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一种纳米制造系统技术方案

技术编号:6042236 阅读:253 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
一种纳米制造系统,包括原子粒子产生系统,原子粒子产生系统与气源连通,原子粒子产生系统与原子输运系统相连,原子输运系统与真空工作室相连,真空工作室内设置有纳米孔阵列掩模板,纳米孔阵列掩模板边缘上方为光学对准系统,下方为纳米级电子对准系统,纳米孔阵列掩模板下方设置有铺设有衬底材料;气源进入原子粒子产生系统获得能量与动量后产生原子粒子,原子粒子进入真空工作室,支架调节控制系统实现纳米孔阵列掩模板与衬底材料的相对运动,实现掩模功能与纳米图形加工;本发明专利技术具有控制精度高、加工尺度小、对衬底材料损伤小、电学影响小、系统结构相对简单、功能材料多样以及结构图形化方便的特点。

Nano manufacturing system

A system for producing nano particles, including the atomic system, the atomic particle generation system communicated with a gas source, atomic particle generation system and atomic transport system, atomic transport system and the vacuum chamber connected to the vacuum working chamber is provided with a nano hole array mask, nano hole array mask over the edge of the optical alignment system, below nano electronic alignment system, nano hole array mask has laid the substrate material to set the template below; produce system of energy and momentum to produce atomic particle source into atomic particles, atomic particles into the vacuum chamber, support adjusting the relative movement to achieve nano hole array mask and substrate material control system, realize the function with nano mask graphics processing; the invention has high control precision, small scale, processing on substrate material damage, electrical The utility model has the advantages of small influence, relatively simple system structure, various functional materials and convenient structure.

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
1.一种纳米制造系统,其特征在于,包括原子粒子产生系统(3),原子粒子产生系统(3)通过阀门(2)与气源(1)连通,原子粒子产生系统(3)与原子输运系统(4)相连通,原子输运系统(4)与真空工作室(7)相连通,真空工作室(7)内设置有放置纳米孔阵列掩模板(16)的升降及二维图形扫描支架(15),纳米孔阵列掩模板(16)边缘上方为光学对准系统(8),纳米孔阵列掩模板(16)下方为纳米级电子对准系统(17),纳米孔阵列掩模板(16)下方还设置有用于铺设衬底材料(14)的衬底多维调整支架(9)。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:刘泽文尹明司卫华秦健
申请(专利权)人:清华大学
类型:发明
国别省市:11

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