一种低辐射镀膜玻璃制造技术

本发明专利技术公开了一种低辐射镀膜玻璃，由内向外依次包括玻璃、第一介质层、银层、第一屏蔽层、第二介质层、第二屏蔽层、第三屏蔽层和第三介质层。本发明专利技术采用了三层介质层，不仅增强了对银层的保护，同时通过调节这三层介质层的厚度，可有效调节低辐射镀膜玻璃的透射比、反射比和颜色，使产品的色泽范围更宽，更加美观。通过采用三层屏蔽层，其中，第一屏蔽层和第二屏蔽层中间夹一层介质层，有效地提高了低辐射镀膜玻璃中银层的抗氧化性。同时，还可通过调节这三层屏蔽层的厚度以调节透射比和反射比，使用这一膜系可生产辐射率在0.05～0.15、透射比在10％～60％的多种颜色的遮阳型低辐射玻璃。

Low radiation coated glass

The invention discloses a low-E coating glass, which comprises glass, a first dielectric layer, a silver layer, a first shielding layer, a second dielectric layer, a second shielding layer, a third shielding layer and a third dielectric layer sequentially from the inside to the outside. The invention adopts three layer dielectric layer, not only enhances the protection of the silver layer, and by adjusting the three layer dielectric layer thickness, the transmission can effectively adjust the Low-E glass ratio, reflectance and color, make the color of the product range is wider, more beautiful. By adopting a three layer shielding layer, a dielectric layer is sandwiched between the first shielding layer and the second shielding layer, and the oxidation resistance of the silver layer of the low-E coating glass is effectively improved. At the same time, but also by adjusting the three layer shielding layer thickness to adjust the transmittance and reflectance, the use of this film can produce radiation at a rate of 0.05 ~ 0.15, the transmission ratio is 10% ~ 60% of the various color shading type Low-E glass.

