【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种玻璃镀膜设备,具体地说是一种新型镀膜探针,属于玻璃加 工设备领域。
技术介绍
玻璃镀膜是在玻璃表面涂镀一层或多层金属、合金或金属化合物薄膜,以改变玻 璃的光学性能,满足某种特定要求的工艺。主要有真空磁控溅射法、真空蒸发法、化学气相沉积法以及溶胶一凝胶法等。磁控 溅射镀膜玻璃利用磁控溅射技术可以设计制造多层复杂膜系,可在白色的玻璃基片上镀出 多种颜色,膜层的耐腐蚀和耐磨性能较好,是目前生产和使用最多的产品之一。真空蒸发 镀膜玻璃的品种和质量与磁控溅射镀膜玻璃相比均存在一定差距,已逐步被真空溅射法取 代。化学气相沉积法是在浮法玻璃生产线上通入反应气体在灼热的玻璃表面分解,均勻地 沉积在玻璃表面形成镀膜玻璃。该方法的特点是设备投入少、易调控,产品成本低、化学稳 定性好,可进行热加工,是目前最有发展前途的生产方法之一。溶胶一凝胶法生产镀膜玻璃 工艺简单,稳定性也好,不足之处是产品光透射比太高,装饰性较差。传统的镀膜设备,镀膜探针主要使用单一的电流通道和单一的电压通道,因此,经 常会因其中某一通道故障,而断开连接,导致工作不能继续进行,且使用寿命短。
技术实现思路
本专利技术的目的在于,针对上述问题,设计了一种新型探针,将传统的单一电流通过 和单一的电压通道改为多电流通道和多电压通道,从而保证在其中某一通道由于故障断开 时设备仍可以继续工作。本技术的技术方案为一种新型镀膜探针,包括电压探针和电流探针,所述电 压探针和电流探针的外侧设有导向套,所述的电压探针和电流探针均设有两根以上。进一步地,所述的电压探针设有2根,所述的电流探针设有3根,电压探针和电流 探针 ...
【技术保护点】
1.一种新型镀膜探针,其特征在于,包括电压探针和电流探针,所述电压探针和电流探针的外侧设有导向套,所述的电压探针和电流探针均设有两根以上。
【技术特征摘要】
1.一种新型镀膜探针,其特征在于,包括电压探针和电流探针,所述电压探针和电流探 针的外侧设有导向套,所述的电压探针和电流探针均设有两根以上。2...
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