本发明专利技术公开了一种可钢化的低辐射镀膜玻璃，在玻璃基片(1)的表面从下至上依次设置电介质层I(2)、电介质层II(3)、金属阻挡层I(4)、银层(5)、金属阻挡层II(6)、电介质层III(7)和电介质层IV(8)；电介质层I(2)与玻璃基片(1)的表面相连，电介质层I(2)和电介质层IV(8)为氧化硅层，电介质层II(3)和电介质层III(7)为氧化锌的锡酸盐层，金属阻挡层I(4)和金属阻挡层II(6)为镍铬合金层。本发明专利技术还同时公开了上述可钢化的低辐射镀膜玻璃的制备方法。本发明专利技术的可钢化的低辐射镀膜玻璃，具有热稳定性好、抗氧化性能好、膜层牢固度好、耐磨与耐碱性能好等特点。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及玻璃领域，特别涉及一种。
技术介绍
中国专利CN2721633公开了一种特殊膜系的低辐射镀膜玻璃，包括有玻璃基片， 在玻璃基片上复合有五个膜层，第一膜层即底层为金属氧化物膜层；第二膜层为金属或合金阻挡层；第三膜层为金属银；第四膜层为金属或合金阻挡层；第五膜层即表面层为金属氧化物膜层。该结构可确保银层不受氧气影响，避免银层被氧化，使得低辐射镀膜玻璃的功能膜层之一即银层能很好地起到作用，从而获得稳定的低辐射功能。该低辐射镀膜玻璃具有一定的抗氧化性能，膜层耐磨性能好，耐碱性能好，但是还存在耐酸性能略差的缺陷。中国专利CN201296729公开了一种特殊膜系的低辐射镀膜玻璃，包括有玻璃基片，在玻璃基片上复合有六个膜层，第一膜层即底层为氮化硅；第二膜层为氧化钛；第三膜层为氧化锌；第四膜层为银；第五膜层为镍铬；第六膜层即表面层为氮化硅。该低辐射镀膜玻璃存在抗氧化性能略差、膜层耐磨性能差、耐碱性能差和耐酸性能差等缺陷。采用该镀膜玻璃制备而得的钢化玻璃，其性能尚不能符合人们的要求。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题是提供一种热稳定性好、抗氧化性能好、膜层牢固度好、 耐磨与耐碱性能好的。为了解决上述技术问题，本专利技术提供一种可钢化的低辐射镀膜玻璃，其特征是在玻璃基片的表面从下至上依次设置电介质层I、电介质层II、金属阻挡层I、银层、金属阻挡层II、电介质层III和电介质层IV ；电介质层I与玻璃基片的表面相连，电介质层I和电介质层IV为氧化硅(SiO2)层，电介质层II和电介质层III为氧化锌的锡酸盐(SnZnO3)层， 金属阻挡层I和金属阻挡层II为镍铬合金(NiCr)层。作为本专利技术的可钢化的低辐射镀膜玻璃的改进玻璃基片的厚度为4 12mm。作为本专利技术的可钢化的低辐射镀膜玻璃的进一步改进电介质层I、电介质层II、 金属阻挡层I、银层、金属阻挡层II、电介质层III和电介质层IV厚度依次为68 72nm、 66 70nm、0. 9 1. lnm、8 10nm、0. 8 1. 0nm、56 60nm 禾口 53 57nm。本专利技术还同时提供了上述可钢化的低辐射镀膜玻璃的制备方法，依次进行以下步骤1)、配制镀层材料电介质层I和电介质层IV采用Si作为靶材；电介质层II和电介质层III采用锡和锌混合的浇铸圆柱型靶作为靶材，Zn Sn 的重量比为=50 50;金属阻挡层I和金属阻挡层II采用镍铬合金作为靶材，镍铬的重量比为 80 20 ；银层采用银作为靶材；2)、在平面磁控镀膜机中，使本体真空压力低于1. OX 10_5Torr，镀膜室I 镀膜室 VII内的溅射压力为1. 7X IO-3Torr 3. OX 10_3Torr ；将玻璃基片依次进行以下操作①、将玻璃基片送入镀膜室I内，在镀膜室I内设置Si作为靶材；采用旋转靶的方式，控制方式采用中频电源溅射；将O2 Ar = 1 2的流量比通入镀膜室I内；从而在玻璃基片上形成膜层厚度为68 72nm的SW2层作为电介质层I ；②、将步骤①的所得物送入镀膜室II内，在镀膜室II内设置锡和锌混合的浇铸圆柱型靶，采用旋转靶的方式，控制方式采用中频电源溅射；将A Ar = 2 1的流量比通入镀膜室II内；从而在电介质层I上形成膜层厚度为66 70nm的SnaiO3层作为电介质层II ；③、将步骤②的所得物送入镀膜室III内，在镀膜室III内设置镍铬合金作为靶材，控制方式采用直流电源溅射；将Ar通入镀膜室III内；从而在电介质层II上形成膜层厚度为0. 