防止低聚物产生的聚酯基膜制造技术

本实用新型专利技术公开了一种防止低聚物产生的聚酯基膜，所述聚酯基膜包括多层共挤复合层，所述多层共挤复合层的上、下表面上分别涂布有聚酯改性丙烯酸酯上表层和聚酯改性丙烯酸酯下表层。本实用新型专利技术的多层共挤复合层的透光率、透明度非常高，而多层共挤复合层的上、下表面上涂布的聚酯改性丙烯酸酯层稳定性非常高，避免了低聚物的挥发，避免了聚酯基膜发雾的现象，涂布后薄膜表面粗糙度变小，提高了聚酯基膜表面的透光率、透明度和光泽度。本实用新型专利技术经长时间阳光暴晒后，不存在膜面发雾现象，保证了高端玻璃贴膜的使用需求。（*该技术在2021年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种聚酯基膜，具体涉及一种用于玻璃贴膜的防止低聚物产生的聚酯基膜。
技术介绍
聚酯基膜因具有良好的机械性能、光学性能、耐热耐寒性等，广泛应用于工业诸多领域。其中，用于汽车玻璃贴膜的聚酯基膜，对光学性能尤其是透明度和透光率要求特别高。但聚酯薄膜在生产过程中以及在使用过程中，容易有低聚物的产生，低聚物挥发聚集在聚酯基膜的表面，不仅影响聚酯基膜的洁净度和光学性能，并且经长时间日光暴晒之后，聚酯基膜的发雾现象非常明显，不能满足高端玻璃贴膜的需求。
技术实现思路
本技术所要解决的技术问题是针对现有技术存在的不足，提供一种具有良好的光学性能、生产以及使用过程中不会产生低聚物，而且在长时间暴晒之后不存在膜面发雾问题的聚酯基膜。为解决上述技术问题，本技术的技术方案是防止低聚物产生的聚酯基膜，所述聚酯基膜包括多层共挤复合层，所述多层共挤复合层的上、下表面上分别涂布有聚酯改性丙烯酸酯上表层和聚酯改性丙烯酸酯下表层。其中，所述多层共挤复合层包括聚酯层，共挤复合于所述聚酯层两表面上的无机颗粒聚酯上复合层和无机颗粒聚酯下复合层。作为一种改进，所述聚酯改性丙烯酸酯层中均勻分布有无机添加剂颗粒。 所述无机颗粒为5 20nm的无机物颗粒。所述无机添加剂颗粒为10 50nm的无机添加剂颗粒。所述聚酯基膜的厚度为12 36um，所述无机颗粒聚酯上复合层和无机颗粒聚酯下复合层的厚度分别为2 4um，所述聚酯改性丙烯酸酯上表层和聚酯改性丙烯酸酯下表层的厚度分别为0. 05 0. 6um。由于采用了上述技术方案，本技术的有益效果是本技术的多层共挤复合层的聚酯层本身的透光率、透明度非常高，共挤复合于所述聚酯层两表面上的无机颗粒聚酯上复合层和无机颗粒聚酯下复合层，其中的无机颗粒粒径只有5 20nm，当光照射在无机颗粒聚酯上复合层和无机颗粒聚酯下复合层时，光波就会绕开微小的无机颗粒而直接穿过聚酯基膜。而多层共挤复合层的上、下表面上分别涂布的聚酯改性丙烯酸酯层，透光率非常好，并且对共挤复合层涂布之后薄膜表面粗糙度变小，因此光散射较小，并且表面的涂布层聚酯改性丙烯酸酯层的稳定性非常高，多层共挤复合层中的低聚物在挥发时被该上、下两聚酯改性丙烯酸酯涂布层阻挡，因此重新形成聚酯材料，避免了低聚物的挥发。因此，本技术不仅提高了聚酯基膜表面的透光率、透明度和光泽度，避免了聚酯基膜发雾的现象，而且能减少低聚物挥发造成的聚酯基膜表面发雾和污染现象。本技术具有良好的光学性能，透明度大于98%，透光率大于90%，雾度为1. 5 2. 3%，生产过程中没有低聚物的挥发，保证了生产环境的清洁卫生，经长时间阳光暴晒后， 不存在膜面发雾现象，保证了玻璃贴膜的使用要求。以下结合附图和实施例对本技术进一步说明。附图是本技术实施例的结构剖视图。图中，1.多层共挤复合层；2.聚酯改性丙烯酸酯上表层；3.聚酯改性丙烯酸酯下表层；11.聚酯层；12.无机颗粒聚酯上复合层；13.无机颗粒聚酯下复合层。具体实施方式如附图所示，防止低聚物产生的聚酯基膜，所述聚酯基膜包括多层共挤复合层1， 所述多层共挤复合层1的上、下表面上分别涂布有聚酯改性丙烯酸酯上表层2和聚酯改性丙烯酸酯下表层3。其中，所述多层共挤复合层1包括聚酯层11，共挤复合于所述聚酯层11两表面上的无机颗粒聚酯上复合层12和无机颗粒聚酯下复合层13。所述聚酯改性丙烯酸酯上、下表层中均勻分布有无机添加剂颗粒。所述无机颗粒为5 20nm的无机物颗粒。