气密容器、图像显示装置和电视装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及气密容器、图像显示装置和电视装置。为了提高气密容器的框架附近的基板表面的机械强度并由此提高气密容器的可靠性，气密容器满足Ｈ１＜Ｈ２＜Ｈ３和１．３（Ｈ２－Ｈ１）／Ｌ＜（Ｈ３－Ｈ２）／Ｗ，这里，Ｈ２是框架的在气密容器内部空间侧的边缘的高度，Ｈ３是框架的在气密容器内部空间侧的相对侧的边缘的高度，Ｗ是框架的宽度，Ｈ１是隔离件的平均高度，Ｌ是相邻的隔离件的间隔。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及内部压力降低的气密容器、使用气密容器的图像显示装置和使用图像 显示装置的电视装置。
技术介绍
使用场发射型电子发射器件或表面传导型电子发射器件的平板型图像显示装置 是已知的。一般地，在具有高于约10_4Pa的真空度并且内部压力降低的气氛(真空)中操 作电子发射器件。出于这种原因，对于使用电子发射器件的图像显示装置，具有耐大气压结 构的气密容器(即，真空容器)是必需的。这里，由于由外部压力(大气压力)和内部压力 (真空)之间的差导致的外力(大气压力)被施加到气密容器，因此气密容器被外力压缩并 由此变形。更具体而言，如果气密容器过度变形，那么存在设置在气密容器内的电子发射器 件和发光体的相对位置改变的可能性。并且，还存在由于应力集中在气密容器的玻璃表面 上因而该玻璃被破坏的可能性。另一方面，近年来，随着平板型图像显示装置的屏幕尺寸增 大，气密容器的负荷趋于增大。出于这种原因，提出了一种图像显示装置，该图像显示装置 包含用于在其气密容器内维持空间的隔离件。以下，将参照图2A和图2B描述其中使用电子发射器件的图像显示装置的气密容 器的典型例子。更具体而言，图2A是示出其中可视地并且示意性地示出隔离件4和框架3 的气密容器99的二维示意图，图2B是沿图2A中指示的2B-2B线观察的气密容器99的示 意性截面图。气密容器99包含前基板1，在所述前基板1上设置有诸如荧光体等的发光 体5和诸如金属背等的阳极7 ；后基板2，在所述后基板2上设置电子源6，所述后基板2被 布置为与前基板1相对；框架3，所述框架3将前基板1和后基板2在它们的周边处相互连 接。前基板1和后基板2中的每一个典型地由玻璃板制成。此外，在由前基板1、后基板2 和框架3形成的气密容器99的内部空间98内，在前基板1和后基板2之间布置板隔离件 4。这里，框架3包含由玻璃或金属等构成的框架部件和由玻璃料(frit)或低熔点金属等 构成的接合部件。此外，接合部件具有用于将前基板1、后基板2和框架部件相互连接的密 封功能。近年来，平板型图像显示装置的轻薄化得到加速。在这种情况下，需要进一步减小 构成前基板1和后基板2的玻璃板的厚度。关于这一点，日本专利申请公开No. 2002-358915 和日本专利申请公开No. H10-254375分别公开了使框架的高度比隔离件的高度高的技术。
技术实现思路
为了解决如上所述的问题，完成了本专利技术，并且，本专利技术的特征在于提供一种气密 容器，该气密容器具有前基板；与前基板相对的后基板；多个隔离件，在前基板和后基板 之间以预定间隔被布置；以及框架，被设置在前基板和后基板之间，并且包围所述多个隔离 件，所述气密容器的被前基板、后基板和框架包围的内部空间维持在低于大气压力的压力， 其中，气密容器满足H1 < H2 < H3和1. 3 (H2-H1) /L < (H3-H2) /W，这里，H1是隔离件的平均高度，H2是框架的内部空间侧的边缘的高度(侧面的高度)，H3是框架的内部空间侧的相对侧 的边缘的高度(侧面的高度)，W是框架的宽度，L是所述预定间隔。参照附图阅读示例性实施例的以下描述，本专利技术的其它特征将变得清晰。附图说明图1是示出根据本专利技术的实施例的气密容器的框架的附近的示意性截面图。图2A是示出根据本专利技术的实施例的气密容器的二维示意图，图2B是沿图2A中指 示的2B-2B线观察的气密容器的示意性截面图。图3是示出根据本专利技术的实施例的框架的例子的截面图。图4是示出其中使用柱状隔离件的气密容器的二维示意图。图5A、图5B和图5C是分别示出框架的修改例子的图。图6A、图6B和图6C是分别示出框架的其它修改例子的图。图7是示出应用本专利技术的实施例的电视装置的框图。