一种首饰制造技术

本实用新型专利技术公开一种雕刻有图案的首饰，其包括有一首饰本体，所述首饰本体上需要雕刻图案的表面处形成有底纹，所述底纹由多个间隔排列的形成于所述首饰本体表面处的凹槽构成，图案雕刻于所述底纹之上。先于首饰本体需雕刻图案的表面处制作底纹，再于该底纹上雕刻出所要的图案，而由于底纹为多个形成于首饰本体表面处的凹槽间隔排列而构成，首饰佩戴时，可大幅度减少雕刻于其上的图案与人体的直接接触，有效避免发生磨擦而划花图案，从而保持图案的清晰。（*该技术在2020年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种首饰，尤其指一种贵金属首饰。
技术介绍
对于诸如颈饰、手饰等之类的贵金属首饰，往往在其本体的外面处雕刻有诸如佛 像、吉祥字句等图案，一者，可以增加首饰的整体美观度，二者，可以体现祈福驱邪的意愿。 目前，首饰图案的制作，多于首饰本体的表面直接雕刻而成，即，首先处理首饰本体的表面， 使其较为光滑，然后通过雕花机或手工于该表面处雕刻出所需的图案。由于图案直接形成 于首饰本体的表面，在首饰佩戴的过程中，图案完全直接跟人体相接触，容易发生磨擦而划 花首饰表面的图案，导致其不清晰，进而影响首饰的美观。
技术实现思路
本技术在于解决现有首饰其表面处的图案容易划花而导致图案不清晰的技 术问题，提供一种表面处的图案不易划花、可保持图案清晰的首饰。为解决上述技术问题，本技术采用如下技术方案一种雕刻有图案的首饰，包 括有一首饰本体，所述首饰本体上需要雕刻图案的表面处形成有底纹，所述底纹由多个间 隔排列的形成于所述首饰本体表面处的凹槽构成，图案雕刻于所述底纹之上。上述雕刻有图案的首饰中，相邻两凹槽之间的间隔相等。上述雕刻有图案的首饰中，所述凹槽的槽深为0. 03 0. 08mm,宽度为0. 04 0. 11_，相邻两凹槽的间隔为0. 02 0. 14_。上述雕刻有图案的首饰中，所述凹槽为截面呈矩形的结构。上述雕刻有图案的首饰中，所述凹槽为截面呈等边三角形的结构。上述雕刻有图案的首饰中，所述凹槽为截面呈梯形的结构。上述雕刻有图案的首饰中，所述首饰本体为黄金材料制备。上述雕刻有图案的首饰中，所述首饰本体为空心棱柱状。本技术的有益技术效果在于先于首饰本体需雕刻图案的表面处制作底纹， 再于该底纹上雕刻出所要的图案，而由于底纹为多个形成于首饰本体表面处的凹槽间隔排 列而构成，首饰佩戴时，可大幅度减少雕刻于其上的图案与人体的直接接触，有效避免发生 磨擦而划花图案，从而保持图案的清晰。附图说明图1是本技术的结构示意图。图2是本技术的底纹的结构示意图。图3是本技术另一实施例的底纹的结构示意图。图4是本技术再一实施例的底纹的结构示意图。图5是本技术的制造工艺流程图。具体实施方式为使本领域的普通技术人员更加清楚地理解本技术的目的、技术方案和优 点，以下结合附图和实施例对本技术做进一步的阐述。参考图1所示，本技术所公开的首饰包括有一首饰本体10，该首饰本体10可 采用黄金、钼金等贵金属材料制备。在本实施例中，以一空心六棱柱状的首饰本体为例对本 技术的技术方案进行详细的说明，但显而易见地，本技术也可应用于诸如片状、球 状等之类其他结构的首饰本体之上。于该首饰本体10的需要雕刻图案的表面处形成有底 纹20，再于该底纹20上雕刻诸如佛像、神像、吉祥文字等之类的图案30。图案30的制作， 可通过雕花机进行，也可以通过人工雕刻进行。结合图2所示，于首饰本体10的外表面处制出多个凹槽200，多个凹槽200间隔相 等排列而形成底纹20。图2所示出的实施例中，凹槽200设计为截面为矩形的结构，槽深D 为0. 06mm,宽度W为0. 08mm，相邻两凹槽200之间的间隔I为0. 12mm。如图3所示，在此实施例中，形成于首饰本体10的外表面处的凹槽200设计为截 面呈等边三角形的结构，槽深D为0. 07mm,宽度W为0. Imm,而相邻两凹槽200之间的间隔 则为 0. 03mm。