本发明专利技术提供一种含有三层复合减反层，具有低反射以及极强高遮阳性能的中低透三银低辐射镀膜玻璃及镀制工艺，该产品自玻璃基板向外的结构层依次为：玻璃/复合减反层（1）+银层（1）+保护层（1）/复合减反层（2）+银层（2）+保护层（2）+复合减反层（3）+银层（3）+保护层(3)+电介质层（1）；采用真空磁控溅射镀膜工艺，优点是，具有极强的红外线反射能力，膜层表面辐射率低，实现可见光的中低透过率和低反射率等优良特性的玻璃的同时，获得比传统中低透双银低辐射膜更高的遮阳性能和更低的反射率。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种镀有三层复合减反层，具有低反射率和高效遮阳性能的中低 透三银低辐射镀膜玻璃及生产工艺。
技术介绍
2007年以来，两家玻璃巨头PPG和Cardinal先后推出三银低辐射镀膜玻璃，将节 能镀膜玻璃产品的性能推向新的高度。市场上现有镀有双银层的中低透低反射高遮阳低辐射镀膜玻璃，其遮阳性能已经 不能满足高端玻璃幕墙的需要，在一些中低可见光透射外光的建筑上，对遮阳系数提出了 进一步的要求。但是如果通过简单的增加银层厚度甚至增加到三层银层来实现遮阳性能的 提升，往往反射值得不到控制，并且外观也会呈现暖色调，非但通不过有关的光污染法案， 其色调更是无法得到客户的认可。
技术实现思路
本专利技术目的，是提供一种含有三层复合减反层的高遮阳三银低辐射镀膜玻璃，该 玻璃的层结构是，在玻璃基板镀制包含有三层复合减反层所分隔的三层银层结构，各膜层 结构，自玻璃基板向外依次为玻璃和复合减反层(1) +银层(1) +保护层(1)和复合减反层(2 ) +银层(2 ) +保护层 (2) +复合减反层(3) +银层(3) +保护层( +电介质层(1)；各膜层厚度为 电介质层(1)为Si3N4,膜层厚度为 IOnm-IOOnm; 银层(1)、( 2 )、( 3 )为Ag，膜层厚度分别为5nm-50nm ； 复合减反层(1)、(3)为SiR+ZnO，厚度分别为IOnm-IOOnm； 复合减反层(2)为SiR+ZnO，厚度为IOnm-IIOnm； 保护层(1)、(2)、(3)为NiCrOx，膜层厚度分别1歷_50歷。其各膜层的镀制工艺是复合减反层(1)、(2)、(3):通过交流阴极的Si圆靶在氩氧氛围中溅射，氩氧比例保持 在1 :1. 2 ；并在SiO2上镀有由交流阴极的陶瓷锌靶溅射的ZnO层，其氩氧比例保持在6 7 ； 银层(1)、( 2 )、( 3 )通过直流平靶在氩气氛围中溅射；保护层(1 )、(2)通过直流平靶在氩氧气氛围中溅射镍铬合金，其中Ni Cr=SO 20 ；氩 氧比例保持在203；电介质层(1):通过交流阴极的Si圆靶在1 :1. 2氩氮氛围中溅射；硅铝合金之比为 Si:Al=90:10。本专利技术优点是，具有超出传统双银低辐射膜的红外线反射能力，膜层表面辐射率 低遮阳系数更低且反射率低等优良特性的玻璃。与传统的低辐射双银玻璃相比，本次开发的低辐射三银玻璃由于采取了三层复合 减反层和三层银层的复杂工艺，使得辐射率较之前者大大降低，从而实现玻璃的遮阳性能的进一步提高，光选择性范围加大，而且由于复合了三层减反层，使得产品保留了本身低辐 射率的性能上，吸收率比之双银产品有相当程度的加强，可以按客户要求在同时满足中低 透射率和低遮阳系数的前提下，有效抑制反射率，使其能符合目前很多城市已出台的限制 玻璃的可见光反射率法规，避免了常见的低遮阳系数和低透射高反射之间的矛盾。具体实施例方式本专利技术用平板玻璃双端连续式镀膜机，包括12个交流阴极，6个直流阴极，采用 下表列出的工艺参数，使用10个交流双靶，6个直流单靶，共16个靶位进行生产，制出本发 明三银复合结构的低反射高遮阳低辐射镀膜玻璃，其工艺参数和靶的位置列表如下权利要求1.