基底支撑组件和基底传送装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供一种基底支撑组件和基底传送装置，属于基底处理技术领域，其可解决现有的基底支撑组件成本较高或不能为基底提供稳定、可靠的支撑的问题。本实用新型专利技术的基底支撑组件包括：固定部；与所述固定部连接的支撑部，所述支撑部具有用于与基底接触的支撑面，且所述支撑面与基底的接触面积能随基底压力的作用而增大。本实用新型专利技术的基底传送装置包括上述基底支撑组件，以及用于驱动上述基底支撑组件的驱动单元。本实用新型专利技术可用于在真空环境下传送基底。（*该技术在2021年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及基底处理
，尤其涉及一种基底支撑组件和基底传送装置。
技术介绍
在液晶显示器制造、半导体处理等工艺中，经常需要将待处理的基底(如玻璃基板、半导体晶片等)在不同处理腔室或不同处理设备间传送。而基底传送装置中包括用于支撑基底的基底支撑组件，以及驱动基底支撑组件运动的驱动单元。其中，在大气环境下， 基底传送装置中通常使用真空吸附装置来支撑基底；但当要在真空环境下传送基底时(例如在真空沉积设备的不同腔室间传送基底时)，由于无法利用吸附作用，故通常使用摩擦式基底支撑组件来支撑基底。摩擦式基底支撑组件如图1所示，包括多根机械臂(即支撑臂)21，各支撑臂21 可与基底传送装置中的驱动单元相连并受其驱动；在每根支撑臂21上通过螺纹固定连接有多个螺钉柱(即支撑柱)22，每个支撑柱22的顶端固定连接有用于支撑基底9的支撑垫 11，支撑垫11的上表面(即远离支撑柱22的一面)为用于与基底9接触的支撑面19 ；其中支撑垫11通常由硬质橡胶制成，并通过位于其中心部的连接件111与支撑柱22固定连接(使用连接件111是因为支撑柱22通常为金属，难以直接与橡胶支撑垫11相连，当然， 不使用连接件111也并不影响其功能的实现)，而支撑面19可为波纹面，以增大其与基底9 间的摩擦力，保证支撑臂21横向移动时可产生足够的摩擦力而带动基底9 一同运动。专利技术人发现现有技术中至少存在如下问题由于基底9往往很薄且尺寸很大(例如用于大尺寸液晶显示器中的玻璃基板)，故其会因重力而如图1所示产生变形，从而导致支撑面19实际只有一部分与基底9接触，基底9与支撑面19间的接触面积过小；这样，基底9与支撑面19相接触的位置压强就会过大，且不同支撑垫11施加给基底9的力也不均勻，因此其在传送过程中易发生基底9损伤、滑动等问题，无法给基底9提供稳定、可靠地支撑；而要若保证支撑的稳定、可靠，就要增加支撑垫11的数量，但这又会导致成本的增加。
技术实现思路
本技术的实施例提供一种基底支撑组件，其可在保证成本较低的情况下为基底提供稳定、可靠地支撑。为达到上述目的，本技术的实施例采用如下技术方案一种基底支撑组件，包括固定部；与所述固定部连接的支撑部，所述支撑部具有用于与基底接触的支撑面，且所述支撑面与基底的接触面积能随基底压力的作用而增大。由于本技术的实施例的基底支撑组件中，支撑面与基底间的接触面积能随基底压力的作用而增大，故当基底因重力的作用产生变形时，支撑面与基底间的接触面积会3增加，从而保证基底受力均勻且与支撑面接触的位置压强较小。因此，本实施例的基底支撑组件可在保证成本较低(即不增加支撑部数量)的情况下为基底提供稳定、可靠地支撑。作为本技术的实施例的一种优选方案，所述支撑面与水平面间的夹角能随基底压力的作用而改变。作为本技术的实施例的一种优选方案，所述支撑部与所述固定部活动连接。作为本技术的实施例的一种优选方案，所述支撑部通过弹簧与所述固定部活动连接。作为本技术的实施例的一种优选方案，所述支撑部通过软质衬垫与所述固定部活动连接。作为本技术的实施例的一种优选方案，所述支撑部通过滚珠与所述固定部活动连接。作为本技术的实施例的一种优选方案，所述支撑部通过转轴与所述固定部活动连接。