一种单晶炉用三瓣锅制造技术

技术编号:6676596 阅读:251 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本实用新型专利技术提供了一种单晶炉用三瓣锅,包括锅体,所述锅体包括三瓣块体,所述三瓣块体接口处连接成一体形成石墨坩埚,其中,所述三瓣块体为一次压制成型的扇形构件,由于所述三瓣块体为一次压制成型的扇形构件,使三瓣块体的厚度均匀,使产品在焙烧和石墨化工艺中,避免由于内外温差过大,而产生内裂﹑在浸渍工艺中,防止由于壁厚较大而浸渍不均匀,从而影响三瓣锅的使用性能;且本实用新型专利技术结构简单、成本低廉。?(*该技术在2020年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

一种单晶炉用三瓣锅
本技术涉及一种坩埚,特别涉及一种单晶炉用三瓣埚,属于石墨坩埚的技 术领域。
技术介绍
随着社会的发展,全球越来越重视节能减排。太阳能电池是新能源,由于其具 有取之不尽及环保的特点,而被广泛关注。由于多晶硅的光电转化率较单晶硅低,因此 需要在石墨热场中直拉转换。石墨热场是硅材料成晶的最重要的条件之一,单晶炉更是 如此,热场的梯度分布直接影响着能不能拉出单晶,以及拉制单晶的质量好坏。在制作 单晶硅时,需要用到三瓣锅,现有技术中三瓣锅,包括锅体,其中,所述锅体包括三瓣块 体,所述三瓣块体在接口处连接成一体,组成石墨坩埚,该结构的三瓣坩埚,采用等静压 圆棒或静压碗型料加工而成的,加工时,要先将圆棒分体成三瓣体,再将实体的三瓣体 加工时空心体,因此,加工比较麻烦,且成本都比较高;另外,使产品在焙烧和石墨化工 艺中,容易由于内外温差过大,而产生内裂;在浸渍工艺中,由于原料为圆柱体,壁厚 较大造成浸渍不均勻,影响单晶炉的使用性能。
技术实现思路
本技术所要解决的技术问题是提供一种成本低廉、加工方便且结构简单的单晶炉用三瓣锅。为了解决上述技术问题,本技术一种单晶炉用三瓣锅,包括锅体,所述锅 体包括三瓣块体,所述三瓣块体接口处连接成一体形成石墨坩埚,其中,所述三瓣块体 为一次压制成型的扇形构件。上述一种单晶炉用三瓣锅,其中,所述扇形构件两侧边之间的夹角α为 120°。本技术可实现以下有益效果1、由于所述三瓣块体为一次压制成型的扇形构件,使三瓣块体的厚度均勻,使 产品在焙烧和石墨化工艺中,避免由于内外温差过大,而产生内裂、在浸渍工艺中,防 止由于壁厚较大而浸渍不均勻,从而影响三瓣锅的使用性能;且本技术结构简单、 成本低廉。2、由于所述扇形构件两侧边之间的夹角为120°,加工方便,且连接时操作比较简单。附图说明图1是本技术的结构示意图。具体实施方式以下结合附图对本技术作进一步说明。如图所示,为了解决上述技术问题,本技术一种单晶炉用三瓣锅,包括锅 体1,所述锅体,包括三瓣块体11,所述三瓣块体11接口处通过粘接或其他方式连接成 一体,形成石墨坩埚,所述三瓣块体11为一次压制成型的扇形构件,由于所述三瓣块体 11为一次压制成型的扇形构件,使三瓣块体11的厚度均勻,使产品在焙烧和石墨化工艺 中,避免由于内外温差过大,而产生内裂、在浸渍工艺中,防止由于壁厚较大而浸渍不 均勻,从而影响三瓣锅的使用性能;且本技术结构简单、成本低廉。所述扇形构件 两侧边之间的夹角α不受限制,本实施例中,为了加工方便,将其设计为120°。综上所述,本技术结构简单、成本低廉,且在同样成型设备前提下,可以 生产比圆柱体截面面积大3倍的大规格圆柱体石墨制品,另外,任意三瓣都可加工成一 个三瓣锅,一瓣损坏,可替换,从而大大降低了使用企业的成本。本技术并不限于上述实施例描述的范围,凡采用等效替换的手段获得的技 术方案均在本技术保护的范围内。权利要求1.一种单晶炉用三瓣锅,包括锅体,所述锅体包括三瓣块体,所述三瓣块体接口处 连接成一体形成石墨坩埚,其特征在于,所述三瓣块体为一次压制成型的扇形构件。2.如权利要求1所述一种单晶炉用三瓣锅,其特征在于,所述扇形构件两侧边之间的 夹角α为120°。专利摘要本技术提供了一种单晶炉用三瓣锅,包括锅体,所述锅体包括三瓣块体,所述三瓣块体接口处连接成一体形成石墨坩埚,其中,所述三瓣块体为一次压制成型的扇形构件,由于所述三瓣块体为一次压制成型的扇形构件,使三瓣块体的厚度均匀,使产品在焙烧和石墨化工艺中,避免由于内外温差过大,而产生内裂﹑在浸渍工艺中,防止由于壁厚较大而浸渍不均匀,从而影响三瓣锅的使用性能;且本技术结构简单、成本低廉。文档编号C30B15/10GK201809476SQ20102056302公开日2011年4月27日 申请日期2010年10月15日 优先权日2010年10月15日专利技术者朱朝平 申请人:镇江辉煌电子有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种单晶炉用三瓣锅,包括锅体,所述锅体包括三瓣块体,所述三瓣块体接口处连接成一体形成石墨坩埚,其特征在于,所述三瓣块体为一次压制成型的扇形构件。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:朱朝平
申请(专利权)人:镇江辉煌电子有限公司
类型:实用新型
国别省市:32

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1