一种含硫和含氮基团的离子液体及其制备方法技术

技术编号:6535233 阅读:559 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术涉及一种含硫和含氮基团的离子液体,其结构为式I、式II和式III所示:本发明专利技术的制备方法,是将含硫和含氮基团化合物与咪唑类或吡啶类化合物反应。本发明专利技术制得的离子液体可以用作有机合成反应中的溶剂或催化剂,石油化工中的脱硫剂等。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及ー种含硫和含氮基团的离子液体及其制备方法。可用作有机合成反应 中的溶剂或催化剂,石油化エ中的脱硫剂等。
技术介绍
离子液体是近年来受到学术界和エ业界广泛关注的绿色物质,离子液体具有许多 独特的物理化学性质,如可重复利用、蒸气压低、较强的溶解有机物和无机物的能カ、溶程 长、极性可调等优点,现在已经广泛应用于有机合成,并且在石油化エ、生物质能源、环境和 材料领域显示了巨大的应用前景。现有的离子液体主要包括咪唑类、批唳类、季氨盐类和季 辚盐类离子液体。人们期望开发研制出更多的离子液体,以获得更为广泛的应用。
技术实现思路
本专利技术的目的提供ー种新型的含硫和含氮基团的离子液体及其制备方法。本专利技术的目的是通过如下的技术方案实现的本专利技术提供ー种含硫和含氮基团的 离子液体,其结构为式1、式n和式III所示

【技术保护点】
1.一种含硫和含氮基团的离子液体,其特征在于结构为式I、式II和式III所示:式I其中基团R=C2H4O、C2H4OC2H4S、C2H4,S、C2H4S、C3H6S、C4H8或C5H10S,式II其中基团R=CH3、CH2CH3或式III其中基团R=C2H4O、C2H4S、S或C2H4OC2H4S;含硫和含氮基团的离子液体其为下述化学式之一:H1:a=0,b=0,c=0,d=0H2:a=2,b=1,c=0,d=0H3:a=2,b=1,c=2,d=1H4:a=2,b=0,c=0,d=0H5:a=0,b=0,c=0,d=1H6:a=3,b=0,c=0,d=1H7:a=2,b=0,c=0,d=1H8:a=4,b=0,c=0,d=1H9:a=5,b=0,c=0,d=1

【技术特征摘要】
1. 一种含硫和含氮基团的离子液体,其特征在于结构为式I、式II和式III所示 十2.一种含硫和含氮基团的离子液体的制备方法,其特征在于①把所述含硫和含氮基团化合物与咪唑类或吡啶类化合物在氮气中保护,油浴50 100°C的反应条件下搅拌12 72h,用无水乙醇溶解,用无水乙醚洗涤,真空干燥20 30h得到离子液体;②把所述含硫和含氮基团化合物与咪唑类或吡啶类化合物在氮气中保护、单模微波功率30 IOOw条件下反应1 lOmin,用无水乙醇溶解,用无水乙醚洗涤,真空干燥20 30h得到离子液体。3.根据权利要求2所述的含硫和含氮基团的离子液体的制备方法,其特征在于所述...

【专利技术属性】
技术研发人员:肖军华任金锋王红梅毕晓静
申请(专利权)人:中国人民解放军六三九七五部队
类型:发明
国别省市:11

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