本发明专利技术公开一种膜产品研发用辅助镀膜装置及其镀膜方法，包括有真空镀膜室以及安装于该真空镀膜室中的工件架、溅射靶和掩模板；该溅射靶设于工件架外；该掩模板上设置有模孔，掩模板可活动地设于工件架和溅射靶之间；藉此，通过利用掩模板控制溅射靶朝向工件架喷镀物质的范围，该溅射靶喷出的物质量可控，掩模板移动的方向和速度亦可控，以使得喷镀出来的薄膜结构的每个区域的成分配比和厚度均可控可知，只需一次喷镀就可以得到无数个成分配比和厚度不一样的区域，从而可快速轻易地选出具有最优光学性能的薄膜结构，并获取该薄膜结构的成分配比和厚度，大大减少选膜的工作量，降低选膜难度，从而缩短研发周期，降低研发成本。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及膜产品领域技术，尤其是指一种。
技术介绍
太阳能选择性吸收薄膜的特点是在太阳能光谱范围(0. 3 2. 5微米)内具有较高的吸收率，在红外区域(2 10微米)有很低的发射率，它能把低能量密度的太阳能转换成高能量密度的热能，以将太阳能富集起来，提高太阳能光热转换效率，是太阳能热利用研究工作中受到重视的一项内容。我国在近二三十年的研究中，主要的成果限于低温利用，应用领域包括有生活洗浴、游泳池加热、海水淡化、采暖、干燥、养殖等方面。但从长远来看，中高温利用有更好地前景和应用。以太阳能高温发电为例，太阳能热发电主要系把太阳能转化为热量，产生的热使工质沸腾，产生的蒸汽推动涡轮机发电，这样就可以减少常规能源发电，减少对环境的污染，有利于节能减排。根据吸收太阳光的原理和薄膜结构不同，选择性吸收薄膜的基本类型有半导体薄膜、光干涉薄膜、多层渐变薄膜、金属陶瓷薄膜和多孔薄膜等。这些薄膜具有的吸收太阳能的特性，不仅跟薄膜的物质成分配比有关系，还跟薄膜的厚薄有很大的关系。然而，配合利用现有的镀膜装置和镀膜方法做出的薄膜结构上每一区域上的成分和厚度基本相同，一次喷镀得到的薄膜结构其可选择性非常地单一，因此，利用现有之镀膜装置和镀膜方法来选择出具有最优光学性能的薄膜结构是一件工作量大而且复杂的事情，并且还会延长研发周期、增加研发成本。
技术实现思路
有鉴于此，本专利技术针对现有技术存在之缺失，其主要目的是提供一种，其能有效解决利用现有之镀膜装置和镀膜方法难以选择出最优光学性能之薄膜的问题。为实现上述目的，本专利技术采用如下之技术方案一种膜产品研发用辅助镀膜装置，包括有真空镀膜室以及安装于该真空镀膜室中的工件架、溅射靶和掩模板；该溅射靶设置于工件架外，溅射靶用于朝向工件架喷镀物质；该掩模板上设置有模孔，掩模板可活动地设置于工件架和溅射靶之间用于控制溅射靶朝向工件架喷镀物质的范围。作为一种优选方案，所述溅射靶至少为两个，它们用于朝向工件架喷镀不同的物质；该掩模板为两个，它们分别是第一掩模板和第二掩模板，该第一掩模板可横向活动地设置，第一掩模板上设置有第一模孔；该第二掩模板可纵向移动地设置，第二掩模板上设置有第二模孔。作为一种优选方案，所述第一掩模板的移动频率大于第二掩模板的移动频率，当第一掩模板双向来回移动的次数为20 200时，该第二掩模板单向移动一次。作为一种优选方案，所述第一掩模板和第二掩模板均平行于工件架移动，该第一掩模板和第二掩模板分别由第一驱动机构和第二驱动机构带动移动。作为一种优选方案，针对每一溅射靶，于该掩模板和溅射靶之间设置有用于根据情况阻挡溅射靶向工件架喷镀物质的活动挡板。作为一种优选方案，所述活动挡板通过一驱动缸体可活动地伸出或缩回，该驱动缸体固定于真空镀膜室上，驱动缸体可活动地伸出有连接杆，该活动挡板安装于该连接杆的尾端。一种如权利要求1所述的膜产品研发用辅助镀膜装置的镀膜方法，包括的步骤有(1)将基板置于工件架上；(2)利用溅射靶朝向工件架喷镀物质，利用掩模板控制溅射靶朝向工件架喷镀物质的范围，并控制物质的喷镀量以及控制掩模板的移动速度和方向，使得在基板上喷镀至少一厚度逐渐增厚或逐渐减薄的物质层。作为一种优选方案，在步骤(2)中采用两个溅射靶进行喷镀，其中一个溅射靶用于喷镀A物质，另一个溅射靶喷镀B物质，在喷镀过程中，利用两溅射靶向工件架喷镀A物质和B物质，以使在基板形成有由复数第一物质层和第二物质层叠合一起的薄膜结构；且在采用两溅射靶进行喷镀的过程中配合采用两个掩模板，控制两掩模板的移动速度，以使得该薄膜结构的厚度从一侧向另一侧逐渐增厚。作为一种优选方案，利用活动挡板可活动地伸出而阻挡溅射靶向基板喷镀物质， 根据需要向工件架喷镀A物质或B物质。本专利技术与现有技术相比具有明显的优点和有益效果，具体而言，由上述技术方案可知一、通过将掩模板可活动地设于工件架和溅射靶之间，利用掩模板控制溅射靶朝向工件架喷镀物质的范围，该溅射靶喷出的物质量可控，掩模板移动的方向和速度亦可控，以使得喷镀出来的薄膜结构的每个区域的成分配比和厚度均可控可知，只需一次喷镀就可以得到无数个成分配比和厚度不一样的区域，从而可快速轻易地选出具有最优光学性能的薄膜结构，并获取该薄膜结构的成分配比和厚度，大大减少选膜的工作量，降低选膜难度，从而缩短研发周期，降低研发成本。