烹调装置制造方法及图纸

技术编号:5815305 阅读:174 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
为了提供一种烹调装置,该烹调装置能保护设置到门的控制面板不受到从烹调腔产生的热量的损害,本发明专利技术公开了一种烹调装置,其包括:烹调腔,该烹调腔在烹饪期间产生热量;门,该门用于打开和关闭烹调腔并设置有控制面板;以及支架,该支架设置于门处,以保护控制面板不受到烹调腔的热量的损害。通过此结构,能将控制面板与门结合并使得控制面板免受从烹调腔产生的热量的损害。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术总体涉及一种烹调装置,更具体而言,涉及一种具有安装 在门内的支架、借此阻挡热量传递至控制面板并引导穿过上述门以用 于冷却处理的气流的烹调装置。
技术介绍
韩国专利申请公开No. 2005-0083504公开了一种烹调装置的典型 实例,该烹调装置具有包括设置于烹调腔一侧的主要部件,包括磁 控管、高压变压器、高压电容器、以及冷却风扇。韩国专利申请公开 No. 2006-0037003公幵了一种烹调装置,该烹调装置具有包括安装于烹 调腔上侧的主要部件、并将对流加热器组件容纳于烹调腔的后壁,这 些主要部件包括磁控管、高压变压器、以及高压电容器。韩国实用 新型申请公开No. 1999-0010444公开了一种烹调装置,该烹调装置具 有包括设置于烹调腔下侧的主要部件和操作面板,这些主要部件包括 磁控管、高压变压器、以及冷却风扇。另外,韩国技术申请公开No. 1998-0016489公开了一种烹调 装置,该烹调装置具有安装于烹调腔侧壁的主要部件,并设置有从该 烹调腔的上壁开始到其侧面的冷却流径,这些主要部件包括磁控管、 高压变压器以及冷却风扇。韩国专利申请公幵No. 1998-0053939公开了被用作烹调装置典型 实例的微波炉的门,其中,该门设置有用于阻挡微波的门框以及环绕 该门框的阻流盖。韩国专利申请公开No. 1995-0003729公开了一种烹调装置,该烹调装置具有从烹调腔的侧面开始经由烹调腔的底侧而到达门的烹调流 径。韩国专利申请公开No. 2004-0108050公开了用于烹调装置内的操 作面板的示例,其中,该操作面板设置有利用静电的玻璃触摸键盘
技术实现思路
技术问题本专利技术的一个目的是提供一种烹调装置,该烹调装置能保护设置 到门的控制面板不受到从烹调腔产生的热量的损害。本专利技术的另一目的是提供一种烹调装置,该烹调装置能保护控制 面板不受到从烹调腔所产生的热量的损害,将控制面板设置到门的与 烹调装置的上部空间相对应的上部,以在高度和宽度上扩展烹调腔。本专利技术的又一 目的是提供一种烹调装置,该烹调装置能有效地引 导在门内侧运动以用于冷却处理的气流。本专利技术的又一目的是提供一种烹调装置,该烹调装置能保护设置 到门的控制面板不受到从烹调腔所产生的热量的损害,并能有效地引 导在门内侧运动以用于冷却处理的气流。本专利技术的又一目的是提供一种烹调装置,该烹调装置能利用从该 烹调装置的上部空间朝着门运动的气流来冷却该门。技术方案为了实现以上目的和优点,提供了一种烹调装置,其包括烹调 腔,该烹调腔在烹饪期间产生热量;门,该门用于打开和关闭烹调腔 并设置有控制面板;以及支架,设置于门处以保护控制面板不受到烹 调腔的热量的损害。通过此结构,能将控制面板与上述门结合并使得该控制面板免受从烹调腔所产生的热量的损害。在本专利技术的另一方面中,控制面板定位于门的上部,而支架从该 控制面板的后方定位于该门的上部。在本专利技术的另一方面中,上述支架从控制面板的后方定位于上述 门并具有覆盖控制面板的后侧和下侧的形状。在本专利技术的另一方面中,该烹调装置包括冷却流径,该冷却流径 从烹调腔的一侧延伸至上述门内,流沿着该冷却流径流动,而支架设 置在该门内的冷却流径上,以保护控制面板不受到热量和流的损害。 尽管流至控制面板的流由上述支架阻挡,但通过将该流连续地供应至 支架还是可阻挡热量传递至控制面板。在本专利技术的另一方面中,该烹调装置包括冷却流径,该冷却流径 从烹调腔的一侧延伸至上述门内,流沿着该冷却流径流动,而支架设 置在该门内的冷却流径上并将流在门的内侧向下引导。