9 1. Inm的镍铬合金层作为金属阻挡层I ；④、将步骤③的所得物送入镀膜室IV内，在镀膜室IV内设置银作为靶材，控制方式采用直流电源溅射；将Ar通入镀膜室IV内；从而在金属阻挡层I上形成膜层厚度为8 IOnm的银层；⑤、将步骤④的所得物送入镀膜室V内，在镀膜室V内设置镍铬合金作为靶材，控制方式采用直流电源溅射；将Ar通入镀膜室V内；从而在银层上形成膜层厚度为0. 8 1. Onm的镍铬合金层作为金属阻挡层II ；⑥、将步骤⑤的所得物送入镀膜室VI内，在镀膜室VI内设置锡和锌混合的浇铸圆柱型靶，采用旋转靶的方式，控制方式采用中频电源溅射；使A Ar = 2 1的流量比通入镀膜室VI内；从而在金属阻挡层II上形成膜层厚度为56 60nm的SnaiO3层作为电介质层III ；⑦、将步骤⑥的所得物送入镀膜室VII内，在镀膜室VII内设置Si作为靶材，采用旋转靶的方式，控制方式采用中频电源溅射；将A Ar = 6 1的流量通入镀膜室VII内； 从而在电介质层III上形成膜层厚度为53 57nm的SiO2层作为电介质层IV。SiSnO3在申请号为200910089738. 9的专利中有相应告知。本专利技术的可钢化的低辐射镀膜玻璃具有较好的热稳定性，能确保在钢化或热弯钢化过程中玻璃表面不会受到环境的攻击；从而防止玻璃中的Na+离子扩散到膜层中。在本专利技术中，氧化锌的锡酸盐(SnZnO3)和氧化硅(SiO2)是可钢化的电介质材料， 其可防止氧气和水分的渗透。作为金属阻挡层I和金属阻挡层II的镍铬合金(NiCr)层的厚度必须控制在0. 7nm以上；目的是为了保护在700°C的钢化温度时，银层不会被氧化。本专利技术的可钢化的低辐射镀膜玻璃具有以下优点1、本专利技术将常规用的锡和锌两个靶材合并为一个旋转锌锡靶，富氧溅射。该材料 (旋转锌锡靶)具有沉积率高，价格便宜的特点，且SnaiO3是很耐久的材料。在膜层厚度相同的情况下，氧化锌具有较低的光线吸收率，可得到较高的光线透过率。2、本专利技术的可钢化的低辐射镀膜玻璃，可见光透过率控制在85% 87%，具有较高的遮阳系数(遮阳系数在0. 6以上)。玻璃面和膜面的光学参数均控制在自然色(中性) 颜色范围内。3、本专利技术的可钢化的低辐射镀膜玻璃，反射率小于9%。4、本专利技术的可钢化的低辐射镀膜玻璃，以6mm透明玻璃作为玻璃基片，可进行钢化或弯钢化，在进行钢化或热处理后光学性能基本保持不变。具体性能参数如下钢化前镀膜面T 82. 5%, L :31. 31，a -l. 37，b :1. 00 ；玻璃面 L :35. 02，a -l. 80， b :-4. 96。钢化后镀膜面T 85. 5%,L :32. 36，a :_1· 11,b :_0· 86 ；玻璃面 L :33. 97,a :-1. 31， b :-4. 38。钢化前后光学参数的变化ΔΤ = 3% ； AEf = 1. 09 ； AEg = 1. 30。上述光学性能按GB/T 2680进行检测，采用的仪器是分光光度计=Gradner TCSH ； 手提式测色差仪CheekTM。5、本专利技术的可钢化的低辐射镀膜玻璃符合GB/T 18915.2-2002的要求，具体如下耐磨性好试验前后试样的可见光透视比值的绝对值小于4%，膜层牢固度好；耐碱性好试验前后试样的可见光透视比值的绝对值小于4% ；耐酸性略差试验前后试样的可见光透视比值的绝对值小于7%。6、本专利技术的可钢化的低辐射镀膜玻璃，钢化或热弯钢化后，玻璃的抗氧化性能大幅度提高。在自然环境、无贴膜单片情况下能放置4-6个月左右。6个月后，膜面仅出现少量的小白点。7、本专利技术的可钢化本文档来自技高网...
