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一种电子软标签的蚀刻设备制造技术

技术编号:6718343 阅读:225 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本实用新型专利技术涉及具有金属导电电路的电子软标签的加工设备,特别是一种电子软标签的蚀刻设备。它主要设置在一封闭的具有较大空间蚀刻室内,该蚀刻室的入口和出口分别设置的进料辊和出料辊;所述的蚀刻室内横向分布成多个传输蚀刻区间,每个传输蚀刻区间内均设置有一组高低位置不同的送料辊,这些高低位置不同的送料辊使料材在传输蚀刻区间内呈斜向传输;所述的传输蚀刻区间内位于料材传输面上下两侧设置有喷射蚀刻介质的喷头。它主要解决现有蚀刻设备容易在喷头喷射蚀刻介质时,在料材上形成凹面或凹槽,以致于在某些部位出现蚀刻不充分或过度蚀刻的技术问题,它有助于提高产品的质量,降低了废料产生的几率。(*该技术在2020年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及具有金属导电电路的电子软标签的加工设备,特别是一种电子软 标签的蚀刻设备。
技术介绍
随着电子技术的发展,具有安全防伪功能的电子软标签逐渐走入到我们的生活 中,它还同时具有灵敏度高、体积小、成本低等优点。如中国专利技术专利说明书(授权公告号CN100423026C)公开了 一种高精度射频软标 签。该标签的基层由一绝缘膜层和在绝缘膜层正面和背面分别贴设的导电层构成,所述的 导电层上具有由电容、导线和解码点构成的解码电路,该电容位于由导线构成的线圈外围, 其特征在于该电容导线和线圈导线的宽度由外向内逐渐减小。该解码电路上的电容导线 的宽度大于线圈导线的宽度,有利于增加电容区的容量,有利于提高标签的精度。该线圈导 线宽度由外向内逐渐减小,有利于增加线圈的绕线圈数,进而增长了线圈导线,使线圈的电 感量得到很大的提高,也有利于提高标签的精度。上述电子软标签导电层上的各种形状和形态的解码电路主要是通过蚀刻工艺形 成的,进一步说就是将酸性蚀刻介质喷洒到具有金属导电层的料材上,通过酸腐蚀化学作 用反映掉不必要的金属导电材料而留下可构成解码电路的金属导电材料,这种蚀刻工艺生 产效率较高,特别适合于生产线上连续地制造形成电子软标签的解码电路。现有的电子软标签的蚀刻生产设备的结构是这样的它主要设置在一封闭的具有 较大空间蚀刻室内,该蚀刻室内水平设置有料材输送线,该料材输送线主要是由多个送料 辊构成,主要作用是配合位于蚀刻室入口和出口外设置的进料辊和出料辊使料材在蚀刻室 内连续水平输送;所述的蚀刻室内位于料材水平传输路径的垂直方向上下两端均分布设置 有多组蚀刻介质喷头,该喷头主要用于喷射出酸性蚀刻介质(如盐酸喷雾),且该喷头的喷 射方向均垂直于料材的水平传输面,这样有利于酸性介质均勻且直接喷送到料材上进行蚀 刻反应。使用中,介质喷头需要设置一定喷射压力,这样才能将蚀刻介质有效喷射在料材上。但是上述蚀刻设备在使用中常常遇到这样的问题,由于介质喷头多呈阵列式点状 分布,且介质喷头所喷射的蚀刻介质具有一定压力,因此当这些介质喷射到水平输送中的 料材上时就容易在料材上形成凹面(如图1),这些凹面很容易积聚蚀刻介质而使该部位过 渡蚀刻。特别是当阵列式排列的相邻两排喷头在料材输送路径上的间距较大时,介质喷射 后就容易在料材上形成垂直于水平输送路径的凹槽,蚀刻介质积聚在凹槽内并顺着凹槽向 两侧流出,最终形成的产品就会出现料材中间不能充分蚀刻,而料材两端出现过度蚀刻的 情况。由此可见,现有的蚀刻设备虽然提高了生产效率,但是蚀刻形成的产品(料材)上仍然 有一些部位不能达到质量要求,造成了废品率较高的情况。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种电子软标签的蚀刻设备,主要解决现有蚀刻设备容易在喷头喷射蚀刻介质时,在料材上形成凹面或凹槽,以致于在某些部位出现蚀刻不充 分或过度蚀刻的技术问题,它有助于提高产品的质量,降低了废料产生的几率。为实现上述目的,本技术是这样实现的。一种电子软标签的蚀刻设备,它主要设置在一封闭的具有较大空间蚀刻室内,该 蚀刻室的入口和出口分别设置的进料辊和出料辊;其特征在于所述的蚀刻室内横向分布 成多个传输蚀刻区间,每个传输蚀刻区间内均设置有一组高低位置不同的送料辊,这些高 低位置不同的送料辊使料材在传输蚀刻区间内呈斜向传输;所述的传输蚀刻区间内位于料 材传输面上下两侧设置有喷射蚀刻介质的喷头。