单个下沉基岛露出型多圈引脚引线框结构制造技术

技术编号：6164339 阅读：172 留言：0更新日期：2012-04-11 18:40

本实用新型专利技术涉及一种单个下沉基岛露出型多圈引脚引线框结构，包括基岛（１）和引脚（２），所述基岛（１）正面中央区域下沉，在所述引脚（２）的正面设置有第一金属层（４），基岛（１）和引脚（２）的背面设置有第二金属层（５），在所述引脚（２）外围、基岛（１）与引脚（２）之间的区域以及引脚（２）与引脚（２）之间的区域嵌置有无填料的塑封料（３），所述无填料的塑封料（３）将引脚（２）下部外围、基岛（１）与引脚（２）的下部以及引脚（２）与引脚（２）的下部连接成一体，且使所述基岛（１）和引脚（２）背面尺寸小于基岛（１）和引脚（２）正面尺寸，形成上大下小的基岛和引脚结构，所述基岛（１）有一个，引脚（２）有多圈。本实用新型专利技术的有益效果是：塑封体与金属脚的束缚能力大。（*该技术在2020年保护过期，可自由使用*）

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【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种单个下沉基岛露出型多圈引脚引线框结构。属于半导体封装

技术介绍
传统的单个下沉基岛露出型多圈引脚引线框结构主要有二种第一种采用金属基板的正面进行化学蚀刻及表面电镀层后，在金属基板的背面贴上一层耐高温的胶膜形成可以进行封装过程的引线框载体(如图2所示)；第二种采用金属基板的正面进行化学蚀刻及表面电镀层后，即完成引线框的制作(如图3所示)。而引线框的背面则在封装过程中再进行背面蚀刻。而上述的二种引线框在封装过程中存在了以下的不足点第一种1)此种的引线框架因背面必须要贴上一层昂贵可抗高温的胶膜。所以直接增加了高昂的成本。2)也因为此种的引线框架的背面必须要贴上一层可抗高温的胶膜，所以在封装过程中的装片工艺只能使用导电或是不导电的树脂工艺，而完全不能采用共晶工艺以及软焊料的工艺进行装片，所以可选择的产品种类就有较大的局限性。3)又因为此种的引线框架的背面必须要贴上一层可抗高温的胶膜，而在封装过程中的球焊键合工艺中，因为此可抗高温的胶膜是软性材质，所以造成了球焊键合参数的不稳定，严重的影响了球焊的质量与产品可靠度的稳定性。4)再因为此种的引线框架的背面必须要贴上一层可抗高温的胶膜，而在封装过程中的塑封工艺过程，因为塑封的高压关系很容易造成引线框架与胶膜之间渗入塑封料，而将原本应属金属脚是导电的型态因为渗入了塑封料反而变成了绝缘脚(如图4所示)。第二种此种的引线框架结构在金属基板正面进行了半蚀刻工艺，虽然可以解决第一种引线框架的问题，但是因为只在金属基板正面进行了半蚀刻工作，而在塑封过程中塑封料只有包覆住半只脚的高度，...

【技术保护点】
一种单个下沉基岛露出型多圈引脚引线框结构，包括基岛（１）和引脚（２），所述基岛（１）正面中央区域下沉，在所述引脚（２）的正面设置有第一金属层（４），基岛（１）和引脚（２）的背面设置有第二金属层（５），其特征在于：所述基岛（１）有一个，引脚（２）有多圈，在所述引脚（２）外围、基岛（１）与引脚（２）之间的区域以及引脚（２）与引脚（２）之间的区域嵌置有无填料的塑封料（３），所述无填料的塑封料（３）将引脚（２）下部外围、基岛（１）与引脚（２）的下部以及引脚（２）与引脚（２）的下部连接成一体，且使所述基岛（１）和引脚（２）背面尺寸小于基岛（１）和引脚（２）正面尺寸，形成上大下小的基岛和引脚结构。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：王新潮，梁志忠，
申请(专利权)人：江苏长电科技股份有限公司，
类型：实用新型
国别省市：32[中国|江苏]

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