本实用新型专利技术是一种光罩盒结构,特别是有关于一种具有枢纽装置的光罩盒。此一种光罩盒包含:一第一盖体及一第二盖体组合,两者形成一内部空间可容纳一光罩,一枢纽,用以连结第一盖体及第二盖体,其包括一第一连结座固定于第一盖体上,和一第二连结座固定于第二盖体上,此枢纽亦包含一转轴,其两端卡设于些连结座,转轴包含第一部分及与第一部分彼此枢设的第二部分,而第一部分及第二部分彼此接触部分具有高摩擦力表面。(*该技术在2018年保护过期,可自由使用*)
【技术实现步骤摘要】
本技术是有关于一种光罩盒,特别是有关于一种具有枢纽装置的 光罩盒。
技术介绍
近代半导体科技发展迅速,其中光学微影技术(Optical Lithogmphy)扮 演重要的角色,只要是关于图形(pattem)定义,皆需仰赖光学微影技术。 光学微影技术在半导体的应用上,是将设计好的线路制作成具有特定形状 可透光的光罩(photomask)。利用曝光原理,则光源通过光罩投影至硅晶圆 (silicon wafer)可曝光显示特定图案。由于任何在光罩上的微小损伤都会造 成投影成像的质量劣化,所以用于产生图形的光罩必须保持绝对完好及洁 净,因此光罩盒的平稳程度,和是否能确实的提供一个安全的环境以放置 光罩就显得十分重要。公知光罩盒,在操作过程中需多次开关以取放光罩,而传统光罩盒在 盖体连结处的连接枢轴无特殊设计,若没有人力支持,仅能完全开启及或 是完全关闭盖体,使用时无法呈现使用者所需的特定角度,随时可能突然 关闭,不但使用不方便,且可能因盖体的晃动使放置于盒内的光罩无法处 于稳定平衡的状态,而对光罩造成伤害,若光罩在操作过程中没有质量良 好的光罩盒确实保护,则损伤机会必然会提高,降低光罩的使用寿命,导 致影响产品良率,甚至无法继续使用,而产生浪费并导致使用成本提高。同时,为了进一步提升产品的良率及降低制造的成本,光罩盒除了达 到洁净度的标准要求外,还要克服因为外来气体对于光罩的污染。这样的 外来气体除了大气以外,还有两个来源,其一是源自于高分子材料所制成 的光罩传送盒本身所释出的气体(outgasing),其二是源自于残留在光罩表 面的微量化学溶液所产生的挥发气体。这些非期望气体会对光罩的表面产 生雾化作用,使得光罩无法再使用而必须报废的窘境,使得制造成本增加。在光罩传送盒中充入气体是目前解决光罩雾化的手段之一,其中如何保持 充入气体的洁净度,是一个重要的议题。有鉴于此,本技术所提供的具有过滤装置的光罩盒,乃针对公知 技术加以改良。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种针对公知技术中存在的缺陷而加以 改良的光罩盒。为实现上述目的,本技术提供的光罩盒,其包含 一第一盖体;一第二盖体,用以与第一盖体组合,形成一内部空间可容纳一光罩; 一枢纽,用以连结第一盖体及第二盖体,其包括 一第一连结座固定于第一盖体上, 一第二连结座固定于第二盖体上,以及;一转轴,其两端卡设于些连结座,转轴包含第一部份及与第一部份彼 此枢设的第二部份,第一部份及第二部份彼此接触部份具有高摩擦力表 面。所述的光罩盒,其中第一连结座及转轴为一体成型。 所述的光罩盒,其中转轴的第一部份具有复数个突起设于与第二部份 接触的表面。所述的光罩盒,其中转轴另包含一弹性组件夹设于转轴的第一部份及 第二部份之间。所述的光罩盒,其中弹性组件可为弹簧。所述的光罩盒,其中连结座以金属材质或不锈钢材质制成。所述的光罩盒,其中转轴以金属材质或不锈钢材质制成。本技术还提供一种光罩盒,其包含一第一盖体;一第二盖体,用以与第一盖体组合,形成一内部空间可容纳一光罩; 一枢纽,用以连结第一盖体及第二盖体,其包括一主体,其具有一中心板体固定于第一盖体上,主体另具有一个水平延伸的中空圆筒,一转轴,其穿设于主体的中空圆筒內且其一端固设于第二盖体,以及; 一提高摩擦力组件,套设于转轴上,位于主体的中空圆筒与转轴之间。 所述的光罩盒,其中转轴与第二盖体为一体成型。 所述的光罩盒,其中提高摩擦力组件为一弹性组件。 所述的光罩盒,其中提高摩擦力组件具有复数个突起。 所述的光罩盒,其中提高摩擦力组件与转轴一体成型。 所述的光罩盒,其中提高摩擦力组件亦具有复数的凹槽。 所述的光罩盒,其中主体材质为金属。 