本发明专利技术提供一种图案形成方法、图案形成装置、压电振动器、压电振动器的制造方法、振荡器、电子设备及电波钟，在用溅镀法在基板上形成图案时，能够抑制产生图案模糊。一种图案形成方法，在成膜室(85)内用溅镀法在基板(40)上形成图案，成膜室包括：能配置多个基板地构成的工作台(86)、以及成为图案的原料的靶子(88)，具有：在基板的表面承载具有与图案对应的开口的掩模材料的工序；使多个基板移动至成膜室内，使多个基板配置在工作台的工序；将工作台旋转以使基板的表面通过与靶子对置的位置的工序；以及通过使一个基板多次通过与靶子对置的位置，在基板的表面形成图案的工序。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及在接合的2个基板之间所形成的空腔内密封有压电振动片的表面安装型(SMD)的压电振动器的形成电极图案的图案形成方法、图案形成装置、压电振动器、压电振动器的制造方法、具有压电振动器的振荡器、电子设备及电波钟。
技术介绍
近年来，在便携电话或便携信息终端上，采用利用了水晶等作为时刻源或控制信号等的定时源、参考信号源等的压电振动器。已知各式各样的这种压电振动器，但作为其中之一，众所周知表面安装型的压电振动器。作为这种压电振动器，已知基底基板和盖基板直接接合而成为2层构造，并且在两基板之间形成的空腔内收纳有压电振动片的压电振动器。该压电振动片利用例如与形成在基底基板上的电极图案凸点接合，而且利用以贯通基底基板的方式形成的导电部件，使压电振动片和形成在基底基板的外部电极导通，这样的压电振动器已被众所周知(例如，参照专利文献1及专利文献2)。如图30、图31所示，该压电振动器200包括通过接合膜207来互相阳极接合的基底基板201及盖基板202 ；以及密封于在两基板201、202之间形成的空腔C内的压电振动片203。压电振动片203例如为音叉型振动片，在空腔C内通过导电粘接剂E来装配于基底基板201的上表面。基底基板201及盖基板202是例如用陶瓷或玻璃等构成的绝缘基板。在两基板 201、202中的基底基板201，形成有贯通该基板201的贯通孔204。然后，在该贯通孔204 内以堵塞贯通孔204的方式埋入有导电部件205。该导电部件205与形成在基底基板201 的下表面的外部电极206电连接，并且经由迂回电极(电极图案)236,237而与装配于空腔 C内的压电振动片203连接。专利文献1 日本特开平10-3M49号公报专利文献2 日本特开平9-3312 号公报可是，在上述的现有的压电振动器200中，作为在基底基板201上形成迂回电极 236,237的方法，采用有溅镀法等。具体而言，如图32所示，使成为基底基板201的圆片 (wafer) 240在装载保护室观4内移动并处于真空状态，之后使圆片240移动至成膜室观5。 然后，在通过与设在成膜室观5内的靶子288对置的位置时，用溅镀在圆片240的表面形成期望的迂回电极236、237。完成成膜的圆片240在装置内单向通行地移动，从其他装载保护室观9向装置外移动。此外，在圆片MO的表面安装开口为迂回电极236、237的形状的掩模材料(未图示)。另外，作为其他方法，如图33所示，从收纳有多个圆片240的料盒382取出逐个圆片M0，使该圆片240从装载保护室384移动至成膜室385内，在成膜室385内处于在与靶子388对置的位置静止的状态下，用溅镀在圆片MO的表面形成期望的迂回电极236、237。 在完成成膜的圆片240再次返回装载保护室384后，向装置外移动。此外，与上述同样，在圆片MO的表面安装开口为迂回电极236、237的形状的掩模材料(未图示)。3此处，在以往的方法中，由于一个圆片240在与靶子对置的位置通过一次或者静止来形成电极，因此每一次位于与靶子对置的位置的时间较长。因此，配置在圆片240的表面的掩模材料的温度会上升，有时掩模材料会挠曲。存在的问题是若这样掩模材料挠曲， 则容易产生电极图案模糊。特别存在的问题是若圆片240大面积化，则挠曲量会进一步增大，图案模糊会进一步增大。
技术实现思路
