辐射测量设备制造技术

发光膜通过转移法被转移到作为转移目标部件的发光板上。发光板包括用于检测β射线的第一闪烁体材料。发光膜包括保护层、防光层和发光层。发光层包括粘结性材料和添加到粘结性材料的用于检测α射线的第二闪烁体材料。发光膜可以通过转移法直接形成在透明部件的表面上、光电倍增管的光接收表面上等。防光层和发光层设置在保护层和转移目标部件之间，从而在物理上保护防光层和发光层。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种辐射测量设备，特别涉及一种包括闪烁体(scintillator)部件 的辐射测量设备。
技术介绍
闪烁体部件用于各种辐射测量设备中，包括表面污染测量仪、体表监测器等。当被 辐射激发时，闪烁体部件发光，所发出的光被引导到光电倍增管(PMT)的光接收表面上。为 了以高灵敏度检测闪烁体部件中发出的光，在闪烁体部件的前部和后部设置为闪烁体部件 屏蔽外部光线的光屏蔽结构或防光结构(黑屋)。对于闪烁体部件的前表面侧(辐射入射的表面)上的光屏蔽，应该考虑经过该表 面的辐射的衰减。特别是，由于a射线和低能量的0射线的穿过物质的能力低，因此如果 具有特定厚度的防光膜设置在闪烁体部件的前表面侧上，则该防光膜将明显阻碍和衰减到 达该表面的a射线和0射线，因此显著地降低测量灵敏度。因此，设置在闪烁体部件的前 表面侧上的防光膜必须很薄。但是，这样的薄防光膜的物理强度很低，容易被损坏或腐蚀。 如果薄膜被损坏、刮擦或通过刮擦形成小孔，那么光能通过诸如小孔或刮痕的孔进入，从而 不能检测闪烁体部件中产生的微弱的光发射。为了克服上述问题，如JP2001-141831A和JP3-231187A中所述，可考虑如下技术， 即提供多层薄防光膜，从而防光膜在闪烁体部件的前表面侧上彼此分离。每个防光膜包括 树脂膜和形成在树脂膜的两个侧面上的防光层。通过这种结构，即使形成在设置于最外侧 上的防光膜的上表面上的防光层被损坏，光也可以被后表面侧上形成的防光层阻挡。此外， 即使很大的外力损坏了设置在外侧上的全部防光膜，也可以通过与损坏的防光膜分离的相 邻防光膜保证光屏蔽。虽然可以根据需要在最外层的防光膜的前表面侧上设置具有格子形 状的保护格栅，但是外来物质或污染物仍然可以通过格子的孔进入。另一方面，如果保护格 栅的每个孔的面积被减小以增强物理保护，则用于辐射检测的灵敏度将降低。当防光膜被安装在辐射测量设备上时，需要在均勻拉伸整个膜时设置防光膜，以 防止膜起皱。这一任务需要专业技能，且耗费大量的时间和劳动。此外，如果在安装操作中 施加了过大的力，很容易撕裂防光膜。通常，这些问题是非常重要的，因为一般在每个辐射 测量设备上安装多个防光膜。JP7-35869A公开了辐射测量设备的一个例子，其中使用了闪烁体部件。 JP8-248139A描述了一种防光膜，其安装在具有大面积的薄发光板上(见0041段等)。但 是，这些参考文件都没有描述防光膜或安装防光膜的方法的细节。特别是，当在检测a粒 子和低能量的0粒子的情况下，需要设置极薄的防光膜，在任何参考文件中都没有公开专 用于这种薄膜的处理方法。JP62-16486U描述了在塑料闪烁体的上表面上设置防光膜。该防光膜包括薄膜形 状的塑料膜和同样为薄膜形状的沉积层，沉积层形成在塑料膜的后表面或上表面上。但是 该参考文件没有记载如何把薄膜形状的防光膜设置在塑料闪烁体上。JP5-297145A描述了紧密连接的闪烁体层和防光层。但是，防光层是可拆除的，且不是固定附着于闪烁体层上。JP2007-147581A(以及相应的US2006/0151706A1)公开了将从热转移片上拆除的 膜粘结到发光板上的技术。该膜包括保护层、防光层、粘结层等。但是该文件没有描述具有 发光功能(即辐射检测功能)的用于转移的膜。
技术实现思路
本专利技术有利地提供了一种辐射测量设备，其具有设置有辐射检测功能的膜。本专利技术还有利地提供了一种辐射测量设备，其包括具有发光膜的闪烁体部件，该 设备能够测量a射线和0射线两者。此外，本专利技术有利地提供了 一种技术，其可以简便地形成抵抗外力的发光层。(1)发光膜的解释根据本专利技术的辐射测量设备包括发光膜。发光膜优选地包括 从其中透射辐射的保护层；设置在保护层的后侧上的透射辐射并防止光的透射的防光层 (light tight layer)；设置在防光层的后侧上的包含闪烁体材料的发光层。在此，发光膜 优选地是已从转移片上分离并被转移到转移目标部件上的条状膜。转移目标包括发光板的 表面、后侧透明部件的表面、光检测器的光接收表面等。通过以上结构，利用转移技术，发光膜直接形成在转移目标部件上(即二者中间 不插入空气层)。根据需要，在发光膜上累积一个或多个额外的膜(例如防光膜或保护膜)。 发光膜通常包括保护层、防光层和发光层。防光层优选地形成为含有高反射率金属(例如 铝)的薄层，并透射从外部进入的穿过其中的辐射，并阻挡外部光的进入。