石英玻璃坩埚用盖、石英玻璃坩埚及其使用处理方法技术

本发明专利技术通过提供一种避免坩埚原料粉末侵入到坩埚内表面的方法，可靠地避免到坩埚的实际使用时期为止异物侵入到石英玻璃坩埚内部，从而能够在不受污染状态下使用处理坩埚。一种安装在石英玻璃坩埚（1）的开口部（2）上的盖（3），其具有紧密接合在所述开口部（2）的外周端（2a）上的凸缘部（4）。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种石英玻璃坩埚、包括用在制造单晶硅(monocrystal 1 ine silicon)的拉晶工序中的石英玻璃坩埚，且本专利技术尤其提供一种在保管或搬运制造后的石英玻璃坩埚的过程中，避免异物侵入该坩埚内表面的结构。
技术介绍
在制造单晶硅时，用于熔融作为单晶硅原料的多晶硅的石英玻璃坩埚，通常是在制造后经过清洗后再进行检查，且合格品是经装袋等之后出厂。但是，随着半导体材料向高纯度发展，抑制单晶硅制造过程中的各种污染尤为重要，也期望将石英玻璃坩埚的污染抑制在最小限度内。即，在使用石英玻璃坩埚进行拉晶时，需要在使用之前用超纯水等清洗坩埚内部等细心注意污染。为此，重要的是制造完成的坩埚从出厂到使用为止的期间防止坩埚受到粉尘等的污染。尤其是近年来存在为了提高单晶硅的制造效率，而使石英玻璃坩埚的尺寸逐渐增大的倾向，这种大直径的坩埚不易进行使用处理，例如在制造坩埚后的检查或装袋等作业中，也容易受到污染。为了解决所述问题，而期望在清洗石英玻璃坩埚之后，以洁净状态机械包装石英玻璃坩埚，在专利文献1中，揭示有在洁净状态下自动包裹(wrapping)经清洗的石英玻璃坩埚的装置。专利文献1日本专利特开2000-219207号公报。
技术实现思路
可通过使用专利文献1中记载的装置进行包裹，而在洁净状态下保管经清洗的石英玻璃坩埚，从而尤其可避免出厂时的污染，但此种包裹需要昂贵装置，且包裹无法再利用，因此防止坩埚内的污染所需成本巨大。由此，期望提供一种用于避免石英玻璃坩埚内的污染的低价方法。由此，本专利技术的目的在于能在坩埚的实际使用前，价廉且可靠地避免异物侵入到石英玻璃坩埚内部，从而在不受污染状态下使用处理坩埚。本专利技术的
技术实现思路
构成如下。( 1) 一种石英玻璃坩埚用盖，其安装在石英玻璃坩埚的开口部，其特征在于具有 紧密接合在所述开口部的外周端的凸缘部。(2)根据所述(1)记载的石英玻璃坩埚用盖，其特征在于在相接于所述开口部的周端面的区域中设置着黏接构件。(3)根据所述(1)记载的石英玻璃坩埚用盖，其特征在于在相接于所述开口部的周端面的区域中设置着弹性构件。(4)根据所述(1)、(2)或(3)记载的石英玻璃坩埚用盖，其特征在于至少内表面的金属成分附着量0.05 ng/cm2以下。(5)根据所述(1)至(4)中任一项记载的石英玻璃坩埚用盖，其特征在于具有可挠性。(6)根据所述(1)至(5)中任一项记载的石英玻璃坩埚用盖，其特征在于具有识别码。(7)根据所述(1)至(6)中任一项记载的石英玻璃坩埚用盖，其特征在于至少一部分为透明。(8) —种石英玻璃坩埚，开口部具有圆盘状的盖，其特征在于使此盖的凸缘部紧密接合在所述开口部的外周端并固定盖。(9) 一种石英玻璃坩埚的使用处理方法，其特征在于制造单晶硅时，将多晶硅装入到石英玻璃坩埚内之后，在将此多晶硅熔融前的待机期间，将所述1至7中任一项记载的盖安装在所述石英玻璃坩埚的开口部。根据本专利技术，能够可靠地避免石英玻璃坩埚的原料粉末侵入到坩埚内表面，进而可靠地避免异物侵入到石英玻璃坩埚内部，因此，可在坩埚出厂到多晶硅的熔融工序为止的期间，在坩埚内表面不受污染的状态下使用处理石英玻璃坩埚。附图说明图1是本专利技术的坩埚用盖的坩埚的径向截面图。图2是本专利技术的其他坩埚用盖的坩埚的径向截面图。图3是本专利技术的其他坩埚用盖的坩埚的径向截面图。图4是本专利技术的其他坩埚用盖的坩埚的径向截面图。图5是本专利技术的其他坩埚用盖的坩埚的径向截面图。图6是本专利技术的其他坩埚用盖的坩埚的径向截面图。图7是本专利技术的其他坩埚用盖的坩埚的径向截面图。图8是坩埚的使用处理相关工序图。具体实施例方式以下，参照附图对安装着本专利技术的盖的石英玻璃坩埚进行详细说明。图1 (a)表示安装本专利技术的盖前的坩埚的径向截面，图1 (b)表示安装盖之后的坩埚的径向截面。该图1中，符号1是石英玻璃制坩埚(以下，简称为坩埚)，且在此坩埚1的开口部 2上安装盖3。