用于对基板的缺陷进行区分的方法和系统技术方案

本发明专利技术涉及一种用于对基板的缺陷进行区分的系统和方法，其中，该系统包括：照明单元，设置在基板的其中一个表面的外侧并且用于向基板照射光；至少一个反射镜，设置在基板的另一相对表面的外侧，并且用于反射照明单元照射并透射通过基板而入射到至少一个反射镜的光；成像单元，设置在基板的另一相对表面的外侧并且用于感测照明单元照射并透射通过基板的光和反射镜反射的光的其中两个光来拍摄至少一个二维图像，其中，所拍摄的至少一个二维图像中的每一包括相互分开的根据该其中两个光中的一个光拍摄的第一图像和根据该其中两个光中的另一个光拍摄的第二图像；图像构建模块，用于分别根据拍摄的至少一个二维图像中的各个二维图像的第一图像和第二图像，构建所述基板的两个图像；以及，图像处理模块，用于当基板存在缺陷时，根据缺陷在所构建的两个图像中的位置的相互关系，检测缺陷是位于基板的表面上的缺陷还是位于基板的内部的缺陷。利用该方法和系统，可以区分透明或半透明的基板的缺陷是位于基板表面的缺陷还是位于基板内部的缺陷。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种用于对基板的缺陷进行区分的方法和系统。
技术介绍
目前，许多领域都应用透明或半透明的基板，例如，在太阳能模块产业中，用于光 伏电池或光伏模块中的图案化或结构化基板。在制造过程中，透明或半透明的基板会产生 各种各样的缺陷，例如位于基板表面的划伤、脏迹和开口气泡等以及位于基板内部的闭口 气泡和结石(包括黑石、白石或其他颜色的结石)等。现有技术已经提出许多缺陷检测方 案用来检测透明或半透明的基板的缺陷。然而，随着对透明或半透明的基板的质量的要求越来越高，需要针对不同类型的 缺陷采取不同的质量控制标准。在这种情况下，不但需要检测出透明或半透明的基板所存 在的缺陷，而且还需要区分所检测出的缺陷是位于基板表面的缺陷还是位于基板内部的缺 陷。
技术实现思路
本专利技术的实施例提供一种用于对基板的缺陷进行区分的方法和系统，利用该方法 和系统，可以区分透明或半透明的基板的缺陷是位于基板表面的缺陷还是位于基板内部的 缺陷。按照本专利技术的一种用于对基板的缺陷进行区分的系统，包括照明单元，设置在透 明或半透明的基板的其中一个表面的外侧并且用于向所述基板照射光；至少一个反射镜， 设置在所述基板的另一相对表面的外侧，并且用于反射所述照明单元照射并透射通过所述 基板而入射到所述至少反射镜的光；成像单元，设置在所述基板的所述另一相对表面的外 侧并且用于感测所述照明单元照射并透射通过所述基板的光和所述至少反射镜反射的光 的其中两个光来拍摄至少一个二维图像，其中，所述拍摄的至少一个二维图像中的每一个 二维图像包括相互分开的根据所述其中两个光中的一个光拍摄的第一图像和根据所述其 中两个光中的另一个光拍摄的第二图像；图像构建模块，用于分别根据所述拍摄的至少一 个二维图像中的各个二维图像的所述第一图像和所述拍摄的至少一个二维图像中的各个 二维图像的所述第二图像，构建所述基板的两个图像；以及，图像处理模块，用于当所述基 板存在缺陷时，根据所述缺陷在所述构建的两个图像中的位置的相互关系，检测所述缺陷 是位于所述基板的表面上的缺陷还是位于所述基板的内部的缺陷。按照本专利技术的一种用于对基板的缺陷进行区分的方法，包括步骤将照明单元设 置在透明或半透明的基板的其中一个表面的外侧，其中所述照明单元用于向所述基板照射 光；将至少一个反射镜设置在所述基板的另一相对表面的外侧，其中，所述至少一个反射镜 用于反射所述照明单元照射并透射通过所述基板而入射到所述至少一个反射镜的光；将成 像单元设置在所述基板的所述另一相对表面的外侧，其中所述成像单元用于感测所述照明 单元照射并透射通过所述基板的光和所述至少一个反射镜反射的光的其中两个光来拍摄至少一个二维图像，其中，所述拍摄的至少一个二维图像中的每一个二维图像包括相互分 开的根据所述其中两个光中的一个光拍摄的第一图像和根据其中两个光中的另一个光拍 摄的第二图像；设置图像构建模块，其中所述图像构建模块用于分别根据所述拍摄的至少 一个二维图像中的各个二维图像的所述第一图像和所述拍摄的至少一个二维图像中的各 个二维图像的所述第二图像，构建所述基板的两个图像；以及，设置图像处理模块，其中所 述图像处理模块用于当所述基板存在缺陷时，根据所述缺陷在所述构建的两个图像中的位 置的相互关系，检测所述缺陷是位于所述基板的表面上的缺陷还是位于所述基板的内部的 缺陷。附图说明本专利技术的以上和其他的特征、特点和优点通过以下结合附图的详细描述将变得更 加显而易见。其中图1A-1K是示出按照本专利技术一个实施例的用于对基板的缺陷进行区分的技术方 案的概要示意图；图2是示出按照本专利技术一个实施例的用于对基板的缺陷进行区分的系统的结构 示意图；以及图3是示出按照本专利技术一个实施例的照明单元和成像单元的工作时序示意图。 