蒸发源和具有该蒸发源的沉积设备制造技术

本发明专利技术公开了一种蒸发源。在一个实施例中，蒸发源包括：i)熔罐，在其一侧是敞开的并被构造为储存沉积材料；ii)喷嘴部分，位于熔罐的敞开侧上并包括多个喷嘴，其中，每个喷嘴具有被构造为喷射穿过喷嘴的沉积材料的侧壁，侧壁具有倾斜部分。蒸发源还包括：i)加热器，被构造为加热熔罐；ii)外壳，被构造为容纳熔罐、喷嘴部分和加热器，其中，喷嘴部分具有小于大约60°的最大喷射角。

【技术实现步骤摘要】

所描述的技术总体上涉及用于制造平板显示器的蒸发源和具有该蒸发源的沉积 设备。
技术介绍
由于平板显示器的轻的重量和薄的轮廓，它们已经替代了阴极射线管显示器。这 样的显示器的典型示例包括液晶显示器(LCD)和有机发光二极管显示器(OLED)。OLED通 常具有较好的亮度和视角的特性，并且不需要背光，从而可以将它们实现为超薄显示器。这些OLED利用通过阴极和阳极注入到有机薄膜中的电子和空穴复合而形成激子 的现象来显示图像，因此通过激子的去激作用而释放的能量来发射具有特定波长的光。通常，通过光刻方法或沉积方法在由例如玻璃、不锈钢或合成树脂形成的基板上 选择性地形成阴极、阳极和有机薄膜来制造OLED显示器。在沉积方法中，沉积材料蒸发或 升华、在真空下沉积并被选择性地蚀刻。可选择地，使用按预定的图案具有多个缝隙的掩模 组件来选择性地沉积沉积材料。光刻方法通常需要将光致抗蚀剂施加到预定区域，然后对施加的光致抗蚀剂执行 湿蚀刻或者干蚀刻。在去除或蚀刻光致抗蚀剂的过程中，湿气会渗透。对于在湿气存在时 发生降解的材料(例如，有机薄膜)而言，沉积是用来形成薄膜的主要方法。
技术实现思路
一个专利技术方面在于一种用于制造平板显示器的沉积喷嘴具有使阴影效应最小化 的结构的蒸发源和的具有该蒸发源的沉积设备，实现了平板显示器的层的基本均勻的沉 积。另一方面在于一种蒸发源，该蒸发源包括熔罐，在其一侧是敞开的并储存沉积材 料；喷嘴部分，位于熔罐的敞开侧上并具有多个喷嘴，每个喷嘴在喷嘴的内壁的预定区域上 倾斜；加热器，加热熔罐；外壳，容纳熔罐、喷嘴部分和加热器。喷嘴部分具有小于60°的最 大喷射角。另一方面在于一种沉积设备，该沉积设备包括处理室；蒸发源，位于处理室的一 侧上并包括在喷嘴的内壁的预定区域上倾斜的至少一个喷嘴；基板固定器，设置成与蒸发 源相对；掩模组件，设置在基板固定器和蒸发源之间并具有多个缝隙，每个缝隙具有以第一 倾斜角向掩模组件的表面倾斜的侧壁。另一方面在于一种用于制造平板显示器的蒸发源，该蒸发源包括熔罐，在其一侧 是敞开的并被构造为储存沉积材料；喷嘴部分，位于熔罐的敞开侧上并包括多个喷嘴，其 中，每个喷嘴具有被构造为喷射穿过喷嘴的沉积材料的侧壁，所述侧壁具有倾斜部分；加热 器，被构造为加热熔罐；外壳，被构造为容纳熔罐、喷嘴部分和加热器，其中，喷嘴部分具有 小于大约60°的最大喷射角。在上述源中，熔罐沿一个方向延伸并包括划分熔罐的内部空间的至少一个分隔件。在上述源中，至少一个分隔件包括形成在分隔件的上部的槽。 在上述源中，侧壁具有比倾斜部分更靠近熔罐的非倾斜部分，其中，倾斜部分具有满足下式的高度(h)权利要求1.一种蒸发源，用于制造平板显示器，所述蒸发源包括熔罐，在其一侧是敞开的并被构造为储存沉积材料；喷嘴部分，位于熔罐的敞开侧上并包括多个喷嘴，其中，每个喷嘴具有被构造为喷射穿 过喷嘴的沉积材料的侧壁，侧壁具有倾斜部分；加热器，被构造为加热熔罐；外壳，被构造为容纳熔罐、喷嘴部分和加热器，其中，喷嘴部分具有小于60°的最大喷射角。2.如权利要求1所述的蒸发源，其中，所述熔罐沿一个方向延伸并包括划分熔罐的内 部空间的至少一个分隔件。3.如权利要求2所述的蒸发源，其中，所述至少一个分隔件包括形成在分隔件的上部 的槽。4.如权利要求1所述的蒸发源，其中，侧壁具有比所述倾斜部分更靠近熔罐的非倾斜 部分，其中，倾斜部分具有满足下式的高度h :ηtan(90-—)tan^h=-j-Rtan(90-y)-tan^其中，θ是喷嘴部分的最大喷射角，R是喷嘴的宽度。5.