【技术实现步骤摘要】
本技术涉及曝光技术，具体为一种散射曝光系统。(二)技术背景IXD液晶显示屏制造流程中的曝光工序，是在暗室中将菲林置于散射光与ITO玻璃之间，使ITO玻璃上的光刻胶根据菲林图案曝光。暗室中的曝光条件有所要求，比如说散射光的范围和暗室内的通风条件等散射光的范围决定菲林图案的曝光程度，通风条件决定暗室内温度，温度过高，会使菲林图案尺寸发生变化。因此提高散射光范围进而增加曝光强度和改善通风条件是曝光工序中制造合格 LCD液晶显示屏半成品的重要条件。(三)
技术实现思路
本技术的目的是提出一种提高曝光面积和降低温度的散射曝光系统。能够实现上述目的的散射曝光系统，包括使菲林架光刻平台在其内曝光的暗室， 暗室内设置曝光机构和通风机构，所不同的是所述曝光机构设于菲林架光刻平台上方，包括安装在反光罩内的曝光灯，所述反光罩的反光面上有密集的凹陷；所述通风机构包括将冷风通入暗室的送风管和将热风导出暗室的排风管。所述反光面的波纹度(不平度)彡3mm/20mm,其密集程度为2 4个凹陷/平方厘米。所述反光罩安装于可调节高度的机架上，通过改变反光罩的高度，增强或减少曝光强度。所述机架为安装于暗室顶部的调节杆，反光罩连接于调节杆上。所述送风管连通送风机，所述排风管连通排风机。本技术的优点在不增加曝光灯亮度和高度的情况下，本技术散射曝光系统通过改变反光罩的反光面形状来提高曝光散射面，降低反光罩高度进而增大曝光强度，并配置送风机和排风机改善通风条件，降低暗室温度，满足曝光工序的工艺要求。附图说明图1为本技术一种实施方式的结构示意图。图2为图1实施方式的侧视图。图号标识1、菲林架光刻平台；2、...
【技术保护点】
１．散射曝光系统，包括使菲林架光刻平台（１）在其内曝光的暗室（２），暗箱（２）内设置曝光机构和通风机构，其特征在于：所述曝光机构设于菲林架光刻平台（１）上方，包括安装在反光罩（３）内的曝光灯，所述反光罩（３）的反光面上有密集的凹陷；所述通风机构包括将冷风通入暗室（２）的送风管和将热风导出暗室（２）的排风管。
【技术特征摘要】
1.散射曝光系统，包括使菲林架光刻平台(1)在其内曝光的暗室O)，暗箱O)内设置曝光机构和通风机构，其特征在于所述曝光机构设于菲林架光刻平台(1)上方，包括安装在反光罩(3)内的曝光灯，所述反光罩(3)的反光面上有密集的凹陷；所述通风机构包括将冷风通入暗室O)的送风管和将热风导出暗室O)的排风管。2.根据权利要求1所述的散射曝光系统，其特征在于所述反光面的波纹度3mm/20m...
【专利技术属性】
技术研发人员：叶茂贤，
申请(专利权)人：广西钦州天山微电子有限公司，
类型：实用新型
国别省市：45
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