具体实施例方式现在将根据附图详细描述本专利技术的优选实施例。如果前基板1和后基板2中的每一个的厚度减小，那么施加到前基板1和后基板2 中的每一个的应力增大。因此，可设想通过进一步增强支撑结构，例如，通过增大要被布置 的隔离件4的数量，减小前基板1和后基板2中的每一个的表面上的应力。但是，由于隔离 件4和框架3的高度的必要的精度，因此这种方法存在限制。因此，需要通过其它的方法减 小要施加到前基板1和后基板2中的每一个的应力。如日本专利申请公开No. 2002-358915和日本专利申请公开No. H10-254375建议 的那样，如果使框架3的高度高于隔离件的高度高，那么，在隔离件正上方在前基板1和后 基板2中的每一个的表面上产生压缩应力，由此各基板的强度可增大。但是，作为专利技术人的 考虑的结果发现，如果使框架的高度高于隔离件的高度，那么在使得高度高于隔离件的高 度的框架的正上方产生比基板的表面上的压缩应力大的拉伸应力，由此存在气密容器的总 体应力反而降低的情况。因此，本专利技术的目的是，抑制气密容器的强度的降低而不牺牲气密容器的轻薄化。根据本专利技术，能够在框架正上方的位置处给予基板预定的翘曲。作为结果，能够获 得这样的气密容器，在该气密容器中，在框架正上方的位置处的基板上产生的应力被减小。图1是示出根据本专利技术的实施例的气密容器99的框架3的附近的示意性部分截 面图，并且是沿Y方向取的截面图(即，Y方向截面图)。此外，图3是详细示出图1所示的 框架3的构成的例子的示意性截面图。在图1中，框架3附近以外的气密容器99的构成与 参照图2A和图2B描述的常规的气密容器的构成基本上相同。S卩，图1中的气密容器99的 平面图不与图2A中的不同，由此，这里将省略框架3附近以外的气密容器99的构成的详细 描述。当气密容器99被应用于图像显示装置时，在气密容器99的内部空间98内布置至 少多个图像形成器件。图像形成器件中的每一个可由发光体和用于供给使发光体发光的能量的装置构成。此外，作为用于供给能量的装置，例如，可以使用电子发射器件。在这种情况下，以与图 2B所示的方式相同的方式，在后基板2上布置电子源，所述电子源包含大量的冷阴极电子 发射器件。这里，作为冷阴极电子发射器件，例如，可以使用Spindt型场发射器件、表面传 导型场发射器件或MIM(金属-绝缘体-金属)场发射器件等，并且，不特别限制这种冷阴 极电子发射器件的种类。此外，作为图像形成器件，例如，还可以使用无机EL(电致发光) 器件或有机EL器件。当使用EL器件作为图像形成器件时，配备有包含图像形成器件的气 密容器的图像显示装置用作EL显示器。有机EL器件具有这样的结构发光层被插入构成 一对电极的两个电极之间。并且，图像形成器件可由发光体和等离子发生器(即，紫外光发 生器)构成，所述等离子发生器用作用于供给使发光体发光的能量的装置。配备有包含这 样的图像形成器件的气密容器的图像显示装置用作等离子显示器。这里，虽然不特别限制气密容器的内部空间98中的压力，但是，该压力至少为低 于大气压力的压力。以下，将以使用上述的电子发射器件作为用于供给使发光体发光的能量的装置的 情况为例，描述气密容器。当使用电子发射器件时，希望将内部空间98维持为具有高于10_4Pa的真空度。 此外，在这种情况下，以与图2B所示的方式相同的方式，在内部空间98中的前基板1上布 置发光体，所述发光体响应由电子发射器件发射的电子的照射而发光。这本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种气密容器，具有：前基板；与前基板相对的后基板；多个隔离件，在前基板和后基板之间以预定间隔被布置；以及框架，被设置在前基板和后基板之间，并且包围所述多个隔离件，所述气密容器的被前基板、后基板和框架包围的内部空间维持在低于大气压力的压力，其中所述气密容器满足Ｈ↓［１］＜Ｈ↓［２］＜Ｈ↓［３］和１．３（Ｈ↓［２］－Ｈ↓［１］）／Ｌ＜（Ｈ↓［３］－Ｈ↓［２］）／Ｗ，这里，Ｈ↓［１］是隔离件的平均高度，Ｈ↓［２］是框架的在内部空间侧的边缘的高度，Ｈ↓［３］是框架的在内部空间侧的相对侧的边缘的高度，Ｗ是框架的宽度，Ｌ是所述预定间隔。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：内田武志，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]