多动向检测对位装置制造方法及图纸

一种多动向检测对位装置，主要由固定平台、运动平台及滑移转动测量单元所构成，所述固定平台其顶面均分设置数移转单元，所述移转单元受驱动后用以提供X、Y轴方向移动或Z轴方向转动，所述移转单元由多组固定件与相对件所构成并以滚动体提供相对运动；所述运动平台固定于移转单元顶端；所述滑移转动测量模组固定于固定平台上，以滑移单元受外力作用进行相对X、Y、Z轴方向滑移，又以转动单元受外力作用进行相对X、Y轴方向倾角调整与Z轴方向偏摆角度调整，另以测量单元提供测量位置或导出所述运动平台位置的一校准功效。（*该技术在2020年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种多动向检测对位装置，特别涉及一种相对X、Y、Z轴方向滑移，与相对X、Y轴方向倾角调整与Z轴方向偏摆角度调整的多动向检测对位装置。
技术介绍
随着高科技时代的光临，各种微小元件的开发及应用已广见于各项产品，也因此微距的量度及感测即成一项重要的关键技术，尤其是现今半导体正蓬勃发展，纳微米技术方兴未艾(半导体制程已进步到0. 13 μ m)，更说明微小「位置、位移测量」即成为不可忽视的重要课题与技术，更牵动未来精密工业的发展。现有制造印刷电路板的方法，其步骤在于，以一电阻材料层覆盖所述印刷电路板的导体层以及在于通过一现有方法曝光所述电阻层，使所述所欲的导体轨迹的形状可于所述印刷电路板上获得。另一较广泛的现有技术在于制造电路板中，所述电阻层通过一激光光束的撞击而被局部地印刷。所述激光光束撞击于所述平板上的位置以一般方法。而在一般半导体元件的制程中，通常需要在基底上迭覆数层至数十层电路图案， 因此，必须使欲曝光的电路图案的影像，与晶圆上已形成的电路图案对准。传统上，具有广大面积的光源可用以确保水平校正，然而近来，亦可以水平校正控制系统来确认两个焦距或两个以上的焦距。在最近的半导体技术中，半导体元件需提高其积集度，就记忆体与非记忆体的领域而言，堆迭结构已常被用于提高其积集度。当积集度增加时，堆迭结构亦随之变得复杂。 在制作具有复杂的堆迭结构的半导体积体电路时，曝光装置必须能够克服制作复杂的堆迭结构，以及于进行图案化时的困难，使其仍具有相同的焦距。若曝光装置在定义图案时，分别具有不同的焦距，则会形成偏差的图案，导致无法进行半导体元件的制作。用以制作具有堆迭结构的半导体元件的曝光装置，采用一种对焦系统，凭借电容器或激光对晶圆表面进行对焦。在传统的对焦方法和系统中，在制作复杂的堆迭结构时，其所进行的步骤将会产生偏差的图案。尤其是凭借激光确认两个焦距或两个以上的焦距的对焦系统，由于在特定区域内无法得到相同的焦距，导致测量到不对称或不正确的焦距，所以在制作堆迭结构时会发生问题。
技术实现思路
本技术的目的即在于提供一种能进行稳定地对焦及水平校正的多动向检测对位装置。本技术的次一目的在于提供一种精准的测量运动平台间的绝对与相对位置， 以达到校验的目的并提高机台的精度及功能掌控的多动向检测对位装置。本技术的另一目的在于提供一种测量单元以光电转换方式、配合电脑的快速运算能力及变换弹性，减少人为误差并增加精确度的多动向检测对位装置。可达成上述技术目的的多动向检测对位装置，包括有固定平台，其顶面均分设置多个移转单元，所述移转单元受驱动后用以提供X、Y 轴方向移动或Z轴方向转动，所述移转单元为由数组固定件与相对件所构成并以滚动体提供相对运动；运动平台，固定于移转单元顶端；滑移转动测量模组，固定于固定平台，以滑移单元受外力作用进行相对X、Y、Z轴方向滑移，又以转动单元受外力作用进行相对X、Y轴方向倾角调整与Z轴方向偏摆角度调整，另以测量单元提供测量位置或导出所述运动平台位置的一校准功效。所述的多动向检测对位装置，其中，提供X、Y轴方向移动的相对件的底面设有一凹槽部，而固定件的顶部凸设一能够与凹槽部相对应配合的组接部，供所述凹槽部内部侧面与相对组接部的侧面上设置有滚动体，以提供相对件与固定件间相对移位。所述的多动向检测对位装置，其中，提供Z轴方向转动的固定件的中心内部具有一容置空间，该容置空间供一相对件容设其中，再以一上环盖套置于所述相对件上并组固于固定件顶部。所述的多动向检测对位装置，其中，所述固定件容置空间的周壁设有环槽，所述相对件的周缘外部对应设有一凹槽部，与所述上环盖其环心周围内部形成一限位部，亦共同组构成一滚动空间，该滚动空间供多个滚动体容纳其中，使所述相对件能够相对于所述固定件转动。