防光层的厚度形 成为可以最小化辐射的衰减并可以表现出光屏蔽效应。保护层由透射辐射同时保护防光层 和发光层免受破坏的材料形成。虽然通常通过涂覆或印刷然后再硬化来形成涂覆层形式的 保护层以获得均勻的厚度，但是也可以通过其他方法来形成保护层。保护层的厚度形成为 可以最小化辐射的衰减并可以表现出保护效应。但是理想地，考虑待形成于闪烁体上的膜 的数量来确定防光层和保护层的厚度。可选地，理想的是考虑膜中防光层和保护层的厚度 来确定闪烁体上形成的膜的数量。当其他膜将被转移到发光膜上时，先被转移的发光膜可 能不包括保护膜。在这种情况下，在发光膜之后被转移的其他膜起到保护层的作用。类似 地，先被转移的发光膜可能不包括防光层。在这种情况下，在发光膜之后被转移的其他膜包 括防光层。发光层包括闪烁体材料。例如，发光层由当a射线进入闪烁体材料时发光的闪烁 体材料以及具有添加到其中的闪烁体材料的粘结材料形成。还可以使用检测0射线的闪 烁体材料。粘结材料作为在发光膜转移到转移目标部件上时将发光膜结合到转移目标部件 上的部件。理想的是保护层、防光层和发光层在整个区域上具有均勻的厚度。膜可以包括 设置在保护层和防光层之间的中间层以及设置在防光层和发光层之间的另一个中间层以 及其他层。发光膜可以直接形成在转移目标部件的表面上，或者形成在形成于转移目标部 件的表面上的透明涂层等等的表面上。由于转移目标部件相对于防光层和发光层起到后支撑部件的作用，并且由于防光 层和发光层夹在保护层和转移目标部件之间，因此可以有效地保护防光层和发光层免受物 理影响。例如，即使当在发光膜上局部施加外力时，力被分散到保护层和转移目标部件中， 因此可以防止或减小本应施加到防光层和发光层上的局部应力。此外，由于转移目标部件相对于保护层本身还起到后支撑部件的作用，因此可以增强保护层的强度。使用粘结技术不需要使用用于结合发光膜的独特或复杂的设备，其可以简便地形 成膜。为了形成发光膜，理想的是使用转移技术。在这种情况下，由于只需要将包括已经形 成的铝沉积层和辐射检测层的条状膜转移到转移目标部件上，因此不需要在高温下长时间 处理转移目标部件。此外，由于可以原样使用已经形成的具有均勻厚度的膜，可以避免不均 勻厚度的问题。虽然当采用热转移法时会出现转移目标部件的热传导，但是即使在这种情 况下，仍然可以在相对低温下执行处理，而且只需要短时间加热热转移部分即可，因此基本 上可以忽略加热产生的影响。此外，采用压力敏感转移法可以完全消除加热导致的潜在问 题。显然，还可以采用使用诸如紫外光的光的转移法。优选地，转移片是热转移片，发光膜通过热转移技术形成。优选地，转移片是压力 敏感片，发光膜通过压力敏感转移技术形成。通过使用上述转移方法，可以以简便的方式从 基膜上分离发光膜并将发本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种辐射测量设备，包括：发光膜；以及光检测单元，所述光检测单元检测从发光膜的后侧发出的光，其中发光膜包括保护层，所述保护层中透射辐射；设置在保护层的后侧上的防光层，所述防光层透射辐射并防止光的透射；以及发光层，所述发光层设置在防光层的后侧上并包括当辐射进入闪烁体材料时发光的闪烁体材料，以及发光膜是已从转移片上分离的条状膜。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】一种辐射测量设备，包括发光膜；以及光检测单元，所述光检测单元检测从发光膜的后侧发出的光，其中发光膜包括保护层，所述保护层中透射辐射；设置在保护层的后侧上的防光层，所述防光层透射辐射并防止光的透射；以及发光层，所述发光层设置在防光层的后侧上并包括当辐射进入闪烁体材料时发光的闪烁体材料，以及发光膜是已从转移片上分离的条状膜。2.如权利要求1所述的辐射测量设备，其中所述转移片是热转移片，且通过热转移法 形成发光膜。3.如权利要求1所述的辐射测量设备，其中通过热转移法在所述发光膜的上侧上分层 堆积具有光屏蔽特性的一个或多个膜。4.如权利要求1所述的辐射测量设备，其中所述发光层包括粘结材料，所述闪烁体材 料被添加到所述粘结材料中。5.如权利要求1所述的辐射测量设备，其中所述发光膜设置在透明后板的上侧上。6.如权利要求1所述的辐射测量设备，其中所述发光膜设置在所述光检测单元的光接 收表面上。7.一种辐射测量设备，包括发光板，所述发光板是透明的，且包括第一闪烁体材料；设置在所述发光板的上侧上的发光膜；以及光检测单元，所述光检测单元检测所述发光板中产生的光，并检测所述发光膜中产生 的光，其中所述发光膜包括保护层，所述保护层中透射辐射；设置在保护层的后侧上的防光 层，所述防光层透射辐射...

【专利技术属性】
技术研发人员：岩本明宪，
申请(专利权)人：阿洛卡株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]