二、通过设置有第一掩模板和第二掩模板，利用该第一掩模板控制单个物质层的厚度，利用第二掩模板控制复数个物质层叠合一起形成薄膜结构的厚度，以使薄膜结构上可选择的区域更密集更多，更加方便人们快速选出光学性能较佳的薄膜结构，并且还可以建立完善的数据库，以便后续选择调取需要。三、通过针对每一溅射靶，于溅射靶和掩模板之间设置有活动挡板，利用该活动挡板可活动地伸出而阻挡溅射靶朝向工件架喷镀物质，从而可根据需要向工件架喷镀不同的物质，结构简单，操控方便。为更清楚地阐述本专利技术的结构特征和功效，下面结合附图与具体实施例来对本专利技术进行详细说明。附图说明图1是本专利技术之第一较佳实施例的正面示意图；图2是本专利技术之第一较佳实施例内部结构的俯视图； 图3是本专利技术之第一较佳实施例中图2的局部放大示意图； 图4是本专利技术之第一较佳实施例中图2的第一状态示意图； 图5是本专利技术之第一较佳实施例中图2的第二状态示意图； 图6是本专利技术之第一较佳实施例中图2的第三状态示意图； 图7是本专利技术之第一较佳实施例中单个物质层的截面图； 图8是本专利技术之第一较佳实施例中多个物质层叠合一起的截面图； 图9是本专利技术之第一较佳实施例中多个物质层叠合一起的立体视图； 图10是本专利技术之第一较佳实施例中另一种多个物质层叠合一起的截面图； 图11是本专利技术之第一较佳实施例中第三种多个物质层叠合一起的截面图； 图12是本专利技术之第二较佳实施例的正面示意图； 图13是本专利技术之第二较佳实施例内部结构的俯视图； 图14是本专利技术之第二较佳实施例中图13的局部放大示意图； 图15是本专利技术之第二较佳实施例中多个物质层叠合一起的立体视图。附图标识说明 10、真空镀膜室 30、溅射靶 41、模孔 51、传动链条 60、活动挡板 71、连接杆 102、第一物质层81、第一掩模板82、第二掩模板 91、第一驱动机构具体实施例方式请参照图1至图11所示，其显示出了本专利技术之第一较佳实施例的具体结构，包括有真空镀膜室10以及安装于该真空镀膜室10中的工件架20、溅射靶30和掩模板40。其中，该工件架20用于置放需要进行镀膜的基板，该溅射靶30设置于工件架20 外，溅射靶30用于朝向工件架20喷镀物质，如图1所示，本实施例的镀膜装置为立式镀膜装置，该溅射靶30位于工件架20的下方，该溅射靶30和工件架20的相对位置不予局限， 只需使该溅射靶30能够朝向工件架20喷镀物质即可，本实施例中具有两个溅射靶30，该两溅射靶30用于朝向工件架20喷镀不同的物质，当然亦可单独使用一个溅射靶30对工件架20进行喷镀作业，当喷镀物质多于两种时，亦可根据情况增加溅射靶30的数量，本实施例以使用两个溅射靶30分别喷镀两种不同的物质为例说明，溅射靶30的数量不予局限。该掩模板40可活动地设置于工件架20和溅射靶30之间，掩模板40用于控制溅射靶30朝向工件架20喷镀物质的范围。本实施例中的掩模板4本文档来自技高网...
【技术保护点】
１．一种膜产品研发用辅助镀膜装置，其特征在于：包括有真空镀膜室以及安装于该真空镀膜室中的工件架、溅射靶和掩模板；该溅射靶设置于工件架外，溅射靶用于朝向工件架喷镀物质；该掩模板上设置有模孔，掩模板可活动地设置于工件架和溅射靶之间用于控制溅射靶朝向工件架喷镀物质的范围。
【技术特征摘要】
1.一种膜产品研发用辅助镀膜装置，其特征在于包括有真空镀膜室以及安装于该真空镀膜室中的工件架、溅射靶和掩模板；该溅射靶设置于工件架外，溅射靶用于朝向工件架喷镀物质；该掩模板上设置有模孔，掩模板可活动地设置于工件架和溅射靶之间用于控制溅射靶朝向工件架喷镀物质的范围。2.根据权利要求1所述的膜产品研发用辅助镀膜装置，其特征在于所述溅射靶至少为两个，它们用于朝向工件架喷镀不同的物质；该掩模板为两个，它们分别是第一掩模板和第二掩模板，该第一掩模板可横向活动地设置，第一掩模板上设置有第一模孔；该第二掩模板可纵向移动地设置，第二掩模板上设置有第二模孔。3.根据权利要求2所述的膜产品研发用辅助镀膜装置，其特征在于所述第一掩模板的移动频率大于第二掩模板的移动频率，当第一掩模板双向来回移动的次数为20 200 时，该第二掩模板单向移动一次。4.根据权利要求2所述的膜产品研发用辅助镀膜装置，其特征在于所述第一掩模板和第二掩模板均平行于工件架移动，该第一掩模板和第二掩模板分别由第一驱动机构和第二驱动机构带动移动。5.根据权利要求1或2所述的膜产品研发用辅助镀膜装置，其特征在于针对每一溅射靶，于该掩模板和溅射靶之间设置有用于根据情况阻挡溅射...
【专利技术属性】
技术研发人员：谭卓鹏，沈剑山，周福云，赵华平，
申请(专利权)人：东莞市康达机电工程有限公司，
类型：发明
国别省市：44
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