参阅图4，此实施例中，形成于首饰本体10的外表面处的凹槽200呈截面为梯形的 结构，槽深D为0. 04mm,宽度W为0. 06mm，而相邻两凹槽200之间的间隔则为0. 05mm。在本技术所公开的技术方案中，先于首饰本体10需雕刻图案表面处制作底 纹20，再于该底纹20上雕刻出所要的图案30，而由于底纹20为多个形成于首饰本体10表 面处的凹槽200间隔排列而构成，首饰佩戴时，可大幅度减少雕刻于其上的图案30与人体 的直接接触，有效避免发生磨擦而划花图案30，从而保持图案30的清晰。下面结合图5所示，以说明本技术所涉及的首饰的制作工艺。制作首饰坯体(步骤S01)，可采用现有的工艺制造出所需的首饰坯体。以加工上 述空心六棱柱的首饰本体为例，首先，将金条压制成厚度适当的薄片，并根据预定的尺寸裁 切成长方形薄片；然后，将长方形薄片卷制成空心管；最后，通过成型模具将空心管拉制成 空心六棱柱状，根据所需要的长度切割而成空心六棱柱状的首饰坯体。于首饰坯体上加工底纹(步骤S02)。使用雕刻机于该首饰坯体上需雕刻图案的表 面处加工出等间隔排列的凹槽，以形成底纹。常见地，凹槽为截面呈矩形、三角形、或梯形的 结构，当然，也可以设计为其他几何形状的结构。于底纹上雕刻出图案(步骤SO； )。使用雕刻机或者手工雕刻于底纹上雕刻出所需 的图案，例如佛像、神像、文字等。对首饰进行抛光(步骤S04)，以降低首饰的表面的粗糙度，提高首饰的光泽度。以上所述仅为本技术的优选实施例，而非对本技术做任何形式限制，凡 在权利要求范围内所做的等同变化或修饰，均应落入本技术的保护范围之内。权利要求1.一种雕刻有图案的首饰，包括有一首饰本体，其特征在于所述首饰本体上需要雕 刻图案的表面处形成有底纹，所述底纹由多个间隔排列的形成于所述首饰本体表面处的凹 槽构成，图案雕刻于所述底纹之上。2.如权利要求1所述的雕刻有图案的首饰，其特征在于相邻两凹槽之间的间隔相等。3.如权利要求1或2所述的雕刻有图案的首饰，其特征在于所述凹槽的槽深为 0. 03 0. 08mm，宽度为0. 04 0. 11mm，相邻两凹槽的间隔为0. 02 0. 14mm。4.如权利要求1所述的雕刻有图案的首饰，其特征在于所述凹槽为截面呈矩形的结构。5.如权利要求1所述的雕刻有图案的首饰，其特征在于所述凹槽为截面呈等边三角 形的结构。6.如权利要求1所述的雕刻有图案的首饰，其特征在于所述凹槽为截面呈梯形的结构。7.如权利要求1所述的雕刻有图案的首饰，其特征在于所述首饰本体为黄金材料制备。8.如权利要求1所述的雕刻有图案的首饰，其特征在于所述首饰本体为空心棱柱状。专利摘要本技术公开一种雕刻有图案的首饰，其包括有一首饰本体，所述首饰本体上需要雕刻图案的表面处形成有底纹，所述底纹由多个间隔排列的形成于所述首饰本体表面处的凹槽构成，图案雕刻于所述底纹之上。先于首饰本体需雕刻图案的表面处制作底纹，再于该底纹上雕刻出所要的图案，而由于底纹为多个形成于首饰本体表面处的凹槽间隔排列而构成，首饰佩戴时，可大幅度减少雕刻于其上的图案与人体的直接接触，有效避免发生磨擦而划花图案，从而保持图案的清晰。文档编号A44C27/00GK201854773SQ201020513029公开日2011年6月8日 申请日期2010年8月31日 优先权日2010年8月31日专利技术者叶伟洪, 周桃红, 李晓峰, 李海军, 赵建全, 韩文琨 申请人:深圳市百泰珠宝首饰有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种雕刻有图案的首饰，包括有一首饰本体，其特征在于：所述首饰本体上需要雕刻图案的表面处形成有底纹，所述底纹由多个间隔排列的形成于所述首饰本体表面处的凹槽构成，图案雕刻于所述底纹之上。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：周桃红，叶伟洪，李海军，赵建全，韩文琨，李晓峰，
申请(专利权)人：深圳市百泰珠宝首饰有限公司，
类型：实用新型
国别省市：94