用于存储和传送大基板的密闭垂直支架制造技术

本发明专利技术提供了一种用于存储和传送大基板的密闭垂直支架。该密闭垂直支架包括可移动基座、在可移动基座上用于容纳基板的外壳、在外壳中用于接收基板的对准工具、和用于密封外壳的可密封门。该外壳具有气体入口且该外壳或门具有气体出口。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种用于存储和传送大基板的外壳(enclosure)。
技术介绍
具有预先沉积的透明导电氧化物(TCO)层的大基板通常用于制造光电器件 (photovoltaic device)。换句话说，在生产线中或可在光电器件生产线外部(off-site)或者远离其的制造设备中沉积TCO层。由于在将基板传送到光电器件生产线之前该TCO层可被进一步氧化或者污染，因此可能需要清洗步骤来清洗TCO层表面。但是，清洗步骤需要加工和处理时间，且由此增加了光电器件的总制造成本。专利技术人增加了一种情况，其中这些外壳可在具有或不具有TCO的情况下工作，且刚好可用于清洁和湿气控制、或者抛光之后的原玻璃(bare glass)的氧化控制、或具有会遭受老化的任何其他涂层的玻璃的氧化控制。
技术实现思路
根据本专利技术的一个方面，提供了一种用于存储和传送大基板的密闭垂直支架 (enclosed vertical rack)0密闭垂直支架包括可移动基座，在该可移动基座上用于容纳基板的外壳，在该外壳中用于接收基板的对准工具(alignment facility)，和用于密闭外壳的可密封门。该外壳或者门具有气体入口，并且该外壳或门具有气体出口。因此，在外壳内部的空气可替换成惰性气体以保护基板不被进一步氧化和污染。而且，垂直支架的可移动基座能在不同生产线之间在内部传送基板。附图说明因此，为了更详细理解本专利技术的上述特征，可通过参考实施方式获得对以上简要概括的本专利技术的更详细描述，其中一些实施方式在附图中示出。但是应注意，附图仅示出了本专利技术的典型实施方式，且因此由于本专利技术允许其他等效实施方式，不认为其限制本专利技术的范围。图1是根据本专利技术实施方式的垂直支架的前视图。图2是根据本专利技术另一实施方式的垂直支架中的对准工具的前视图。图3是根据本专利技术另一实施方式的垂直支架的侧视图。图4是根据本专利技术再一实施方式的垂直支架的前视图。具体实施例方式本专利技术的实施方式一般涉及一种用于在垂直方向上存储和传送大基板的密闭垂直支架。本公开中使用的术语“大基板”是一种平面表面积大于约60cmX72cm、以及上至和超出2. 2m X 2. 6m的基板。图1是根据本专利技术实施方式的垂直支架的前视图。图1中，垂直支架100a包括可移动基座102、在可移动基座102上的外壳200、在外壳200中的对准工具300，和在外壳200 前侧的可密封门400。门400显示为被切除(cut-away)以露出外壳200内部。可移动基座102具有用于在不同生产线之间移动垂直支架IOOa的移动工具104。 移动工具104例如可以是叉式升降槽(forklift slot)、转向轮(castor)、轨道轮(rail wheel)或提升钩(hoisting hook)。因此，垂直支架100a可通过人工导向或自动导向技术而移动。在可移动基座102上的外壳200被用于容纳在大致垂直方向上设置的多个大基板 500(以下简称为基板500)。外壳的容纳基板数目可高达50。如果基板500是玻璃基板，则 50个基板500的重量可高达6000磅或6000磅以上。因此，外壳200可由诸如金属或玻璃纤维加固的塑料之类的结构坚硬的材料制成。外壳200装配有气体入口 202，以便使用诸如氮气或者氩气这样的惰性气体填充由外壳200和门300包围的空间。替换地，可使用诸如清洁干燥的空气这样的低湿气含量气体。外壳200还装配有气体出口 204，其能够排出最初处在由外壳200和门300包围的空间内的空气。气体入口 202包括防止自气体入口 202发生疏忽泄漏的阀。因此，气体入口 202例如可包括截止阀(shut-off valve)或者被集成在密封速断器(quick-disconnect) 中。