作为本技术的实施例的一种优选方案，所述支撑部由软质材料构成。作为本技术的实施例的一种优选方案，所述固定部包括支撑臂和固定连接在所述支撑臂上的支撑柱；所述支撑部包括连接在所述支撑柱上的支撑垫，所述支撑垫远离所述支撑柱的一面为所述支撑面。作为本技术的实施例的一种优选方案，所述固定部包括支撑臂；所述支撑部包括固定连接的支撑柱和支撑垫，所述支撑柱连接在所述支撑臂上，所述支撑垫远离所述支撑柱的一面为所述支撑面。本技术的实施例还提供一种基底传送装置，其可在保证成本较低的情况下稳定、可靠地传送基底。为达到上述目的，本技术的实施例采用如下技术方案一种基底传送装置，包括上述的基底支撑组件；用于驱动所述基底支撑组件运动的驱动单元。由于本技术的实施例的基底传送装置中具有上述的基底支撑组件，因此其可在保证成本较低的情况下稳定、可靠地传送基底。附图说明为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图。图1为现有的基底支撑组件的结构示意图；图2为本技术实施例一的基底支撑组件的结构示意图；图3为本技术实施例一的基底支撑组件在承载基底时的结构示意图；图4为本技术另一实施例的基底支撑组件的结构示意图；图5为本技术另一实施例的基底支撑组件的结构示意图；图6为本技术另一实施例的基底支撑组件的结构示意图；图7为本技术实施例二的基底支撑组件的结构示意图；图8为本技术实施例三的基底支撑组件的结构示意图；图9为本技术实施例三的基底支撑组件在承载基底时的结构示意图；其中附图标记为1、支撑部；11、支撑垫；111、连接件；12、支撑柱；19、支撑面；2、 固定部；21、支撑臂；22、支撑柱；81、弹簧；82、软质衬垫；83、滚珠；9、基底。具体实施方式下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其它实施例，都属于本技术保护的范围。本技术实施例提供一种基底支撑组件，包括固定部；与所述固定部连接的支撑部，所述支撑部具有用于与基底接触的支撑面，且所述支撑面与基底的接触面积能随基底压力的作用而增大。由于本技术的实施例的基底支撑组件中，支撑面与基底间的接触面积能随基底压力的作用而增大，故当基底因重力的作用产生变形时，支撑面与基底间的接触面积会增加，从而保证基底受力均勻且与支撑面接触的位置压强较小。因此，本实施例的基底支撑组件可在保证成本较低(即不增加支撑部数量)的情况下为基底提供稳定、可靠地支撑。实施例一本技术实施例提供一种基底支撑组件，如图2至图6所示，其包括固定部2以及与固定部2活动连接的支撑部1。其中，支撑部1与固定部2间活动连接，且具有用于与基底9接触的支撑面19 ；由于支撑部1与固定部2间的连接是活动的，故支撑面19与水平面间的夹角能随基底9压力的作用而改变。如图3所示，当基底9被放在基底支撑组件上并因重力产生变形时，支撑部1会因基底9的压力而相对于固定部2活动，因此支撑面19与水平面间的夹角也能随基底9压力的作用而改变，从而支撑面19能始终全部与基底9接触(即接触面积增大)，以使基底9受力均勻且与支撑面19接触的位置压强较小；这样基底支撑组件中支撑部1的数量就可较少，从而在保证成本较低的情况下为基底9提供稳定、可靠地支撑。同时，由于支撑面19是活动的，故其对于支撑部1位置精度的要求较低；因为即使其中部分支撑部1的位置稍有偏差(例如稍微偏高或偏低)，该支撑部1的支撑面19在受到基底9压力后也可全本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种基底支撑组件，其特征在于，包括：固定部；与所述固定部连接的支撑部，所述支撑部具有用于与基底接触的支撑面，且所述支撑面与基底的接触面积能随基底压力的作用而增大。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：陈万海，樊海洋，刘远宏，
申请(专利权)人：北京京东方光电科技有限公司，
类型：实用新型
国别省市：11