等离子体显示面板制造技术

本发明专利技术提供一种保护膜的实装方法，该保护膜包含氧化钙CaO、氧化锶SrO、氧化钡BaO中的任一种而构成，且含有具有比氧化镁MgO的带隙大的带隙(大于7.9eV)的氧化物。通过将保护膜的时间常数调整为一定值以上，将电压下降时间调整为能够在等离子体显示面板中使用。此时，参照由放电容量C和保护膜电阻R求出的时间常数τ＝C×R。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及可以作为显示装置使用的等离子体显示面板(PDP)的材料，特别涉及形成保护膜的材料及其形成方法。
技术介绍
等离子体显示面板是在2片玻璃基板的间隙中设置有多个被密闭的微小放电空间的显示装置。现在，在一般的AC型PDP中，前面板的显示电极以电介质层覆盖，在覆盖后的电介质层上形成保护膜。该电介质层是用于蓄积由向电极施加电压所产生的电荷而设置的。另外，保护膜是用于防止由放电气体中的离子冲撞导致电介质层损伤，同时通过二次电子放出而减少放电开始电压而设置的。近年，要求PDP更加高效率化(驱动电压的降低)、高对比度化等显示特性的提高。在该状况下，作为改善PDP效率的方法，正在研究将放电气体中的氙气Xe的浓度增加到15%左右。但是，氙气浓度如果增加，就存在放电开始电压和维持电压上升的问题。因此，正在研究取代以往的保护膜材料氧化镁MgO，使用同样是碱土金属氧化物，但二次电子放出度更高的氧化钙CaO、氧化锶SrO、氧化钡BaO，另外，研究使用它们彼此的固溶体。在日本专利特开2007-卯436号公报中，公开了使用上述的氧化钙CaO、氧化锶 SrO、氧化钡BaO。另外，在日本专利特开2007-119833号公报中，公开了作为保护膜形成以氧化锶 SrO和氧化钙CaO为主要成分的蒸镀膜。在日本专利特开2007-157717号公报中，记载了分别以比氧化镁MgO的功函数低的物质形成第1保护膜、在该第1保护膜上形成包含氧化镁MgO的第2保护膜。在日本专利特开2009-4150号公报中，存在将与选自锰胞、铁！^、钴Co、镍Ni、锌 Zn中的至少1种元素的氧化物的固溶体配置为保护膜状的记载。在日本专利特开2008-98139号公报中，公开了以氧化镁MgO为主要成分，使用2 种掺杂物质，由真空蒸镀形成保护膜。在国际公开W02006/049121 日本专利第4343232中，公开了由氧化锶SrO和氧化钙CaO构成的保护膜。但是，氧化镁MgO的带隙是7. 9eV。与此相对，氧化钙CaO的带隙是7. 2eV,氧化锶 SrO的带隙是6. 4eV,氧化钡BaO的带隙是4. 8eV。这样，相比于氧化镁MgO，氧化钙CaO、氧化锶SrO、氧化钡BaO的带隙窄。因此，虽然保持电荷，但却不能保持充分的绝缘性，产生电荷泄漏的问题。电荷泄漏导致产生在PDP中需要的高记忆性(电荷蓄积能力)不能实现、施加电压增加和背景发光亮度增加的问题。另外，氧化钙CaO、氧化锶SrO、氧化钡BaO的化学性不稳定，在制成PDP时，还存在大气工艺中发生氢氧化、碳酸化的问题。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种保护膜的实装方法，该保护膜包含氧化钙CaO、氧化锶SrO、氧化钡BaO中的任一种而构成，且含有具有比氧化镁MgO的带隙大的带隙(大于 7. 9eV)的氧化物。本专利技术的上述目的及其它目的和新特征，由本说明书的记述和附图可以明确。在本申请所公开的专利技术中，如果简要说明代表性的专利技术概要，则如下所述。本专利技术的代表性实施方式相关的等离子体显示面板，是在前面侧板玻璃上配置电极，并形成有用于保护电极的保护膜的等离子体显示面板，其特征在于，保护膜的主要成分是氧化钙、氧化锶、氧化钡中的任一种，且含有比氧化镁的带隙大的氧化物。在该等离子体显示面板中，其特征也可以在于，带隙大的氧化物含有氧化铝。在该等离子体显示面板中，其特征也可以在于，主要成分是氧化钙，钙和铝的组成比例为99摩尔1摩尔至75摩尔25摩尔。在该等离子体显示面板中，其特征也可以在于，当时间常数由保护膜放电容量C 和保护膜电阻R得到时，时间常数τ =CXR为5ms以上。