当气体入口被集成在密封速断器中时，在气体导管(gas conduit)被连接到气体入口 202时气体入口 202打开，而在气体导管与气体入口 202断开以防止自气体入口 202发生气体泄漏时气体入口 202关闭。气体出口 204包括控制通过气体出口 204的气体流量的阀。 因此，气体出口 204可包括检查阀或者安全阀(relief valve) 0因此，最初处在由外壳200 和门300包围的空间中的空气可全部被惰性气体替换，从而当将基板500存储在垂直支架 100a中时保护基板500不被任何氧化气体进一步氧化。在外壳200中的对准工具300用于接收基板并将基板500从垂直稍微倾斜为约 0-5度的角度，以使基板500与对准工具300的上部凸起301和下部凸起303的接触面积最小，从而使破坏基板500上的诸如TCO层这样的沉积层的可能性减至最小。对准工具300 包括顶刷(top comb)和底刷(bottom comb)，该顶刷包括多个上部凸起(pro jection) 301 以在其间限定多个上部狭槽(slot) 302，该底刷包括多个下部凸起303以在其间限定多个下部狭槽304。上部狭槽302自下部狭槽304横向偏移以稍微倾斜设置在上部狭槽302和下部狭槽304中的基板500。上部凸起301和下部凸起303可由比基板500柔软的材料制成，以最小化基板 500表面上的划痕。上部凸起301和下部突起303的材料例如可以是诸如聚氧化甲烯 (polyoxymethylene)(例如 DuPont 的 DELRIN)、聚氨酯(polyurethane)、聚酰亚胺基聚合物 (polyimide-based polymer)(例如 DuPont 的 VESPEL)、或者聚謎丽謎(polyether ether ketone)(例如PEEK)这样的塑料。图2是根据本专利技术另一实施方式在垂直支架中的对准工具的前视图。图2中，滚柱(roller) 305可被进一步设置在每个上部凸起301两侧上，设置方式使得滚柱305能向内和向外滚动。相似地，滚柱305也可被设置在每个下部凸起303(图2中未示出)的两侧上，设置方式使得滚柱能够向内和向外滚动。因此，与基板500和上部/下部凸起301/303 之间的摩擦力相比，在基板500和滚柱305之间的摩擦力可进一步被降低，以进一步减少基板500上的划痕。而且，在图1中，对准工具300可进一步包括设置在上部凸起301和下部突起303 之间的隔离物(s印arator)305，以有助于将玻璃保持在上部狭槽302和下部狭槽304中。 隔离物例如可以是线材(wire)或者具有分离珠(bead)的线材。图1中，方向垂直于上部狭槽302和下部狭槽304的外壳200的一侧具有可密封门400，其尺寸允许基板500穿过。门400被配置成通过人工或者通过机械手或者其他自动系统打开和关闭。在一个实施方式中，门400可自外壳200移除。当门400关闭时，门400 与外壳200实现实质气密密封。因此，当基板500被存储在外壳200中并且门400关闭时外壳200可以保护基板500不被污染，且可以消除污染影响或者省去去除污染物的其他工艺步骤。可选择门400的密封，以便在每平方英寸几磅以上的压力下发生泄漏以防止外壳过压，和/或有助于当对外壳加压时通过充当作通气孔而对外壳充气(charge)。门400的内表面可包括诸如弹性构件或者可膨胀构件之类的传送限制器 本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种用于存储和传输大基板的密闭垂直支架，所述密闭垂直支架包括：可移动基座；在所述基座上的外壳，用于容纳至少一个基板，其中所述外壳具有气体入口；在所述外壳中的对准工具，用于接收基板和稍微倾斜基板；和可密封门，用于密闭所述外壳，其中所述门的尺寸允许基板穿过。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：詹姆斯·兰德斯，潘查拉·N·坎卡纳拉，杰弗里·S·沙利文，彼得·兰纳，
申请(专利权)人：应用材料股份有限公司，
类型：发明
国别省市：US