反射率测定仪制造技术

技术编号:6253266 阅读:170 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本实用新型专利技术公开了反射率测定仪,其包括用于检测用的探头、用于信号处理的主机、用于校对的标准板以及用于放置试样的工作陶瓷板,该探头与主机相接。本实用新型专利技术结构简单,测量精度高,能够统一解决现有技术的问题。(*该技术在2020年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种光波测量装置,具体涉及一种发射率测定仪。技术背景投射到物体上面被反射的辐射能与投射到物体上的总辐射能之比,称为该物体的 反射率。这是针对所有波长而言,应称为全反射率,通常简称为反射率。实际物体的发射率与物体的表面状态(包括物体表面温度、表面粗糙度以及表面 氧化层、表面杂质或涂层的存在)有关。金属的发射率随表面温度的上升而增大,而非金属的发射率一般是随表面温度的 上升而减小。金属的发射率比非金属的小得多。物体表面所能反射的光量和它所接受的光量之比。常用百分率和小数表示。不透明介质如镜面的反射率为100%,非镜面则与颜色、温度、光的属性等诸方面 因素有关。透明介质的反射率的大小与光的入射角有关,入射角越大,反射率越大,例如,光 从光密介质进入光疏介质时,当入射角达到临界角时,发生全反现象,小于临界角时,则是 部分反射。—个普适的反射率计算公式是P = (nl平方-π2)平方/(nl平方+n2)平方;其 中nl,n2分别是两种介质的真实折射率(即相对于真空的折射率)。折射率是指光线进入 不同介质时角度发生改变的现象,用sine 1/Sin θ 2来表征。θ 1,θ 2分别为入射角和折 射角,即光线与法线的夹角。通常来说,光线在临界面上的反射率仅与介质的物理性能,光线的波长,以及入射 角相关。在介质折射率连续变化的情况下(例如光线连续穿过两种不同折射率的玻璃 时),由于在不同界面的反射光线产生干涉效应,其反射率还与介质厚度有关。从而可以通 过设计特定厚度和特定折射率的涂层,来得到想要的较大或是较小反射率的复合材料。针对上述特性,人们设计出专用于涂料、颜料、油墨等化工行业的反射率测定装 置,但是这类测定装置存在结构复杂,成本高,而成测量精度不高等问题,严重影响了反射 率测定装置实际应用能力
技术实现思路
本技术针对上述现有反射率测定装置所存在的结构复杂,成本高,测量精度 不高等问题,而提供一种新型的反射率测定仪。该反射率测定仪能够有效的统一解决上述 问题。为了达到上述目的,本技术采用如下的技术方案反射率测定仪,包括用于检测的探头、用于信号处理的主机、用于校对的标准板以 及用于放置试样的工作陶瓷板,所述探头与主机相接。所述标准板为两块。所述工作陶瓷板为两块。根据上述技术方案得到的本技术具有以下特点(1)可用于涂料、颜料、油墨等化工行业,并符合相应的国际标准和国家标准;(2)可用于漆膜遮盖力的测定和发射率的测量;(3)结构简单,便于操作,测量精度高。附图说明以下结合附图和具体实施方式来进一步说明本技术。图1为本技术的结构示意图。图2为本技术中的光路原理图。具体实施方式为了使本技术实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解,下 面结合具体图示,进一步阐述本技术。参见图1,本技术提供的反射率测定仪由探头100、主机200、标准板300以及 工作陶瓷板400。探头100用于直接检测试样的发射光,该探头采用0°照射,45°接收的原理。参 见图2,直流稳压器101给灯泡102提供电源,其发光产生光源,光线依次通过透镜103、滤 色片104后垂直照射到试样106上,光线通过试样106以45°反射至硒光电池105表面,硒 光电池105表面将产生电讯号并输入至直流放大器107进行放大。主机200接收探头I00的电信号,根据该值计算得到相应发射率值,并进行实时的 显不。标准板300用于测定仪的校对,其包括一块白色标准板301和一块黑色标准板 302。利用标准板300进行校对时,先进行校零将探头100放在黑色标准板302上,调整 主机200的校正旋钮,使主机数字显示为00.0 (允许变动士0. 1);接着校正标准值把探 头100放在白色标准板301上,调整主机200的校正旋钮,使主机显示的数值与白色标准板 301的标定值一致。工作陶瓷板400用于测量时放置试样,其包括一块白色工作陶瓷板401和一块黑 色工作陶瓷板402。具体使用时,先测量试样的Rb值把探头100移至放有试样的黑色工 作陶瓷板402上,主机200所显示的数值为Rb值;测量Rw值把探头100移至放有试样的 白色工作陶瓷板401上,主机200所显示的数值为Rw值。以上显示和描述了本技术的基本原理、主要特征和本技术的优点。本行 业的技术人员应该了解,本技术不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中描述 的只是说明本技术的原理,在不脱离本技术精神和范围的前提下,本技术还 会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本技术范围内。本技术 要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。权利要求反射率测定仪,其特征在于,所述发射率测定仪包括用于检测的探头、用于信号处理的主机、用于校对的标准板以及用于放置试样的工作陶瓷板,所述探头与主机相接。2.根据权利要求1所述的反射率测定仪,其特征在于,所述标准板为两块。3.根据权利要求1所述的反射率测定仪,其特征在于,所述工作陶瓷板为两块。专利摘要本技术公开了反射率测定仪,其包括用于检测用的探头、用于信号处理的主机、用于校对的标准板以及用于放置试样的工作陶瓷板,该探头与主机相接。本技术结构简单,测量精度高,能够统一解决现有技术的问题。文档编号G01N21/55GK201697877SQ20102021998公开日2011年1月5日 申请日期2010年6月8日 优先权日2010年6月8日专利技术者朱正国 申请人:上海天地涂料有限公司本文档来自技高网
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【技术保护点】
反射率测定仪,其特征在于,所述发射率测定仪包括用于检测的探头、用于信号处理的主机、用于校对的标准板以及用于放置试样的工作陶瓷板,所述探头与主机相接。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:朱正国
申请(专利权)人:上海天地涂料有限公司
类型:实用新型
国别省市:31[中国|上海]

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