如权利要求1所述的蒸发源，其中，侧壁具有比倾斜部分更靠近熔罐的非倾斜部分， 其中，倾斜部分具有顶部和比顶部更靠近熔罐的底部，倾斜部分逐渐地倾斜，使得顶部的内 部宽度大于底部的内部宽度，倾斜部分的底部的厚度t满足下式1 ~atan(90-y)—tan<9其中，θ是喷嘴部分的最大喷射角，R是喷嘴的宽度，厚度t与侧壁的非倾斜部分的厚 度相同。6.如权利要求1所述的蒸发源，其中，侧壁具有比倾斜部分更靠近熔罐的非倾斜部分，其中，倾斜部分具有满足下式的高度h和厚度t :h θ y = tan(90-y)其中，θ是喷嘴部分的最大喷射角，倾斜部分具有顶部和比顶部更靠近熔罐的底部，倾 斜部分逐渐地倾斜使得顶部的内部宽度大于底部的内部宽度，t是倾斜部分的底部的厚度， 该厚度与侧壁的非倾斜部分的厚度相同。7.如权利要求1所述的蒸发源，其中，储存在所述熔罐中的沉积材料包括有机材料。8.如权利要求1所述的蒸发源，其中，所述熔罐的数量大于1。9.如权利要求1所述的蒸发源，其中，所述侧壁具有比倾斜部分更靠近熔罐的非倾斜 部分，非倾斜部分的高度高于倾斜部分的高度。10.一种沉积设备，用于制造平板显示器，所述沉积设备包括 蒸发源，被构造为容纳和喷射沉积材料；掩模组件，具有多个缝隙并被构造为通过缝隙将沉积材料沉积到基板上，其中，每个缝隙具有以第一倾斜角向掩模组件的表面倾斜的侧壁；基板固定器，被构造为固定基板并定位成相对于掩模组件与蒸发源相对； 处理室，被构造为容纳蒸发源、基板固定器和掩模组件， 其中，蒸发源具有小于第一倾斜角的最大喷射角。11.如权利要求10所述的沉积设备，其中，蒸发源的最大喷射角小于60°。12.如权利要求10所述的沉积设备，其中，所述蒸发源包括 熔罐，在其一侧是敞开的并被构造为储存沉积材料；喷嘴部分，位于熔罐的敞开侧上并具有多个喷嘴，其中，每个喷嘴具有被构造为通过喷 射穿过喷嘴的沉积材料的侧壁，所述侧壁具有i)倾斜部分和ii)非倾斜部分，非倾斜部分 比倾斜部分更靠近熔罐；加热器，被构造为加热熔罐；外壳，被构造为容纳熔罐、喷嘴部分和加热器。13.如权利要求12所述的沉积设备，其中，倾斜部分具有满足下式的高度h β14.如权利要求12所述的沉积设备，其中，倾斜部分具有顶部和比顶部更靠近熔罐的 底部，其中，倾斜部分逐渐地倾斜，使得顶部的内部宽度大于底部的内部宽度，倾斜部分的 底部的厚度t满足下式15.如权利要求12所述的沉积设备，其中，倾斜部分具有满足下式的高度h和厚度t16.如权利要求10所述的沉积设备，其中，所述沉积设备还包括被构造为按预定的方 向互换蒸发源的传送单元。17.一种蒸发源，用于制造平板显示器，所述蒸发源包括容器，被构造为储存沉积材料；喷嘴，与容器流体连通，其中，喷嘴具有被构造为将沉积材料喷射到要被沉积的基板 上的侧壁，侧壁具有倾斜部分，倾斜部分具有顶部和比顶部更靠近容器的底部，倾斜部分的 顶部相对于底部形成倾斜角，使得顶部的内部宽度大于底部的内部宽度，所述倾斜角大于 60°且小于90° ；外壳，被构造为容纳容器和喷嘴。18.如权利要求17所述的蒸发源，其中，喷嘴具有小于60°的最大喷射角。19.如权利要求17所述的蒸发源，其中，侧壁包括比倾斜部分更靠近容器的非倾斜部 分，其中，倾斜部分的底部的厚度t满足下式20.如权利要求17所述的蒸发源，其中，侧壁包括比倾斜部分更靠近容器的非倾斜部 分，其中，倾斜部分具有满足下式的高度h和厚度t 全文摘要本专利技术公开了一种蒸发源。在一个实施例中，蒸发源包括i)熔罐，在其一侧是敞开的并被构造为储存沉积材料；ii)喷嘴部分，位于熔罐的敞本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种蒸发源，用于制造平板显示器，所述蒸发源包括：熔罐，在其一侧是敞开的并被构造为储存沉积材料；喷嘴部分，位于熔罐的敞开侧上并包括多个喷嘴，其中，每个喷嘴具有被构造为喷射穿过喷嘴的沉积材料的侧壁，侧壁具有倾斜部分；加热器，被构造为加热熔罐；外壳，被构造为容纳熔罐、喷嘴部分和加热器，其中，喷嘴部分具有小于６０°的最大喷射角。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：崔丞镐，郑石源，明承镐，卢喆来，
申请(专利权)人：三星移动显示器株式会社，
类型：发明
国别省市：KR