一种含有三层复合减反层的高遮阳三银低辐射镀膜玻璃，其特征在于在玻璃基 板镀制包含有三层复合减反层所分隔的三层银层结构，各膜层结构，自玻璃基板向外依次 为玻璃和复合减反层(1) +银层(1) +保护层(1)和复合减反层(2 ) +银层(2 ) +保护层 (2) +复合减反层(3) +银层(3) +保护层( +电介质层(1)；各膜层厚度为电介质层(1)为Si3N4,膜层厚度为 IOnm-IOOnm; 银层(1)、( 2 )、( 3 )为Ag，膜层厚度分别为5nm-50nm ；复合减反层(1)、(3)为SiR+ZnO，厚度分别为IOnm-IOOnm；复合减反层(2)为SiR+ZnO，厚度为IOnm-IIOnm； 保护层(1)、(2)、(3)为NiCrOx，膜层厚度分别1歷_50歷。2.按权利要求1所述含有三层复合减反层的高遮阳三银低辐射镀膜玻璃工艺，其各膜 层的镀制工艺是复合减反层(1)、(2)、(3):通过交流阴极的Si圆靶在氩氧氛围中溅射，氩氧比例保持 在1 :1. 2 ；并在SiO2上镀有由交流阴极的陶瓷锌靶溅射的ZnO层，其氩氧比例保持在6 7 ； 银层(1)、( 2 )、( 3 )通过直流平靶在氩气氛围中溅射；保护层(1 )、(2)通过直流平靶在氩氧气氛围中溅射镍铬合金，其中Ni Cr=SO 20 ；氩 氧比例保持在203；电介质层(1)通过交流阴极的Si圆靶在1 :1. 2氩氮氛围中溅射；硅铝合金之比为 Si:Al=90:10。全文摘要本专利技术提供一种含有三层复合减反层，具有低反射以及极强高遮阳性能的中低透三银低辐射镀膜玻璃及镀制工艺，该产品自玻璃基板向外的结构层依次为玻璃/复合减反层(1)+银层(1)+保护层(1)/复合减反层(2)+银层(2)+保护层(2)+复合减反层(3)+银层(3)+保护层(3)+电介质层(1)；采用真空磁控溅射镀膜工艺，优点是，具有极强的红外线反射能力，膜层表面辐射率低，实现可见光的中低透过率和低反射率等优良特性的玻璃的同时，获得比传统中低透双银低辐射膜更高的遮阳性能和更低的反射率。文档编号C03C17/36GK102092959SQ201010580409公开日2011年6月15日 申请日期2010年12月9日 优先权日2010年12月9日专利技术者吴斌, 徐佳霖, 李志军, 杨国浩, 沈国全, 陈海嵘 申请人:上海耀华皮尔金顿玻璃股份有限公司, 上海耀皮工程玻璃有限公司, 上海耀皮建筑玻璃有限公司, 天津耀皮工程玻璃有限公司本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种含有三层复合减反层的高遮阳三银低辐射镀膜玻璃，其特征在于：在玻璃基板镀制包含有三层复合减反层所分隔的三层银层结构，各膜层结构，自玻璃基板向外依次为： 玻璃和复合减反层（１）＋银层（１）＋保护层（１）和复合减反层（２）＋银层（２）＋保护层（２）＋复合减反层（３）＋银层（３）＋保护层（３）＋电介质层（１）；各膜层厚度为： 电介质层（１）为Ｓｉ↓［３］Ｎ↓［４］，膜层厚度为 １０ｎｍ－１００ｎｍ； 银层（１）、（２）、（３）为Ａｇ，膜层厚度分别为５ｎｍ－５０ｎｍ； 复合减反层（１）、（３）为ＳｉＯ↓［２］＋ＺｎＯ，厚度分别为１０ｎｍ－１００ｎｍ； 复合减反层（２）为ＳｉＯ↓［２］＋ＺｎＯ，厚度为１０ｎｍ－１１０ｎｍ； 保护层（１）、（２）、（３）为ＮｉＣｒＯｘ，膜层厚度分别１ｎｍ－５０ｎｍ。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：吴斌，李志军，徐佳霖，沈国全，陈海嵘，杨国浩，
申请(专利权)人：上海耀华皮尔金顿玻璃股份有限公司，上海耀皮工程玻璃有限公司，上海耀皮建筑玻璃有限公司，天津耀皮工程玻璃有限公司，
类型：发明
国别省市：31
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。