此盖3为和所述开口部2相似的圆盘状，且具有紧密接合在坩埚1的开口部 2的外周端2a上的凸缘部4。S卩，如图1 (b)所示，盖3是通过使凸缘部4紧密接合在外周端2a上而安装在坩埚1的开口部2。此处，为无间隙地堵塞开口部2，凸缘部4的直径等于或略微小于坩埚1的外径为好。进而，就可靠地拆装盖方面而言，由丙烯腈-丁二烯-苯乙烯(acrylonitrile butadiene styrene, ABS)树脂、聚氨酯树脂(urethane resin)、聚乙烯、聚丙烯、聚氯乙烯 (vinyl chloride)、丙烯酸树脂、聚碳酸酯(polycarbonate)等可挠性材料构成盖3为好， 由此在安装时使盖3整体或者盖3的凸缘部4朝径向外侧挠曲，从而可如图2 (b)所示利用盖3的回复力将凸缘部4按压在外周端2a上。当将如上构成的盖3安装在坩埚1的开口部2时，盖3将紧密接合在开口部2的4外周端2a及周端面2b，开口部2将被确实堵塞，从而可预防附着在坩埚1上的原料粉末等例如随着包裹而引到坩埚1内部，因而能够可靠地避免异物侵入到坩埚内部。而且，如图2所示，优选在盖3的内部侧上和开口部2的周端面2b相接的区域设置着黏接构件5。其原因在于，如果使用具有这种黏接构件5的盖3，并将盖3安装在坩埚 1的开口部2，那么，坩埚1将和盖3更加紧密接合，使得坩埚1作为容器的密封性进一步提高，因而可有效地防止从盖3和坩埚1之间渗透进入的例如水分等异物的浸入。另外，外部空气中所含水分中有时溶入导致坩埚性能降低的金属元素，因而，就维持坩埚性能而言，优选降低此水分的渗透量。而且，专利技术者发现如图1所示，如果未插入黏接构件5而使盖3 安装在坩埚1上，那么，有可能会因盖3和坩埚1的开口部2的周端面2b接触而产生磨耗粉末，此种磨耗粉末将作为异物侵入到坩埚1内部。然而，如图2所示，通过在盖3和坩埚 1之间插入黏接构件5，则不仅磨耗粉末本就难以产生，而且可通过黏接构件5吸附所产生的磨耗粉末，而更有效地抑制磨耗粉末侵入到此坩埚1内部。另外，此处所说的“黏接构件” 是指黏接剂自身或黏接剂设置在任意基材上而形成的黏接片材等，且从粘接固定的可靠性及剥离的简便性等方面来看，优选可相对安装对象自由拆装，即便在安装后剥离，也不会部分残留在其粘帖对象上。并且，从提高坩埚1和盖3的紧密接合性来看，优选为具有弹性的黏接构件5。或者，虽然未图示，但是在盖3的内部侧上和开口部2的周端面2b相接的区域中设置弹性构件为好。其原因在于，如果使用具有如此的黏接构件的盖3，并将盖3安装在坩埚1的开口部2，那么，坩埚1将和盖3更加紧密接合，使得坩埚1作为容器的密封性进一步提高，因而可有效地防止从盖3和坩埚1之间渗透进入的例如水分等异物的浸入。另外，外部空气中所含水分中有时溶入导致坩埚性能降低的金属元素，因而，就维持坩埚性能而言， 优选降低此水分的渗透量。此外，和黏接构件5相同，磨耗粉末的产生受到抑制，故不存在如此的磨耗粉末作为异物侵入到坩埚1内部的可能性。而且，从提高坩埚1和盖3的紧密接合性来看，优选弹性构件具有上述的黏接性。另外，本专利技术中使用的黏接构件及弹性构件只要满足所述特性则不受特别限定， 例如可以使用丙烯酸系、橡胶系，尤其在丙烯酸系中使用乳胶(emulsion)型，在橡胶系中使本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种石英玻璃坩埚用盖，其安装在石英玻璃坩埚的开口部，其特征在于具有：紧密接合在所述开口部的外周端上的凸缘部。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2009.06.02 JP 2009-1332531.一种石英玻璃坩埚用盖，其安装在石英玻璃坩埚的开口部，其特征在于具有紧密接合在所述开口部的外周端上的凸缘部。2.根据权利要求1所述的石英玻璃坩埚用盖，其特征在于在相接于所述开口部周端面的区域中设置有黏接构件。3.根据权利要求1所述的石英玻璃坩埚用盖，其特征在于在相接于所述开口部周端面相接的区域中设置有弹性构件。4.根据权利要求1至3中任一项所述的石英玻璃坩埚用盖，其特征在于至少内表面的金属成分附着量为0. 05 ng/cm2以下...

【专利技术属性】
技术研发人员：佐藤贤，大原真美，高濑伸光，
申请(专利权)人：日本超精石英株式会社，胜高股份有限公司，
类型：发明
国别省市：JP