具体实施例方式下面，将结合附图详细描述本专利技术的各个实施例。图1A-1K是示出按照本专利技术一个实施例的用于对基板的缺陷进行区分的技术方 案的概要示意图。首先，如图IA所示，在透明或半透明的基板S的其中一个表面B 1的外侧设置照 明单元L以向基板S照射光，以及，在基板S的另一相对表面B2的外侧设置反射镜F和成 像单元M，其中，反射镜F对照明单元L向基板S照射并透射通过基板S而入射到反射镜F 的光进行反射，成像单元M的光轴垂直于基板S的表面Bl和B2并且感测照明单元L向基 板S照射并透射通过基板S的光和反射镜F反射的光来拍摄二维图像。其中，成像单元M 所拍摄的二维图像包括相互分开的感测照明单元L向基板S照射并透射通过基板S的光拍 摄的第一图像和感测反射镜F反射的光拍摄的第二图像，如图IB所示。其中，由于照明单元L向基板S照射并透射通过基板S而入射到反射镜F的光不 垂直于基板S的表面Bl和B2，所以，在成像单元M所拍摄的二维图像中，与感测照明单元L 向基板S照射并透射通过基板S的光拍摄的第一图像相比，感测反射镜F反射的光拍摄的 第二图像具有压缩变形。例如，对于图IC所示出的正方形图形，在成像单元M所拍摄的二 维图像中，感测照明单元L向基板S照射并透射通过基板S的光所拍摄的第一图像如图ID 所示，感测反射镜F反射的光所拍摄的第二图像如图IE所示。在图ID中，所拍摄得到的图 形仍然是正方形，而在图IE中，所拍摄得到的图形却是梯形。可以看出，相对于图ID中的 图形，图IE中的图形的底边没有变化，但顶边和高度都被压缩了。在相对于基板S设置好 反光镜F和成像单元M之后，成像单元M所拍摄的二维图像中的第二图像的压缩变形量就 已经确定。这时，例如可以把由诸如圆或正方形等这样的图形构成的标定板放置在基板S，通过计算出成像单元M所拍摄的二维图像的第二图像中的图形的压缩变形量，就可以预先 确定出成像单元M所拍摄的二维图像中的第二图像的压缩变形量。当基板S沿着ζ方向移动时，成像单元M按照一定的时间间隔不断地感测照明单 元L向基板S照射并透射通过基板S的光和反射镜F反射的光来拍摄至少一个二维图像。 根据预先确定出的压缩变形量，拉伸成像单元M所拍摄的至少一个二维图像中的各个二维 图像的第二图像，以消除所成像单元M拍摄的至少一个二维图像中的各个二维图像的第二 图像的压缩变形。然后，利用成像单元M所拍摄的至少一个二维图像中的各个二维图像的 第一图像可构建得到基板S的图像，同样，利用成像单元M所拍摄的至少一个二维图像中的 各个二维图像的经过拉伸的第二图像也可构建得到基板S的图像。如图IF所示，假设在与基板S的左边相距zl且垂直于基板S的位置处，基板S存 在两个缺陷Dl和D2，其中，缺陷Dl位于基板S的成像单元M所在一侧的表面B2上，而缺陷 D2位于基板S内部，其与基板S的成像单元M所在一侧的表面B2的距离为h。在成像单元M按照一定的时间间隔不断地感测照明单元L向基板S照射并透射通 过基板S的光和反射镜F反射的光来拍摄至少一个二维图像的过程中，当基板S沿着ζ方 向移动到图IG所示的位置处时，成像单元M所拍摄的二维图像中的第一图像包括缺陷Dl 和D2 ；当基板S沿着ζ方向移动到图IH所示的位置处时，成像单元M拍摄的二维图像中 的第二图像包括缺陷D2 ；以及，当基板S沿着ζ方向移动到图II所示的位置处时，成像单 元M拍摄的二维图像中的第二图像包括缺陷D1。利用成像单元M所拍摄本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于对基板的缺陷进行区分的系统，包括：照明单元，设置在透明或半透明的基板的其中一个表面的外侧并且用于向所述基板照射光；至少一个反射镜，设置在所述基板的另一相对表面的外侧，并且用于反射所述照明单元照射并透射通过所述基板而入射到所述至少一个反射镜的光；成像单元，设置在所述基板的所述另一相对表面的外侧并且用于感测所述照明单元照射并透射通过所述基板的光和所述至少一个反射镜反射的光的其中两个光来拍摄至少一个二维图像，其中，所述拍摄的至少一个二维图像中的每一个二维图像包括相互分开的根据所述其中两个光中的一个光拍摄的第一图像和根据所述其中两个光中的另一个光拍摄的第二图像；图像构建模块，用于分别根据所述拍摄的至少一个二维图像中的各个二维图像的所述第一图像和所述拍摄的至少一个二维图像中的各个二维图像的所述第二图像，构建所述基板的两个图像；以及图像处理模块，用于当所述基板存在缺陷时，根据所述缺陷在所述构建的两个图像中的位置的相互关系，检测所述缺陷是位于所述基板的表面上的缺陷还是位于所述基板的内部的缺陷。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：史伟杰，郭晓锋，林晓峰，李惠芬，孙晓伟，郭峰，
申请(专利权)人：法国圣戈班玻璃公司，
类型：发明
国别省市：FR[]