蓝宝石抛光后的清洗方法技术

本发明专利技术公开了一种蓝宝石抛光后的清洗方法，包括以下步骤：a、按照双氧水、氨水和去离子水的重量比＝1∶4∶5配制清洗液；b、采用步骤a所得清洗液清洗1分钟；c、用去离子水清洗4分钟；d、用硫酸清洗1分钟；e、用去离子水清洗4分钟；f、用氢氟酸清洗30秒；g、用去离子水清洗4分钟；h、用丙酮擦拭；i、用超声波清洗机清洗2分钟；j、最后用甩干机进行甩干。本发明专利技术由于采用了上述技术方案，可有效地将晶片表面残留的有机物，无机物，金属离子等去除掉，避免防止反复清洗环节，大大提高了工作效率。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
１．蓝宝石抛光后的清洗方法，其特征在于：包括以下步骤：ａ、按照双氧水、氨水和去离子水的重量比＝１∶４∶５配制清洗液；ｂ、采用步骤ａ所得清洗液清洗１分钟；ｃ、用去离子水清洗４分钟；ｄ、用硫酸清洗１分钟；ｅ、用去离子水清洗４分钟；ｆ、用氢氟酸清洗３０秒；ｇ、用去离子水清洗４分钟；ｈ、用丙酮擦拭；ｉ、用超声波清洗机清洗２分钟；ｊ、最后用甩干机进行甩干。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：赵德刚，
申请(专利权)人：浙江露笑光电有限公司，
类型：发明
国别省市：33