所述的光罩盒,其中光罩盒为光罩保存盒或光罩运送盒。本技术还提供一种光罩盒,其包含 一第一盖体;一第二盖体,用以与第一盖体组合,形成一内部空间可容纳一光罩; 一枢纽,用以连结第一盖体及第二盖体,枢纽用以让些盖体在开启时 可任意停顿且固定。本技术还提供一种光罩盒,其包含 一第一盖体;一第二盖体,用以与第一盖体组合,形成一内部空间可容纳光罩; 至少一通孔,设于第一盖体或第二盖体的侧边,用以连通内部空间以 及光罩盒的外部空间,以及;至少一过滤装置覆盖通孔,过滤装置包含 一扣件,覆盖于通孔的上;一夹持件,卡设于扣件中,其中夹持件具有至少一孔洞,孔洞设于对 应于扣件的开口的位置;以及一过滤薄膜夹设于夹持件上具有孔洞的位置;具有至少两个卡榫点设于通孔周围,扣件則具有至少两个锁扣部用以 卡设于卡榫点上。简言之,本技术的光罩盒结构,特别是有关于一种具有特殊设计 的枢纽的光罩盒。此一种光罩盒包含 一第一盖体及一第二盖体组合,两 者形成一内部空间可容纳一光罩;以及一枢纽,用以连结第一盖体及第二盖体,枢纽包括一第一连结座固定于第一盖体上,和一第二连结座固定于 第二盖体上,此枢纽亦包含一转轴,其两端卡设于些连结座,转轴包含第 一部份及第二部份彼此枢设,而第一部份及第二部份彼此接触部份具有高 摩擦力。枢纽使两盖体结合时减少晃动的可能。此外,光罩盒另包括一种光罩盒,其包含 一第一盖体及一第二盖体 组合,两者形成一内部空间可容纳光罩;光罩盒有至少一通孔,设于第一 盖体或第二盖体的侧边,用以连通内部空间以及光罩盒的外部空间,而设 于通孔周围至少两个卡榫点,和至少一过滤装置覆盖通孔,过滤装置包含 一扣件覆盖于通孔上,扣件有至少两个锁扣部用以卡设于卡榫点,过滤装 置亦具夹持件,卡设于扣件中,其中夹持件具有至少一孔洞,孔洞设于对 应于扣件的开口的位置,同时,过滤薄膜夹设于夹持件上具有孔洞的位置。本技术的效果是1) 本技术具有一枢纽,枢纽使光罩盒盖体开关时可停留至任意 点,可防止盖体滑动撞击的情形发生。2) 本技术具有一枢纽,枢纽使光罩盒在开关操作的时降低光罩 损坏的风险,使得光罩寿命得以提高,并提高光罩安全性。3) 本技术的过滤装置,可用来过滤空气中的微尘,以避免光罩 受到污染。4) 本技术的过滤装置,可用来过滤空气中的微尘,以保持光罩盒盒内的洁净度。5) 本技术的过滤装置,利用扣件方式卡设于光罩盒外,以减少 过滤装置厚度。6) 本技术的过滤装置,其扣件为不绣钢材质,静电遮蔽效果佳。附图说明图1是本技术光罩盒的示意图2是本技术光罩盒枢纽的一较佳实施例示意图3是本技术光罩盒枢纽转轴的示意图4是本技术光罩盒枢纽的另一实施例示意图5是本技术的过滤装置示意图;图6是本技术的过滤装置组装示意图。附图中主要组件符号说明1光罩盒 IO第一盖体20第二盖体30枢纽32第一连结座34第二连结座36转轴38第一部份40第二部分44主体46中心板体48中空圆筒50转轴52提高摩擦力组件54通孔56卡榫点58过滤装置60扣件62锁扣部64夹持件66过滤薄膜68第一部份70第二部份72孔洞具体实施方式由于本技术公开一种具有枢纽的光罩盒,其中所利用到的一些光 罩或光罩盒的详细制造或处理过程,是利用现有技术来实现,故在下述说明中,并不作完整描述。而且下述内文中的图式,亦并未依据实际的相关 尺寸完整绘制,其作用仅在表达与本技术特征有关的示意图。请参考图1,为本实本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种光罩盒,包含一第一盖体以及一第二盖体,该第一盖体与该第二盖体由一枢纽连结,以形成一容纳一光罩的内部空间,其中该光罩盒的特征在于,该枢纽包括: 一第一连结座固定于该第一盖体上, 一第二连结座固定于该第二盖体上,以及; 一 转轴,其两端卡设于该些连结座,该转轴包含一第一部份及与该第一部份彼此枢设的一第二部份,该第一部份及该第二部份彼此接触部份具有高摩擦力表面。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:陈昶政,陈建达,邱铭乾,
申请(专利权)人:家登精密工业股份有限公司,
类型:实用新型
国别省市:71[中国|台湾]
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