透明导电玻璃制造技术

技术编号:6852331 阅读:190 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
一种透明导电玻璃,在玻璃(1)的表面从内至外依次设有第一二氧化硅膜SiO2(2)、二氧化钛膜TiO2(3)、第二二氧化硅膜SiO2(4)和氧化铟锡膜ITO(5)。本实用新型专利技术的采用五层式结构,导电性好、透光率高,可以使得透光率达到96%以上。(*该技术在2021年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种透明导电膜玻璃,尤其是显示屏用导电玻璃,具体地说是一种具有高透光率的透明导电玻璃
技术介绍
透明导电玻璃,是以玻璃为基片,镀以氧化物、金属或氧化物复合膜,透明导电玻璃不仅具有导电性,同时具有透光性,具有广泛的应用前景。目前,透明导电玻璃主要应用于平板显示器。通常在玻璃的表面从内至外依次设有二氧化硅膜SiO2和氧化铟、锡ITO的三层式玻璃结构;导电性好,但是,存在透光率不高的问题,其可见光平均透射率(含1. 1 mm厚玻璃基底)小于89%,使得在制造IXD液晶显示器的时候,使得器间显示时清晰度降低。
技术实现思路
本技术的目的是针对现有技术中存在的问题,提出一种导电性好、透光率高的透明导电玻璃。本技术的技术方案是一种透明导电玻璃,在玻璃的表面从内至外依次设有第一二氧化硅膜SiO2、二氧化钛膜TiO2、第二二氧化硅膜SiO2和氧化铟锡膜ΙΤ0。本技术的第一二氧化硅膜SiA的厚度为20 nm— 35nm。本技术的二氧化钛膜TW2的厚度为150 nm— 250nm。本技术的第二二氧化硅膜SW2的厚度为20 nm— 35nm。本技术的氧化铟锡膜ITO的厚度为2 nm— lOOnm。本技术的有益效果本技术由于采用了不同折射率的膜层,相互叠加,使得光线在通过膜层和玻璃以后,总的折射率降低,透射率增加。同时镀制在多层膜层上的ITO膜导电性能增加,电阻值降低,采用这种膜系结构的玻璃制造出来的LCD液晶显示器,器件透光率高,显示的各个数值、图像清晰、完美。本技术的采用五层式结构,导电性好、透光率高,可以使得透光率达到96%以上。附图说明图1是本技术的结构示意图。1、玻璃;2、第一二氧化硅膜SW2 ;3、二氧化钛膜TW2 ;4、第二二氧化硅膜SW2 ;5、氧化铟锡膜IT0。具体实施方式3以下结合附图和实施例对本技术作进一步的说明。如图1所示,一种透明导电玻璃,在玻璃(1)的表面从内至外依次设有第一二氧化娃膜SiO2 (2)、二氧化钛膜TiO2 (3)、第二二氧化硅膜SiO2 (4)和氧化铟锡膜ITO (5)。本技术的第一二氧化硅膜SiA (2)的厚度为20 nm— 35nm。本技术的二氧化钛膜TW2 (3)的厚度为150 nm— 250nm。本技术的第二二氧化硅膜SW2 (4)的厚度为20 nm— 35nm。本技术的氧化铟锡膜ITO (5)的厚度为2 nm 一 lOOnm。本技术的采用五层式结构,导电性好、透光率高,可以使得透光率达到96%以上。本技术未涉及部分均与现有技术相同或可采用现有技术加以实现。权利要求1.一种透明导电玻璃,其特征是在玻璃(1)的表面从内至外依次设有第一二氧化硅膜 SiO2 (2)、二氧化钛膜TiO2 (3)、第二二氧化硅膜SiO2 (4)和氧化铟锡膜ITO (5)。2.根据权利要求1所述的透明导电玻璃,其特征是所述的第一二氧化硅膜S^2(2)的厚度为20 nm — ;35歷。3.根据权利要求1所述的透明导电玻璃,其特征是所述的二氧化钛膜TW2(3)的厚度为 150nm — 250nmo4.根据权利要求1所述的透明导电玻璃,其特征是所述的第二二氧化硅膜SiA(4)的厚度为 20nm — 35nm。5.根据权利要求1所述的透明导电玻璃,其特征是所述的氧化铟锡膜ITO(5)的厚度为 2nm — IOOnm0专利摘要一种透明导电玻璃,在玻璃(1)的表面从内至外依次设有第一二氧化硅膜SiO2(2)、二氧化钛膜TiO2(3)、第二二氧化硅膜SiO2(4)和氧化铟锡膜ITO(5)。本技术的采用五层式结构,导电性好、透光率高,可以使得透光率达到96%以上。文档编号B32B9/04GK202037923SQ20112006597公开日2011年11月16日 申请日期2011年3月14日 优先权日2011年3月14日专利技术者朱殿荣, 李俊 申请人:无锡康力电子有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种透明导电玻璃,其特征是在玻璃(1)的表面从内至外依次设有第一二氧化硅膜SiO2(2)、二氧化钛膜TiO2(3)、第二二氧化硅膜SiO2(4)和氧化铟锡膜ITO(5)。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:李俊朱殿荣
申请(专利权)人:无锡康力电子有限公司
类型:实用新型
国别省市:32

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