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电子零件制造技术

技术编号:6614710 阅读:218 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术的电子零件,其特征在于,具有元件主体以及覆盖元件主体的至少一部分的玻璃膜;玻璃膜的内部存在空孔。能够抑制裂纹的发生和发展,耐用性和可靠性优异。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及线圈零件等电子零件
技术介绍
伴随线圈零件的小型化,为了得到所需要的特性,对已有的M-Si磁芯到Mn-ai磁芯的使用进行了研究。Mn-ai磁芯具有导电性,因此不能够直接在磁芯的表面上设置电极, 所以有必要在磁芯的表面上设置绝缘膜。在专利文献1中,有在铁氧体磁芯的表面上形成玻璃膜,确保磁芯的绝缘性的记载。但是在制造工艺等中,一旦玻璃膜受到机械冲击或热冲击,玻璃膜容易发生裂纹。而且如果裂纹进一步发展,则玻璃膜发生缺口等,有可能造成绝缘不良。专利文献1 日本特开2001-237135号公报
技术实现思路
本专利技术是鉴于这样的实际情况而作出的,其目的在于,提供能够抑制裂纹的发生和发展,耐用性和可靠性优异的电子零件。为了实现上述目的,本专利技术的电子零件,其特征在于,具有元件主体、以及覆盖所述元件主体的至少一部分的玻璃膜;所述玻璃膜的内部存在空孔。在本专利技术中,覆盖元件主体的玻璃膜的内部存在空孔。本专利技术的专利技术人等新发现, 由于使内部存在空孔,即使是对玻璃膜施加机械冲击或热冲击,也能够大大减小裂纹的发展。而且本专利技术的专利技术人等确认,即使是使内部存在空孔,在本专利技术作为特征的空孔率的范围内,玻璃膜的表面硬度没有大幅度减小。从而,本专利技术能够确保玻璃膜有充分的强度,又能够抑制裂纹的发生和发展,同时能够提高玻璃膜的耐用性和可靠性。最好是所述空孔的直径为0. 1微米 10. 6微米。而且最好是在垂直于与所述元件主体的平坦部的界面的至少一个横截面上观察所述玻璃膜的情况下,以所述空孔的面积相对于所述横截面的面积所占的面积比为空孔率时,所述空孔率为0. 1 15. 1%。如果空孔率比0. 小,在对玻璃膜施加机械冲击或热冲击的情况下,玻璃膜倾向于发生较大裂纹。而空孔率大于15. 时,玻璃膜的强度有下降的倾向。从而,通过将空孔率限制于0. 1 15. 的范围内能够很好地提高玻璃膜的强度,而且能够将裂纹抑制于小尺寸。最好是所述空孔率为0.6 6%。通过将空孔率限制于0.6 6%的范围内,能够更好地提高玻璃膜的强度,而且能够进一步将裂纹抑制于小尺寸。最好是在与表面接触的第1层和与所述界面接触的第2层分开观察所述玻璃膜的情况下,所述第2层比所述第1层其所述空孔率更大。在与表面接触的第1层,使空孔率比第2层小,这样特别能够提高玻璃膜表面的硬度,能够确保玻璃膜有充分的强度。最好是所述玻璃膜的所述表面形成为平滑面。通过提高表面平滑性,容易在表面上进行印字等操作。也可以所述元件主体具有导电性。 附图说明图1是本专利技术一实施形态的电子零件的剖面图。图2是使用为图1所示的电子零件的线圈零件的剖面图。图3是形成玻璃涂膜的线圈零件的剖面图。图4是图1的IV部的放大图。图5是在电子零件制造方法中使用的滚筒(〃 > ^ )装置的大概剖面图。图6(A) 是图1所示的玻璃膜的截面的扫描电子显微镜照片,图6 (B)是比较例的玻璃膜的扫描电子显微镜照片。图7是使用为本专利技术另一实施形态的电子零件的线圈零件的剖面图。图8是图7所示的玻璃膜的剖面图。图9是使用为本专利技术另一实施形态的电子零件的线圈零件的剖面图。图10是进行硬度试验时的玻璃膜表面的照片。图11是表示裂纹长度和维氏硬度与空孔率的关系的测定结果曲线图。具体实施例方式第1实施形态如图1所示,本专利技术一实施形态的电子零件1是例如线圈零件,具有线圈零件10。本实施形态的线圈零件10用Mn-Si铁氧体、坡莫合金(permalloy)等软磁性金属、金属压粉等磁性材料构成,如图2所示具有圆筒形磁芯的形状。本实施形态如图1所示,在磁芯零件10的表面被覆玻璃膜6b。