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及低辐射镀膜玻璃
，更具体地说，涉及一种抗氧化性能高的低 辐射镀膜玻璃。
技术介绍
低辐射玻璃(Low-E)是在玻璃表面镀由多层银、铜或锡等金属或其化合物组成的 薄膜系，LOW-E玻璃按性能主要有两种类型，即高透型LOW-E玻璃和遮阳型LOW-E玻璃。其 中，高透型LOW-E玻璃对可见光有较高的透射率，对远红外线有很高的反射率，具有良好的 隔热性能、较好的采光性能和较高的太阳能获得能力，使其成为北方寒冷地区的理想节能 建材。遮阳型LOW-E玻璃相对普通型LOW-E的区别就是增强了产品的遮阳性能，更加适合 在气候较热的地区使用。目前，低辐射玻璃特别是遮阳型LOW-E玻璃存在着颜色单一、抗氧化性能较低等 一些缺陷，影响了遮阳型LOW-E玻璃的生产和推广使用。
技术实现思路
有鉴于此，本专利技术提供了一种低辐射镀膜玻璃，以提高可见光反射率的可调范围、 产品颜色的可调范围以及抗氧化性能。为实现上述目的，本专利技术提供如下技术方案一种低辐射镀膜玻璃，由内向外依次包括玻璃、第一介质层、银层、第一屏蔽层、第 二介质层、第二屏蔽层、第三屏蔽层和第三介质层。优选的，在上述低辐射镀膜玻璃中，所述第一介质层、第二介质层和第三介质层均 为氧化锡层。优选的，在上述低辐射镀膜玻璃中，所述第一屏蔽层和所述第二屏蔽层均为镍洛 合金层，所述第三屏蔽层为不锈钢层。优选的，在上述低辐射镀膜玻璃中，所述第一介质层、第二介质层和第三介质层的 厚度为IOOnm 300nm。优选的，在上述低辐射镀膜玻璃中，所述第一屏蔽层和所述第二屏蔽层的厚度为 5nm 20nmo优选的，在上述低辐射镀膜玻璃中，所述第三屏蔽层的厚度为3nm 20nm。优选的，在上述低辐射镀膜玻璃中，所述银层的厚度为9nm 20nm。从上述的技术方案可以看出，本专利技术采用了三层介质层，不仅增强了对银层的保 护，同时通过调节这三层介质层的厚度，可有效调节低辐射镀膜玻璃的透射比、反射比和颜 色，使产品的色泽范围更宽，更加美观。通过采用三层屏蔽层(即阻挡层)，其中，第一屏蔽 层和第二屏蔽层中间夹一层介质层，有效地提高了低辐射镀膜玻璃中银层的抗氧化性。同 时，还可通过调节这三层屏蔽层的厚度以调节透射比和反射比，使用这一膜系可生产辐射 率在0. 05 0. 15、透射比在10% 60%的多种颜色的遮阳型低辐射玻璃。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现 有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本 专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以 根据这些附图获得其他的附图。图1为本专利技术实施例提供的低辐射镀膜玻璃的截面结构示意图。 具体实施例方式本专利技术公开了一种低辐射镀膜玻璃，以提高可见光反射率的可调范围、产品颜色 的可调范围以及抗氧化性能。下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完 整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于 本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他 实施例，都属于本专利技术保护的范围。请参阅图1，图1为本专利技术实施例提供的低辐射镀膜玻璃的截面结构示意图。本专利技术的低辐射镀膜玻璃，由内向外依次包括玻璃1、第一介质层21、银层3、第一 屏蔽层41、第二介质层22、第二屏蔽层42、第三屏蔽层43和第三介质层23。金属银层3 (厚度可为9-20nm)在这一膜系中起关键作用，它决定整个膜系的辐射 率，并直接影响膜系的透射比和反射比。但银膜质地软，易划伤，且与玻璃1的结合力差，加 上在空气中易氧化，因此银膜两侧需加介质层或屏蔽层进行保护。在本专利技术中，采用了三层 介质层，不仅增强了对银层3的保护，同时通过调节这三层介质层的厚度，可有效调节低辐 射镀膜玻璃的透射比、反射比和颜色，使产品的色泽范围更宽，更加美观。通过采用三层屏 蔽层(即阻挡层)，其中，第一屏蔽层和第二屏蔽层中间夹一层介质层，有效地提高了低辐 射镀膜玻璃中银层的抗氧化性。同时，还可通过调节这三层屏蔽层的厚度以调节透射比和 反射比，使用这一膜系可生产辐射率在0. 05 0. 15、透射比在10 % 60 %的多种颜色的遮 阳型低辐射玻璃。第一介质层21、第二介质层22和第三介质层23可以为氧化锡层；第一屏蔽层41 和所述第二屏蔽层42均为镍洛合金层，所述第三屏蔽层43为不锈钢层。第一介质层21、第二介质层22和第三介质层23的厚度为IOOnm 300nm。通过调 整三层介质层的厚度，可有效调节膜系的透射比、反射比和颜色，使产品的色泽范围更宽， 更加美观。第一屏蔽层41和所述第二屏蔽层42的厚度为5nm 20nm，第三屏蔽层43的厚度 为3nm 20nm。通过调整三层屏蔽层的厚度，可以调节膜系的透射比和反射比。本专利技术由第一介质层21、银层3、第一屏蔽层41、第二介质层22、第二屏蔽层42、第 三屏蔽层43和第三介质层23组成的膜系可用于生产遮阳型低辐射镀膜玻璃，这种产品即 具有低辐射镀膜玻璃对远红外线的较高的反射性能，又具有较高的太阳能反射性能，适于 冬季凉爽、夏季炎热的地区使用。相对其他膜系的遮阳型低辐射镀膜玻璃，用该膜系生产遮 阳型低辐射镀膜玻璃，可见光反射率的可调范围更宽，产品的颜色的可调范围更宽，颜色的均勻性更高，抗氧化性能更高。本说明书中各个实施例采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其他 实施例的不同之处，各个实施例之间相同相似部分互相参见即可。对所公开的实施例的上述说明，使本领域专业技术人员能够实现或使用本专利技术。 对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的 一般原理可以在不脱离本专利技术的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本专利技术 将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一 致的最宽的范围。权利要求1.一种低辐射镀膜玻璃，其特征在于，由内向外依次包括玻璃(1)、第一介质层(21)、 银层(3)、第一屏蔽层(41)、第二介质层(22)、第二屏蔽层(42)、第三屏蔽层03)和第三介 质层(23)。2.如权利要求1所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第一介质层(21)、第二介质 层0 和第三介质层均为氧化锡层。3.如权利要求2所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第一屏蔽层和所述第 二屏蔽层G2)均为镍洛合金层，所述第三屏蔽层G3)为不锈钢层。4.如权利要求2所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第一介质层(21)、第二介质 层02)和第三介质层03)的厚度为IOOnm 300nm。5.如权利要求3所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第一屏蔽层和所述第 二屏蔽层G2)的厚度为5nm 20nm。6.如权利要求3所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第三屏蔽层03)的厚度为 3nm 20nmo7.如权利要求1所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述银层(3)的厚度为9nm 20nmo全文摘要本专利技术公开了一种低辐射镀膜玻璃，由内向外依次包括玻璃、第一介质层、银层、第一屏蔽层、第二介质层、第二屏蔽层、第三屏蔽层和第三介质层本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种低辐射镀膜玻璃，其特征在于，由内向外依次包括玻璃（１）、第一介质层（２１）、银层（３）、第一屏蔽层（４１）、第二介质层（２２）、第二屏蔽层（４２）、第三屏蔽层（４３）和第三介质层（２３）。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：王树立，
申请(专利权)人：黄骅荣达玻璃有限公司，
类型：发明
国别省市：13