新型光工作站制造技术

本实用新型专利技术公开了一种光工作站，具体涉及一种高电平输出光工作站，包括上外壳（１）、下外壳（２）和内部结构，特征是：在下外壳（１）的接触面（３）设有一凸圈（４），在上外壳（２）的接触面（５）的相应位置处设有一凹圈（６）；所述的凸圈（４）和凹圈（６）至少一个以上。本实用新型专利技术的有益效果是：外壳接触面上的凸圈和凹圈在闭合时相互紧扣，有效的阻止进入到光工作站内损坏内部部件。（*该技术在2020年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
新型光工作站，包括上外壳（１）、下外壳（２）和内部结构，特征是：在下外壳（１）的接触面（３）设有一凸圈（４），在上外壳（２）的接触面（５）的相应位置处设有一凹圈（６）。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：龙永庆，余波，宗瑞朝，李恒仕，
申请(专利权)人：成都康特电子高新科技公司，
类型：实用新型
国别省市：90[中国|成都]