所述无机添加剂颗粒为10 50nm的无机添加剂颗粒。所述聚酯基膜的厚度为12 36um，所述无机颗粒聚酯上复合层和无机颗粒聚酯下复合层的厚度分别为2 4um，所述聚酯改性丙烯酸酯上表层和聚酯改性丙烯酸酯下表层的厚度分别为0. 05 0. 6um。实施例1防止低聚物产生的聚酯基膜，厚度为18um，所述聚酯基膜包括多层共挤复合层1， 所述多层共挤复合层1包括聚酯层11，共挤复合于所述聚酯层11两表面上的无机颗粒聚酯上复合层12和无机颗粒聚酯下复合层13，所述无机颗粒为Snm的无机物颗粒，所述多层共挤复合层1的上、下表面上分别涂布有聚酯改性丙烯酸酯上表层2和聚酯改性丙烯酸酯下表层3，所述聚酯改性丙烯酸酯上表层和聚酯改性丙烯酸酯下表层的厚度分别为0. lum，所述无机颗粒聚酯上复合层和无机颗粒聚酯下复合层的厚度分别为2um。实施例2防止低聚物产生的聚酯基膜，厚度为25um，所述聚酯基膜包括多层共挤复合层1， 所述多层共挤复合层1包括聚酯层11，共挤复合于所述聚酯层11两表面上的无机颗粒聚酯上复合层12和无机颗粒聚酯下复合层13，所述无机颗粒为12nm的无机物颗粒，所述多层共挤复合层1的上、下表面上分别涂布有聚酯改性丙烯酸酯上表层2和聚酯改性丙烯酸酯下表层3，所述聚酯改性丙烯酸酯上表层和聚酯改性丙烯酸酯下表层的厚度分别为0. 3um，所述无机颗粒聚酯上复合层和无机颗粒聚酯下复合层的厚度分别为3um，所述聚酯改性丙烯酸酯上、下表层中均勻分布有无机添加剂颗粒，所述无机添加剂颗粒为20nm的无机添加剂颗粒。实施例3防止低聚物产生的聚酯基膜，厚度为30um，所述聚酯基膜包括多层共挤复合层1， 所述多层共挤复合层1包括聚酯层11，共挤复合于所述聚酯层11两表面上的无机颗粒聚酯上复合层12和无机颗粒聚酯下复合层13，所述无机颗粒为18nm的无机物颗粒，所述多层共挤复合层1的上、下表面上分别涂布有聚酯改性丙烯酸酯上表层2和聚酯改性丙烯酸酯下表层3，所述聚酯改性丙烯酸酯上表层和聚酯改性丙烯酸酯下表层的厚度分别为0. 6um，所述无机颗粒聚酯上复合层和无机颗粒聚酯下复合层的厚度分别为4um，所述聚酯改性丙烯酸酯上、下表层中均勻分布有无机添加剂颗粒，所述无机添加剂颗粒为40nm的无机添加剂颗粒。权利要求1.防止低聚物产生的聚酯基膜，其特征在于所述聚酯基膜包括多层共挤复合层，所述多层共挤复合层的上、下表面上分别涂布有聚酯改性丙烯酸酯上表层和聚酯改性丙烯酸酯下表层。2.如权利要求1所述的防止低聚物产生的聚酯基膜，其特征在于所述多层共挤复合层包括聚酯层，共挤复合于所述聚酯层两表面上的无机颗粒聚酯上复合层和无机颗粒聚酯下复合层。3.如权利要求1所述的防止低聚物产生的聚酯基膜，其特征在于所述聚酯改性丙烯酸酯层中均勻分布有无机添加剂颗粒。4.如权利要求2所述的防止低聚物产生的聚酯基膜，其特征在于所述无机颗粒为 5 20nm的无机物颗粒。5.如权利要求3所述的防止低聚物产生的聚酯基膜，其特征在于所述无机添加剂颗粒为10 50nm的无机添加剂颗粒。6.如权利要求2所述的防止低聚物产生的聚酯基膜，其特征在于所述聚酯基膜的厚度为12 36um，所述无机颗粒聚酯上复合层和无机颗粒聚酯下复合层的厚度分别为 2 4um，所述聚酯改性丙烯酸酯上表层和聚酯改性丙烯酸酯下表层的厚度分别为0. 05 0. 6um。专利摘要本技术公开了一种防止低聚物产生的聚酯基膜，所述聚酯基膜包括多层共挤复合层，所述多层共挤复合层的上、下表面上分别涂布有聚酯改性丙烯酸酯上表层和聚酯改性丙烯酸酯下表层。本技术的多层共挤复合层的透光率、透明度非常高，而多层共挤复合层的上、下表面上涂布的聚酯改性丙烯酸酯层稳定性非常本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．防止低聚物产生的聚酯基膜，其特征在于：所述聚酯基膜包括多层共挤复合层，所述多层共挤复合层的上、下表面上分别涂布有聚酯改性丙烯酸酯上表层和聚酯改性丙烯酸酯下表层。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：王国明，董兴广，张玲，周慧芝，
申请(专利权)人：富维薄膜山东有限公司，
类型：实用新型
国别省市：37