在这些等离子体显示面板中，其特征也可以在于，保护膜以蒸镀膜或颗粒中的至少一种形态形成。本专利技术相关的含有氧化钙CaO、氧化锶SrO、氧化钡BaO中的任一种而构成的保护膜具有比氧化镁MgO的带隙大的带隙。由此，能够提供一种具有能够蓄积电荷的具备充分绝缘性的优秀的稳定电压特性，并且在制成PDP时的大气工艺中防止变质的保护膜。附图说明图1是使用了本专利技术的保护膜的PDP的截面放大图。图2是本专利技术相关的2种PDP和具有由其它成分形成的保护膜的PDP的放电开始电压特性的图表。图3是表示本专利技术相关的2种PDP和具有由其它成分形成的保护膜的PDP在IOOHz 时的相位特性差异的图表。图4是表示在测定时的等值电路模型的概念图。图5是表示在保护膜的阻抗特性中，由放电容量C和保护膜电阻成分R得到的时间常数τ ( = CXR)不同时，相对于时间的电压衰减曲线的对比的图表。图6是表示由研究用的氧化钙CaO单体构成的保护膜在大气烧制前后XRD的变化的图表。图7是表示由本专利技术相关的氧化钙CaO: 10%铝Al构成的保护膜在大气烧制前后 XRD(X射线衍射)的变化的图表。图8是表示由本专利技术相关的氧化钙铝Al构成的保护膜在大气烧制前后 XRD的变化的图表。具体实施方式以下，使用附图说明本专利技术的实施方式。(第1实施方式)图1是使用了本专利技术的保护膜的PDP的截面放大图。该PDP包含前面侧板玻璃1、显示电极2、电介质层3、保护膜4、间壁(加强筋)5、 荧光体6、电介质层7、寻址电极8、背面侧板玻璃9而构成。前面侧板玻璃1是作为PDP显示面的玻璃基板。显示电极2是称为所谓的X电极和Y电极的设置在前面侧板玻璃1上的电极。在作为PDP动作周期的1)复位期间、2)寻址期间、3)维持期间内，在3)维持期间中，维持脉冲从各电极的驱动电路(未图示)输入。另外，在1)复位期间和幻寻址期间也输入规定的信号。电介质层3是在设置了显示电极2后，覆盖前面侧板玻璃1的电介质的层。保护膜4是用于防止由二次电子引起电介质层3损伤的保护膜。背面侧板玻璃9是用于与前面侧板玻璃1 一同以规定的压力密封放电气体的玻璃基板。在该背面侧板玻璃9上设置有寻址电极8。寻址电极在幻寻址期间由其驱动电路 (未图示)驱动。电介质层7是在设置了寻址电极8后，覆盖背面侧板玻璃9的电介质的层。在该电介质层7上设有间壁5。在该间壁5之间涂布荧光体6。由间壁5隔离放电空间，在该放电空间中进行等离子体发光的反应，荧光体6反应并发光，从而使有色的光到达PDP操作者的眼睛。另外，作为PDP整体，使用RGB (红、绿、蓝)和作为可能性使用CMY (青色、品红色、 黄色)的荧光体。在这里，荧光体6输出的颜色的频率数不确定。在本专利技术中，包含氧化钙CaO、氧化锶SrO、氧化钡BaO中的至少一种，且以具有比 MgO的带隙大的带隙的氧化物作为保护膜4的材料。关于该保护膜4可以使用的材料，在以下进行说明。在本专利技术中，由电子束蒸镀法形成保护膜4。该成膜以设置有2个源的双源蒸镀实施。当以双源蒸镀将氧化钙CaO单体成膜时，将2个源都设定为CaO源。另外，当在氧化钙CaO中添加宽带隙氧化物时，将一个源设定为氧化钙CaO源，将另一个源设定为宽带隙氧化物源。这样，通过同时成膜而制成氧化钙CaO-宽带隙氧化物。当变更CaO-宽带隙氧化物的组成时，改变其成膜速率而进行成膜。通过对该成膜品进行EDX分析(能量分散型 X射线分析)对组成进行确认。在本实施方式中，将该双源蒸镀中的一个源设定为CaO源，另外，将另一个源设定为Al2O3源。在该环境下，相对于前面侧板玻璃1同时以任意成膜速率成膜，制本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种等离子体显示面板，其在前面侧板玻璃上配置电极，并形成有用于保护所述电极的保护膜，其特征在于：所述保护膜的主要成分是氧化钙、氧化锶、氧化钡中的任一种，且含有比氧化镁的带隙大的氧化物。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：鬼丸俊昭，樱井浩，日比野洋，秋山利幸，新谷庸一，
申请(专利权)人：日立民用电子株式会社，株式会社次世代PDP开发中心，松下电器产业株式会社，
类型：发明
国别省市：JP