所述的电子软标签的蚀刻设备,其特征在于所述的喷头的喷射方向均垂直于料 材的水平传输面。所述的电子软标签的蚀刻设备,其特征在于所述的每个传输蚀刻区间内均设置 一喷头架,该喷头架的中轴线与料材的斜向传输路径平行且使料材传输路径从喷头架的中 轴位置穿过,该喷头架上下两侧均设置有喷头。所述的电子软标签的蚀刻设备,其特征在于所述的相邻传输蚀刻区间内料材的 传输路径上下朝向不同,所述的上下朝向不同是指前一个输蚀刻区间内料材的传输路径为 由下而上,后一个输蚀刻区间内料材的传输路径为由上而下,或者前一个输蚀刻区间内料 材的传输路径为由上而下,后一个输蚀刻区间内料材的传输路径为由下而上,依次交替排 列;所述的相邻传输蚀刻区间的交接端公用一个送料辊。所述的电子软标签的蚀刻设备,其特征在于所述的各个传输蚀刻区间内的高位 送料辊和低位送料辊均位于同一高度,所述的蚀刻室内分别设置有高位送料辊驱动轴和低 位送料辊驱动轴,所述的驱动轴与送料辊之间通过伞形齿轮结构或涡轮蜗杆结构连接驱动。所述的蚀刻室的各传输蚀刻区间上端均设置有排气支管,所述的排气支管均连接 到一排气管上。所述的电子软标签的蚀刻设备,其特征在于所述的蚀刻室出口外进一步连接浸 泳装置、冲洗装置、灯光检查装置、热风烘干装置。本技术设备的优点是本技术蚀刻设备和蚀刻流水线可以基本消除采用 原有蚀刻设备蚀刻处理后,料材蚀刻不均勻的情况,而且有利于减小设备占地空间,节能环保。附图说明图1是现有电子软标签蚀刻设备使用中蚀刻介质喷头在料材上形成凹面的情况 示意图。图2是本技术电子软标签的蚀刻设备及其蚀刻加工流水线的结构示意图。图3是本技术电子软标签的蚀刻设备中喷头架的结构示意图。具体实施方式请参阅图2、3,本技术公开了一种电子软标签的蚀刻设备。如图所示它主要 设置在一封闭的具有较大空间蚀刻室1内,该蚀刻室1的入口和出口分别设置的进料辊21和出料辊22。所述的蚀刻室1内横向分布成多个传输蚀刻区间,每个传输蚀刻区间内均设 置有一组高低位置不同的送料辊31、32,这些高低位置不同的送料辊31、32使料材在传输 蚀刻区间内呈斜向传输;所述的传输蚀刻区间内位于料材传输面上下两侧设置有喷射蚀刻 介质的喷头33。所述的喷头33的喷射方向最好是垂直于料材的水平传输面,其目的主要是 为了缩短蚀刻介质喷射到料材上的距离。如图3所示,喷头可以采用这样的结构设置所述的每个传输蚀刻区间内均设置 一喷头架30,该喷头架30的中轴线与料材的斜向传输路径平行且使料材传输路径从喷头 架30的中轴位置穿过,该喷头架30上下两侧均设置有喷头33。请继续参阅图1,所述的相邻传输蚀刻区间内料材的传输路径上下朝向不同,所述 的上下朝向不同是指前一个输蚀刻区间内料材的传输路径为由下而上,后一个输蚀刻区间 内料材的传输路径为由上而下,或者前一个输蚀刻区间内料材的传输路径为由上而下,后 一个输蚀刻区间内料材的传输路径为由下而上,依次交替排列;所述的相邻传输蚀刻区间 的交接端公用一个送料辊。通过以上结构,本技术通过分段交底斜向输送料材,有利于 在相同的水平传输长度上增长料材的传输路径,这样也有助于增长蚀刻室内蚀刻处理料材 的长度,这种结构非常有利于缩短蚀刻设备的长度,有利于减小蚀刻生产流水线的占地空 间。本技术的主要设计思路是在蚀刻室1内将料材的输送方向由水平方向改变 为斜向输送方向,其目的主要就是为了解决喷头喷射蚀刻介质时,在料材上形成凹面或凹 槽,以致于在某些部位出现蚀刻不充分或过度蚀刻的技术问题。虽然喷头的喷射压力仍不 可避免地在料材上形成凹面或凹槽,但是这些凹面或凹槽的凹度通常不会很大,而斜向的 料材输送方向有助于积聚的蚀刻介质从凹面或凹槽往低处流动,这样就增加了蚀刻介质的 流动性,避免了由于蚀刻介本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种电子软标签的蚀刻设备,它主要设置在一封闭的具有较大空间蚀刻室(1)内,该蚀刻室(1)的入口和出口分别设置的进料辊(21)和出料辊(22);其特征在于:所述的蚀刻室(1)内横向分布成多个传输蚀刻区间,每个传输蚀刻区间内均设置有一组高低位置不同的送料辊(31、32);所述的传输蚀刻区间内位于料材传输面上下两侧设置有喷射蚀刻介质的喷头(33)。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:黄佳佳
申请(专利权)人:黄佳佳
类型:实用新型
国别省市:31

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