基板处理设备制造技术

在基板处理设备中，设置有涂覆模块和干燥模块。在涂覆模块中，光致抗蚀膜被涂覆到所述基板上，所述基板在传送方向上被水平传送。干燥模块靠近所述涂覆模块，基板上的光致抗蚀膜在所述干燥模块中被干燥。所述带有光致抗蚀膜的基板直接从所述涂覆模块传送到干燥模块，不需要传送机器人。因此，所述处理设备的制造成本和维护成本下降。

【技术实现步骤摘要】

实施例涉及基板处理设备，尤其是涉及在平板显示器设备的基板上形成并干燥光致抗蚀膜的设备。
技术介绍
电子线路图案一般是形成在平板显示器装置的基板(例如半导体基板和平玻璃) 上。该电子线路图案通常是通过一系列处理，诸如依次进行的沉积处理、光刻处理、蚀刻处理、以及清洗处理形成在基板上。具体地，光刻处理包括将光致抗蚀膜涂覆在基板上的涂覆处理、干燥该光致抗蚀膜的干燥处理、硬化该光致抗蚀膜的软烤(soft baking)处理、将中间掩模图案(reticle pattern)转录到光致抗蚀膜上的曝光处理、将光致抗蚀膜显影成光致抗蚀图案的显影处理、以及硬化光致抗蚀膜的硬烤Oiard baking)处理。光刻处理中的各单元处理可以在各自的单元处理模块中进行，并且基板通常由传送机器人传送入/出单元处理模块。例如，在单元处理模块中进行过涂覆处理的基板被传送机器人传送到另一用于干燥处理的处理模块。然而，由于传送机器人成本很高，会有光刻设备的制造成本也必定增加的问题。并且，当传送机器人用于将基板传送入/出处理模块时，基板的处理速度难以增加，并且处理模块难以和另外的模块一起进行整体操作。
技术实现思路
本专利技术理念的实施例提供了一种在无需传送机器人即可水平传送的基板上形成光致抗蚀膜的装置。根据本专利技术理念的一些实施例，提供了一种基板处理设备。该设备包括用于将光致抗蚀膜涂覆到所述基板上的涂覆模块，所述基板在传送方向上被水平传送；以及靠近所述涂覆模块的干燥模块，所述干燥模块对直接从所述涂覆模块传送过来的所述基板上的所述光致抗蚀膜进行干燥。在一实施例中，所述涂覆模块包括将空气供应到所述基板从而使所述基板漂浮在空气中的涂覆空气供应部；在所述传送方向上水平传送所述漂浮基板的传送单元；以及位于所述涂覆空气供应部上方并以基本垂直于所述传送方向的喷嘴方向延伸的喷嘴。光致抗蚀材料通过所述喷嘴被供应到所述基板。在一实施例中，所述涂覆空气供应部包括带有多个孔的穿孔板，所述空气流经所述多个孔。不然的话，所述涂覆空气供应部包括带有多个微孔的多孔板和封闭所述多孔板侧面的侧挡板，所述空气流经所述多个微孔。在一实施例中，所述传送单元包括多个真空卡盘，所述真空卡盘通过真空压保持住所述基板的边缘部。具体地，所述传送单元将所述基板传送到所述干燥模块内部。在一实施例中，所述传送单元包括多个滚轮，所述滚轮支撑住所述基板的两横向边缘部并沿传送方向排列成一直线。在一实施例中，所述干燥模块包括干燥室，所述干燥室具有容置所述基板的干燥空间；位于所述干燥室内的干燥空气供应部，所述干燥空气供应部将空气供应到所述基板从而使所述基板漂浮在空气中；位于所述干燥空气供应部上并支撑所述干燥室内所述基板的支撑部；以及将真空压施加到所述干燥室内部的真空单元。所述基板上的光致抗蚀膜通过所述干燥室内部的真空来干燥。在一实施例中，所述干燥空气供应部包括带有多个孔的穿孔板，所述空气流经所述多个孔。所述干燥空气供应部包括带有多个微孔的多孔板和封闭所述多孔板侧面的侧挡板，所述空气流经所述多个微孔。在一实施例中，所述干燥模块进一步包括在所述传送方向上水平传送所述漂浮基板的传送单元。所述传送单元包括多个真空卡盘，所述真空卡盘通过真空压保持住所述基板的边缘部。不然的话，所述传送单元包括多个滚轮，所述滚轮支撑住所述基板的两横向边缘部并沿传送方向排列成一直线。在一实施例中，所述干燥室包括进口和出口，所述基板通过所述进口沿所述传送方向传送到所述干燥室中并且通过所述出口沿所述传送方向传送出所述干燥室。所述进口和出口包括用于将所述干燥室的干燥空间与周围环境相隔离的闸阀。在一实施例中，所述支撑部包括多个位于所述干燥空气供应部上的支撑销，所述支撑销上下移动，从而防止所述基板在传送出入所述干燥室时被所述支撑销干扰。根据本专利技术理念的某些实施例，处理设备包括涂覆模块和干燥模块。基板经由涂覆模块和干燥模块从装载部水平传送到卸载部。具体地，基板直接从涂覆模块传送到干燥模块。在涂覆模块和干燥模块中，基板分别通过涂覆空气供应部和干燥空气供应部漂浮在空气中，并且通过各自的传送单元在传送方向上水平移动。即，基板在处理设备中以成一直线地方式处理，从而降低了处理时间。另外，处理设备可以不需要传送机器人，因此与现有的处理设备相比较制造成本和维护成本显著下降。附图说明从以下结合附图的具体说明将清楚地理解实施例。图1是显示根据本专利技术实施例的基板处理设备的示意图；图2和图3为示意性地显示图1所示根据本专利技术理念的第一实施例的处理设备的涂覆模块的视图；图4为图2和图3所示涂覆空气供应部第一修改实施例的剖视图；图5为图2和图3所示涂覆空气供应部第二修改实施例的剖视图；图6和图7为图2和图3所示涂覆空气供应部的第三修改实施例的示意图；图8和图9为图2和图3所示涂覆空气供应部的第四修改实施例的示意图；图10和图11为根据本专利技术理念的第二实施例的图1所示处理设备的涂覆模块的示意图；图12和13为图1所示根据本专利技术理念的第一实施例的处理设备的干燥模块的示意图14是显示图12和13所示干燥空气供应部修改实施例的剖视图；图15和16为图1所示根据本专利技术理念的第二实施例的处理设备的干燥模块的示意图。具体实施例方式参考实施例示出的附图，下文将更详细地描述各种实施例。然而，本专利技术可以以许多不同的形式实现，并且不应解释为受在此提出之实施例的限制。相反，提供这些实施例是为了达成充分及完整公开，并且使本
的技术人员完全了解本专利技术的范围。这些附图中，为清楚起见，可能放大了层及区域的尺寸及相对尺寸。应理解，当将元件或层称为在另一元件或层“上”、与另一元件或层“连接”或“结合”之时，其可为直接在另一元件或层上、与其它元件或层直接连接或结合，或者存在居于其间的元件或层。与此相反，当将元件称为“直接在另一元件或层上”、与另一元件或层“直接连接”或“直接结合”之时，并不存在居于其间的元件或层。通篇中相同标号是指相同的元件。如本文中所使用的，用语“及/或”包括一或多个相关的所列项目的任何或所有组合。应理解，尽管本文中使用第一、第二、第三等来描述多个元件、组件、区域、层及/ 或部分，但这些元件、组件、区域、层及/或部分并非受到这些用语的限制。这些用语仅用于使一个元件、组件、区域、层或部分与另一个区域、层或部分区别开来。由此，下文所称之第一元件、组件、区域、层或部分可称为第二元件、组件、区域、层或部分，而不脱离本专利技术的教导。与空间相关的表述，如“下方” “以下” “下”、“上方” “上”等，在本文中的使用是为了容易地表述如图所示的一个元件或部件与另一元件或部件的关系。应理解，这些与空间相关的表述除图中所示方位之外，还意欲涵盖该设备在使用或工作中的不同方位。例如， 若图中的该设备翻转，描述为在“其它元件或部件之下”、或“在其它元件或部件下方，，的元件则会定位成“在其它元件或部件上方”。由此，该示范性的表述“在...下方”可同时涵盖 “在...上方”与“在...下方”两者。该设备可为另外的朝向(旋转90度或其它朝向)， 并且本文中所使用的这些与空间相关的表述亦作相应的解释。本文中所使用的术语仅用于描述特定的实施例，并且并不意欲限制本专利技术。如本文中所述的，单数形式的冠词意欲包括复数形式，除非其上本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种基板处理设备，包括：用于将光致抗蚀膜涂覆到所述基板上的涂覆模块，所述基板在传送方向上被水平传送；以及靠近所述涂覆模块的干燥模块，所述干燥模块对直接从所述涂覆模块传送过来的所述基板上的所述光致抗蚀膜进行干燥。

