【技术实现步骤摘要】
本技术涉及半导体生产领域，具体为一种单晶硅碇冷却支架。
技术介绍
目前半导体在人们的生活中运用非常广泛，特别是在电子电力领域更是离不开半 导体。半导体生产的圆柱形单晶硅碇一般温度较高，需要冷却后才可使用。这就需要一种 盛放温度较高的单晶硅碇的装置以进行冷却。而传统的单晶硅碇冷却是将单晶硅碇直接放 置在地面上，由于热胀冷缩易导致单晶硅碇破裂。
技术实现思路
本技术的目的是提供一种单晶硅碇冷却支架，以解决直接将单晶硅碇置于地 面易导致单晶硅碇破裂的问题。为了达到上述目的，本技术所采用的技术方案为单晶硅碇冷却支架，其特征在于包括有底板，底板上设置有底部挡圈，所述底部 挡圈的圆周上连接有多个竖直的挡板，所述挡板的顶部、挡板中间还分别设置有与底部挡 圈平行的顶部挡圈、中间挡圈，所述挡板分别连接在顶部挡圈、中间挡圈的圆周上，所述顶 部挡圈的圈边上还连接有提手。本技术结构简单，成本较低，易于实现，使用方便，通过挡圈和挡板可固定住 单晶硅碇，单晶硅碇是置于底板上的，避免了单晶硅碇和地面的直接接触而使单晶硅碇破 裂的问题，大大降低了生产过程中的浪费。附图说明图1为本技术结构示意图。具体实施方式如图1所示。单晶硅碇冷却支架，包括有底板1，底板1上设置有底部挡圈2，底部 挡圈2的圆周上连接有多个竖直的挡板3，挡板3的顶部、挡板中间还分别设置有与底部挡 圈2平行的顶部挡圈4、中间挡圈5，挡板3分别连接在顶部挡圈4、中间挡圈5的圆周上，顶 部挡圈4的圈边上还连接有提手6。权利要求单晶硅碇冷却支架，其特征在于包括有底板，底板上设置有底部挡圈，所述底部挡圈的圆周上连接有多个竖直的挡板，所述...
【技术保护点】
单晶硅碇冷却支架，其特征在于：包括有底板，底板上设置有底部挡圈，所述底部挡圈的圆周上连接有多个竖直的挡板，所述挡板的顶部、挡板中间还分别设置有与底部挡圈平行的顶部挡圈、中间挡圈，所述挡板分别连接在顶部挡圈、中间挡圈的圆周上，所述顶部挡圈的圈边上还连接有提手。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：钱新江，朱景福，
申请(专利权)人：安徽日能中天半导体发展有限公司，
类型：实用新型
国别省市：34[中国|安徽]
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