【技术保护点】
１．可钢化的低辐射镀膜玻璃，其特征是：在玻璃基片（１）的表面从下至上依次设置电介质层Ｉ（２）、电介质层ＩＩ（３）、金属阻挡层Ｉ（４）、银层（５）、金属阻挡层ＩＩ（６）、电介质层ＩＩＩ（７）和电介质层ＩＶ（８）；所述电介质层Ｉ（２）与玻璃基片（１）的表面相连，电介质层Ｉ（２）和电介质层ＩＶ（８）为氧化硅层，电介质层ＩＩ（３）和电介质层ＩＩＩ（７）为氧化锌的锡酸盐层，金属阻挡层Ｉ（４）和金属阻挡层ＩＩ（６）为镍铬合金层。
【技术特征摘要】
1.可钢化的低辐射镀膜玻璃，其特征是在玻璃基片(1)的表面从下至上依次设置电介质层I ( 、电介质层II (3)、金属阻挡层I (4)、银层( 、金属阻挡层II (6)、电介质层 111(7)和电介质层IV(S)；所述电介质层I (2)与玻璃基片(1)的表面相连，电介质层I (2) 和电介质层IV(S)为氧化硅层，电介质层II C3)和电介质层111(7)为氧化锌的锡酸盐层， 金属阻挡层1(4)和金属阻挡层11(6)为镍铬合金层。2.根据权利要求1所述的可钢化的低辐射镀膜玻璃，其特征是所述玻璃基片(1)的厚度为4 12mm。3.根据权利要求1或2所述的可钢化的低辐射镀膜玻璃，其特征是所述电介质层 I (2)、电介质层II (3)、金属阻挡层I (4)、银层(5)、金属阻挡层11(6),电介质层III (7)和电介质层 IV (8)厚度依次为68 7&im、66 70nm、0. 9 1. lnm、8 10nm、0. 8 1. Onm> 56 60nm 禾口 53 57nm。4.如权利要求1 3中任意一种可钢化的低辐射镀膜玻璃的制备方法，其特征是依次进行以下步骤1)、配制镀层材料电介质层I (2)和电介质层IV(S)采用Si作为靶材；电介质层11(3)和电介质层111(7)采用锡和锌混合的浇铸圆柱型靶作为靶材，所述 Zn Sn的重量比为=50 50 ；金属阻挡层I (4)和金属阻挡层II (6)采用镍铬合金作为靶材，所述镍铬的重量比为 80 20 ；银层(5)采用银作为靶材；2)、在平面磁控镀膜机中，使本体真空压力低于1.OX IO-5Torr,镀膜室I 镀膜室VII 内的溅射压力为1. 7X IO-3Torr 3. OX KT3Torr ；将玻璃基片(1)依次进行以下操作①、将玻璃基片(1)送入镀膜室I内，在镀膜室I内设置Si作为靶材；采用旋转靶的方式，...
【专利技术属性】
技术研发人员：蔡焱森，路海泉，
申请(专利权)人：杭州春水镀膜玻璃有限公司，
类型：发明
国别省市：86
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