通过此结构, 上述支架能阻挡热量传递至控制面板,且同时将流引导向门内。在本专利技术的另一方面中,冷却流径从烹调腔的上部空间延伸至门 的上部,而上述支架设置在位于门上部处的冷却流径上。在本专利技术的另一方面中,该烹调装置包括前框架,该前框架位 于烹调腔的前表面,并且该前框架设置有与流连通的开口;以及位于 上述门的门孔,经过上述开口的流通过该门孔运动至门内。在本专利技术的另一方面中,该烹调装置还包括中板,该中板从支架 的下侧定位于上述门并用以防止烹调腔的热量传递至外部。通过此结 构,能阻挡从烹调腔产生的热量,且热量不会传递至门外或传递至把手。在本专利技术的另一方面中,该烹调装置包括冷却流径,该冷却流径 从烹调腔的一侧延伸至上述门,流沿着该冷却流径流动,并且其中支 架定位在冷却流径上,以使流经过中板的一个侧向侧面。通过此结构, 中板的一侧能够由流来阻挡热量,而该中板的另一侧能够通过滞留空 气层来阻挡热量。在本专利技术的另一方面中,上述支架设置有倾斜表面。流在该倾斜 表面处与支架碰撞,然后该流朝着中板的一个侧向侧面转向。本专利技术的额外和/或其它方面和优点将部分地在随后的描述中阐 述,并且部分地从该描述将是显而易见的,或可以通过本专利技术的实践 习得。附图说明通过参照附图描述本专利技术的某些实施例,本专利技术的上述方面和特征将更明显,在附图中图1是根据本专利技术烹调装置的主结构的分解示意图2示意性地示出了根据本专利技术烹调装置的后部空间的示例;图3和图4示意性地示出了根据本专利技术烹调装置的后部空间的其它示例;以及图5和图6示意性地示出了根据本专利技术的冷却流径。具体实施例方式下文将参照附图详细描述本专利技术。图1是根据本专利技术烹调装置的主结构的分解示意图,其示出了烹 调腔100、门200、位于烹调腔100上方的上部空间300、位于烹调腔 100后方的后部空间400、位于烹调腔100两侧的侧部空间500、以及 位于烹调腔100下方的下部空间600。食物的空间,并由内壳110限定。加热器 120设置于烹调腔100内部的上部处,盘子或搁物架130安置在烹调腔 100内。内壳110包括形成在侧面上的入口(未示出)和出口 111,用于 形成气流路径以除去烹调腔100内的热量和气味。加热器120的示例 为护套加热器(sheath heater)。利用盘子130代替圆形转盘会使得烹调 腔100的宽度和长度(深度)发生改变,该烹调腔的更改受到转盘的限制。 烹调腔100的一侧设置有用于引导盘子130的导向件140。另外,烹调 腔100的前侧和后侧分别设置有前框架150和后框架160。前框架150 具有用于在上部空间300和门200之间形成流径的开口 151。后框架 160也具有形成于上侧、用于与后部空间400连通的开口 161。门200的下部被铰接至烹调腔100,使得门200能打开和关闭烹 调腔100。门200形成为用以覆盖烹调腔100和上部空间300。门200 由把手210、前板220、输入感测单元230、门板240、控制面板250、 中板260、支架270、门框280以及阻流盖290组成。把手210为用户打开或关闭门200所使用的部分,并能由螺钉(未 示出)固定至前板220。合乎需要地,把手210具有至少一个通道(未 示出),该通道以与外部连通的方式沿把手210的纵向而形成于其内 部,从而减小总重量,也能最小化在烹饪期间从烹调腔100传递到用 户的热量。前板220理想地由透明玻璃制成,该透明玻璃使得用户能看到烹 调腔100的内部,包括按钮的显示单元(未示出)可附接或涂布到该 前板220上,这些按钮用于用户选择烹调程序,或用于指示烹调装置 的运行状态。输入感测本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种烹调装置,包括: 烹调腔,所述烹调腔在烹饪期间产生热量; 门,所述门用于打开和关闭所述烹调腔并设置有控制面板;以及 支架,所述支架设置于所述门处,以保护所述控制面板不受到所述烹调腔的热量的损害。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:李相琦
申请(专利权)人:LG电子株式会社
类型:发明
国别省市:KR[韩国]

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