所述的多动向检测对位装置，其中，更包含一含有马达的驱动单元连接所述移转单元，所述驱动单元提供受驱动后移动所述移转单元，所述驱动单元为以滑动件与所述移转单元连接，供以驱动件驱动其上的滑动件连动移转单元以产生X、Y轴方向移动值。所述的多动向检测对位装置，其中，所述滑移单元具有一滑座、若干滑块、一推移组件及一限位组件；所述多个滑块滑接于所述固定平台与所述滑座间，使所述滑座可进行相对于固定平台的方向往复滑移，所述推移组件用以推动所述滑座进行方向的滑移，所述限位组件用以限制所述滑座受推动的滑移量。所述的多动向检测对位装置，其中，所述转动单元具有一第一枢板、一前后倾角螺杆、一第二枢板、一左右倾角螺杆、一终端板及一左右偏摆螺杆；所述第一枢板枢接于所述连接件上，所述前后倾角螺杆螺纹连接于连接件上而受外力作用而直线运动，以推动所述第一枢板进行前后倾斜角度的调整，所述第二枢板枢接于所述第一枢板上，所述左右倾角螺杆螺纹连接于所述第二枢板上而受外力作用而直线运动，以推动所述第二枢板进行左、 右倾斜角度的调整者，所述终端板枢接于所述第二枢板上，所述左右偏摆螺杆螺纹连接于所述第二枢板上而受外力作用而直线运动，以推动所述终端板进行左右偏摆角度的调整。所述的多动向检测对位装置，其中，所述转动单元更具有一前后倾角限位组件，所述前后倾角限位组件连接于所述连接件与所述第一枢板间，用以限制所述第一枢板进行前后倾角调整的位移量。 所述的多动向检测对位装置，其中，所述转动单元更具有一左右倾角限位组件，所述左右倾角限位组件连接于所述第一枢板与所述第二枢板间，用以限制所述第二枢板进行左、右倾斜角度调整的位移量。 所述的多动向检测对位装置，其中，所述转动单元更具有一左右偏摆限位组件，所述左右偏摆限位组件连接于所述第二枢板与所述终端板间，用以限制所述终端板进行左右偏摆角度的位移量。附图说明图1为本技术多动向检测对位装置的立体组合示意图；图2为所述多动向检测对位装置的立体示意图；图3为图2的A部分的局部放大示意图；图4为图2的B部分的局部放大示意图；图5为图2的C部分的局部放大示意图；图6为滑移单元与转动单元的左侧立体示意图；图7为滑移单元与转动单元的右侧立体示意图；图8为滑移单元与转动单元的左底侧立体示意图；图9为滑移单元与转动单元的右底侧立体示意图；图10为滑移单元与转动单元的右侧示意图；其显示滑移动作图11为滑移单元与转动单元的左侧示意图；其显示转动动作图12为滑移单元与转动单元的底侧示意图；图13为滑移单元与转动单元的前侧示意图。具体实施方式请参阅图1至图5，本技术所提供的多动向检测对位装置，主要包括有一固定平台1、一运动平台3以及一滑移转动测量模组所构成。所述固定平台1的顶面均分设置多个移转单元2，所述移转单元2受驱动后用以提供X、Y轴方向移动、或Z轴方向转动，所述移转单元2由多组固定件21与相对件22所构成并以滚动体提供相对运动；所述移转单元2设置于固定平台1上提供Χ、Υ轴方向移动，提供受驱动后具有沿X轴方向移动、以及沿一与X轴方向垂直的Y轴方向移动的装置；其中所述移转单元2沿方向移动的装置为一固定件21，及沿固定件21移动的相对件22，且所述固定件21与相对件22间以滚动体提供相对平移运动。所述移转单元2的固定件21于其顶面凸设一概呈鸠尾状的组接部，而相对件22的底面则对应凹设一可与其配合的凹槽部，则所述相对件22能顺着组接部的纵向移本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种多动向检测对位装置，其特征在于，包括：固定平台，其顶面均分设置多个移转单元，所述移转单元受驱动后用以提供Ｘ、Ｙ轴方向移动或Ｚ轴方向转动，所述移转单元由多组固定件与相对件所构成并以滚动体提供相对运动；运动平台，固定于移转单元顶端；滑移转动测量模组，固定于固定平台上，以滑移单元受外力作用进行相对Ｘ、Ｙ、Ｚ轴方向滑移，又以转动单元受外力作用进行相对Ｘ、Ｙ轴方向倾角调整与Ｚ轴方向偏摆角度调整，另以测量单元提供测量位置或导出所述运动平台位置的一校准功效。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：邱毓英，范嘉敏，王肇扬，
申请(专利权)人：邱毓英，
类型：实用新型
国别省市：71