导至积分透镜5。曝光用光束P在积分透镜5作用下，其光量分布大概相同并被引导至准直透镜6。 该准直透镜6在上述第2焦点位置具有焦点，曝光用光束P利用上述准直透镜6成为平行光束，光路由平面镜7弯折后引导至掩模台8。在掩模台8上设置有掩模13。在该掩模13上，形成有应当形成在工件基板14上的掩模图形13’。该掩模13具有用来与后述的工件基板14进行对位的对位标记13a。上述掩模台8能够借助省略图示的驱动机构，在横向(X)以及纵向(Y)上移动。在用曝光用光束P曝光工件基板14时，掩模盲区部9可以适当从光学系统的光路退避。在投影透镜保持筒10的内部设置有投影透镜组10a。在本实施例中，该投影透镜组IOa将掩模13的图形放大并使其成像于工件基板14上。工件基板14放置在曝光台12上。上述工件基板14例如是正方形，在该工件基板 14上，在适当的部位预先形本文档来自技高网...
【技术保护点】
１．一种曝光装置，其特征在于，具备应变变形形成机构，该应变变形形成机构包括：应变变形用平行平面板，设置在将掩模图形投影到工件基板的投影光路中而被应变变形；约束部件，将由该平行平面板的彼此相交的两边构成的角部和角部之间的中间部作为支点；加压部件，沿所述投影光路的光轴方向对所述平行平面板的所述各角部施加加压力，以所述约束部件作为支点使所述平行平面板应变变形。
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员：渡边幸二，石叶幸生，仲野健一，
申请(专利权)人：株式会社拓普康，
类型：发明
国别省市：JP
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