【技术特征摘要】
2010.01.12 KR 10-2010-00024701.一种基板处理设备，包括用于将光致抗蚀膜涂覆到所述基板上的涂覆模块，所述基板在传送方向上被水平传送；以及靠近所述涂覆模块的干燥模块，所述干燥模块对直接从所述涂覆模块传送过来的所述基板上的所述光致抗蚀膜进行干燥。2.根据权利要求1所述的设备，其中所述涂覆模块包括将空气供应到所述基板从而使所述基板漂浮在空气中的涂覆空气供应部；在所述传送方向上水平传送所述漂浮基板的传送单元；以及位于所述涂覆空气供应部上方并以基本垂直于所述传送方向的喷嘴方向延伸的喷嘴， 光致抗蚀材料通过所述喷嘴被供应到所述基板。3.根据权利要求2所述的设备，其中所述涂覆空气供应部包括带有多个孔的穿孔板， 所述空气流经所述多个孔。4.根据权利要求2所述的设备，其中所述涂覆空气供应部包括带有多个微孔的多孔板和封闭所述多孔板侧面的侧挡板，所述空气流经所述多个微孔。5.根据权利要求2所述的设备，其中所述传送单元包括多个真空卡盘，所述真空卡盘通过真空压保持住所述基板的边缘部。6.根据权利要求5所述的设备，其中所述传送单元将所述基板传送到所述干燥模块内部。7.根据权利要求2所述的设备，其中所述传送单元包括多个滚轮，所述滚轮支撑住所述基板的两横向边缘部并沿传送方向排列成一直线。8.根据权利要求1所述的设备，其中所述干燥模块包括干燥室，所述干燥室具有容置所述基板的干燥空间；位于所述干...

【专利技术属性】
技术研发人员：咸胜元，
申请(专利权)人：细美事有限公司，
类型：发明
国别省市：KR