因此，本专利技术是鉴于上述情况而完成的，其目的在于提供一种图案形成方法、图案形成装置、压电振动器、压电振动器的制造方法、振荡器、电子设备及电波钟，在用溅镀法在基板上形成图案时，能够抑制产生图案模糊。 本专利技术为解决上述问题，提供以下方案。本专利技术所涉及的图案形成方法，在成膜室内用溅镀法在基板上形成图案，其特征在于，所述成膜室包括能配置多个基板地构成的工作台、以及成为所述图案的原料的靶子，所述图案形成方法具有在所述基板的表面承载具有与所述图案对应的开口的掩模材料的工序；使所述多个基板移动至所述成膜室内，使该多个基板配置在所述工作台的工序； 将所述工作台旋转以使所述基板的表面通过与所述靶子对置的位置的工序；以及通过使一个基板多次通过与所述靶子对置的位置，在该基板的表面形成所述图案的工序。在本专利技术所涉及的图案形成方法中，在用溅镀法在基板形成图案时，由于通过基板多次通过与靶子对置的位置来形成图案，因此可以缩短基板每一次位于与靶子对置的位置的时间。即，在配置在基板的表面的掩模材料位于与靶子对置的位置时，虽然温度会临时升高，但时间较短，因此能够防止上升至在掩模材料产生挠曲的温度。另外，由于在掩模材料通过一次与靶子对置的位置后，在下一次来到与靶子对置的位置的期间(间隔)，可以使掩模材料的温度下降，因此可以使在成膜室内的掩模材料的最高温度下降。所以，由于能够抑制掩模材料由于热量而挠曲，因此能够抑制产生图案模糊。另外，本专利技术所涉及的图案形成装置，在成膜室内用溅镀法在基板上形成图案，其特征在于，所述成膜室包括配置多个基板并且可绕轴中心旋转地构成的工作台；以及成为所述图案的原料的靶子，承载有具有与所述图案对应的开口的掩模材料的所述基板的表面，通过与所述靶子对置的位置。在本专利技术所涉及的图案形成装置中，通过将基板承载在工作台上并使其绕轴中心旋转，在成膜室内基板可以在与靶子对置的位置与并非该位置间交替移动。即，在用溅镀法在基板形成图案时，由于能够通过基板多次通过与靶子对置的位置来形成图案，因此能够缩短基板每一次位于与靶子对置的位置的时间。即，在配置在基板的表面的掩模材料位于与靶子对置的位置时，虽然温度会临时升高，但时间较短，因此可以防止上升至在掩模材料产生挠曲的温度。另外，由于在掩模材料通过一次与靶子对置的位置后，在下一次来到与靶子对置的位置的期间(间隔)，能够使掩模材料的温度下降，因此能够使在成膜室内的掩模材料的最高温度下降。所以，由于能够抑制掩模材料由于热量而挠曲，因此能够抑制产生图案模糊。另外，本专利技术所涉及的压电振动器，在互相接合的基底基板与盖基板之间所形成的空腔内密封有压电振动片，其特征在于，所述空腔内的所述基底基板上所形成的电极图案，是使用所述图案形成装置用溅镀法形成的。在本专利技术所涉及的压电振动器中，通过将基底基板承载在工作台上并使其绕轴中心旋转，在成膜室内基板能够在与靶子对置的位置与并非该位置间交替移动。即，在用溅镀法在基底基板形成电极图案时，由于能够通过基底基板多次通过与靶子对置的位置来形成电极图案，因此能够缩短基底基板每一次位于与靶子对置的位置的时间。即，在配置在基底基板的表面的掩模材料位于与靶子对置的位置时，虽然温度会临时升高，但时间较短，因此能够防止上升至在掩模材料产生挠曲的温度。另外，由于在掩模材料通过一次与靶子对置的位置后，在下一次来到与靶子对置的位置的期间(间隔)，能够使掩模材料的温度下降， 因此能够使在成膜室内的掩模材料的最高温度下降。所以，由于能够抑制掩模材料由于热量而挠曲，因此能够抑制在电极图案产生模糊。其结果是，由于电极图案形成于基底基板的期望的位置，因此能够提供成品率提高的高质量的压电振动器。另外，本专利技术所涉及的压电振动器的制造方法，是在互相接合的基底基板与盖基板之间所形成的空腔内密封有压电振动片的压电振动器的制造方法，其特征在于，具有用上述的图案形成方法本文档来自技高网...
【技术保护点】
１．一种图案形成方法，在成膜室内用溅镀法在基板上形成图案，其特征在于，所述成膜室包括：能配置多个基板地构成的工作台、以及成为所述图案的原料的靶子，所述图案形成方法具有：在所述基板的表面承载具有与所述图案对应的开口的掩模材料的工序；使所述多个基板移动至所述成膜室内，使该多个基板配置在所述工作台的工序；将所述工作台旋转以使所述基板的表面通过与所述靶子对置的位置的工序；以及通过使一个基板多次通过与所述靶子对置的位置，在该基板的表面形成所述图案的工序。
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员：荒武洁，
申请(专利权)人：精工电子有限公司，
类型：发明
国别省市：JP
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