图1所示的电子零件ι具有被覆玻璃膜6b的磁芯零件10、在磁芯零件10的一锷部14 (在图2中记述)的端面上形成的一对端子电极32、卷绕在卷绕轴心部12 (在图2中记述)的周围的导线30。端子电极32由银、钛、镍、铬、铜等构成,用印刷、复印、浸渍、溅射、电镀等方法形成。即使磁芯零件10具有导电性,由于有玻璃膜6b,端子电极32实现绝缘。导线30的两端30a通过热压接、超声波焊接、激光焊接、钎焊等方法分别连接于端子电极32。磁芯零件10,如图2所示具有圆柱状或多棱柱状的卷绕轴心部12、以及沿着该卷绕轴心部12的轴方向在两侧成一整体形成的一对锷部14。锷部14的外径比卷绕轴心部 12的芯径大,在卷绕轴心部12的外周形成由锷部14包围的凹部16。在本实施形态中,卷绕轴心部12的芯径为0. 6 1. 2mm,卷绕轴心部12的轴方向上的宽度W为0. 3 1. 0mm,锷部14的外径为2. 0 3. Omm,从锷部14的外周表面到卷绕轴心部12的外周表面的深度D为0. 5 1. 0mm。而且在本实施形态中,D/W以1以上为宜, 最好是1.0 1.5。还有,锷部14的形状除了圆形外,也可以是四边形、八边形等。而且不限于图2所示那样的圆筒形磁芯形状,也可以是圆柱状、多棱柱状、或螺旋管形磁芯那样的环状等形状。磁芯零件10如下所述制造。首先将规定的磁性材料调和,形成颗粒,充填于未图示的金属模具中,然后加压成型,得到成型体。对该成型体进行切割加工之后,在大气中或规定的氮气气氛保护下用例如1000 1500度的温度进行烧成。如图4所示,在玻璃膜6b的内部形成空孔7。还有,在本实施形态中,最好是空孔7的直径Φ =0.1 10. 6微米。空孔7最好是独立的气泡,但是空孔7的一部分相互粘连也可以。在图4中,示意性表示出在垂直于与磁芯零件10的界面6c的任意截面8观察玻璃膜6b的情况。进行观察的任意横截面8的宽度Wl为例如100 150微米。以膜厚tl 形成的玻璃膜6b在界面6c与磁芯零件10接触。还有,最好是膜厚tl = 1 30微米。以空孔7的面积相对于横截面8的面积所占的面积比为空孔率P时,以空孔率P =0. 1 15. 为宜。而且更理想的是空孔率为0.6 6%。空孔率P因图4所示的空孔 7的孔径和空孔的数目等而变化。而且最好是玻璃膜6的表面6d形成为平滑面。在磁芯零件10的表面上被覆形成该玻璃膜6b时使用的玻璃粉末最好是采用二氧化硅系玻璃中的二氧化硅硼系玻璃,例如采用硼硅酸铅玻璃、硼硅酸铋玻璃、硼硅酸锌玻璃等的非晶态玻璃粉末或结晶化玻璃粉末等。下面对上述玻璃膜6b的被覆形成方法进行说明。玻璃膜6b的被覆形成方法如图5所示,使用于线圈零件的制造方法的滚筒装置20 具有圆柱状或多棱柱状的缸外壳20a,在其中空的内部,围绕其轴心向箭头A的方向(或其反方向)转动自如地容纳滚筒容器22。在外壳20a上,入口管23与出口管M夹着滚筒容器22在外壳20a的相反侧分别形成。烘干用的气体能够从入口管23进入外壳20a的内部,从出口管M排出外壳内部的空气。在滚筒容器22的内部的轴心位置,沿着轴方向配置喷嘴25,能够从喷嘴25向滚筒容器22的内部贮存的多个磁芯零件10喷涂浆液26。滚筒容器22由于向箭头A的方向转动,滚筒容器22的内部贮存的磁芯零件10偏离滚筒容器22的铅直方向的正下方偏向转动方向A—侧集中,利用滚筒容器22的转动搅拌。喷嘴25能够向在滚筒容器22的铅直方向的正下方偏向转动方向A—侧集中的磁芯零件10的集合喷射浆液沈。还有,也可以自由改变从喷嘴25喷射浆液的方向。位于滚筒容器22的下本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种电子零件,其特征在于,具有元件主体、以及覆盖所述元件主体的至少一部分的玻璃膜;所述玻璃膜的内部存在空孔。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:齐藤弘聪山崎恒裕大久保等松野谦一郎小松裕人
申请(专利权)人:TDK株式会社
类型:发明
国别省市:JP

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