一种仿石织纹玻化砖制造技术

技术编号:5613367 阅读:160 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本实用新型专利技术涉及一种仿石织纹玻化砖,该玻化砖包括面料层和底坯层,面料层设置在底坯层上方,所述的面料层上设有面料底花、正面线条纹理和侧面线条纹理,面料层周边设有倒角,所述的底坯层由背纹加强筋、凹槽和底坯料组成。与现有技术相比,本实用新型专利技术具有纹理线条自然流畅、整体性强等优点。(*该技术在2018年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及玻化砖,尤其是涉及一种仿石织纹玻化砖
技术介绍
目前在玻化砖产品市场上,有很多仿大理石纹理和线条的产品,这些线条有的是采用模块加入线条技术,有的是用平板印刷技术,产品线条特性是机械且硬性的,不能很好地体现天然石材自然流畅的效果。
技术实现思路
本技术的目的就是为了克服上述现有技术存在的缺陷而提供一种纹理线条自然流畅、仿大理石逼真,整体性强的仿石织纹玻化砖。本技术的目的可以通过以下技术方案来实现 一种仿石织纹玻化砖,其特征在于,该玻化砖包括面料层和底坯层,面料层设置在底坯层上方,所述的面料层上设有面料底花、正面线条纹理和侧面线条纹理,面料层周边设有倒角,所述的底坯层由背纹加强筋、凹槽和底坯料组成。所述的背纹加强筋有多条,设置在玻化砖的底面,多条背纹加强筋之间形成凹槽。所述的背纹加强筋有5 20条。与现有技术相比,本技术具有以下优点一. 纹理线条自然流畅的产品根据天然石材纹理线条设计,面料底花均匀柔和,线条纹理粗细协调,仿大理石效果逼真,该产品纹理类似黑金花,莎安娜米黄等名贵石材。二. 整体性强的产品两种微粉组成的面料底花和线条纹理在砖面上状态稳定,虽然每块砖线条位置有变化,但相邻线条的间距程度相同,所以,铺贴时,整体感很强。3三.替代天然石材的产品因其产品仿石效果逼真,对于想在装潢中用大理 石,但又担心其耐磨性、耐脏性、放射性、色差等问题存在,这款系列产品可以替 代,并且无天然石材的铺贴和使用烦恼。附图说明图l为本技术产品线条图; 图2为图1的A-A剖面图。具体实施方式以下结合附图和具体实施例对本技术进行详细说明。 实施例1如图1 2所示; 一种仿石织纹玻化砖,该玻化砖包括面料层8和底坯层4, 面料层8设置在底坯层4上方,所述的面料层8上设有面料底花1、正面线条纹理 2和侧面线条纹理7,面料层8周边设有倒角6,所述的底坯层4由背纹加强筋5、 凹槽3和底坯料组成,背纹加强筋5和凹槽3起到铺设、加强筋的作用,还可以省权利要求1.一种仿石织纹玻化砖,其特征在于,该玻化砖包括面料层和底坯层,面料层设置在底坯层上方,所述的面料层上设有面料底花、正面线条纹理和侧面线条纹理,面料层周边设有倒角,所述的底坯层由背纹加强筋、凹槽和底坯料组成。2. 根据权利要求1所述的一种仿石织纹玻化砖,其特征在于,所述的背纹加强筋有多条,设置在玻化砖的底面,多条背纹加强筋之间形成凹槽。3. 根据权利要求1所述的一种仿石织纹玻化砖,其特征在于,所述的背纹加强筋有5 20条。专利摘要本技术涉及一种仿石织纹玻化砖,该玻化砖包括面料层和底坯层,面料层设置在底坯层上方,所述的面料层上设有面料底花、正面线条纹理和侧面线条纹理,面料层周边设有倒角,所述的底坯层由背纹加强筋、凹槽和底坯料组成。与现有技术相比,本技术具有纹理线条自然流畅、整体性强等优点。文档编号E04F13/08GK201416245SQ20082015695公开日2010年3月3日 申请日期2008年12月11日 优先权日2008年12月11日专利技术者李慈雄 申请人:上海斯米克建筑陶瓷股份有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种仿石织纹玻化砖,其特征在于,该玻化砖包括面料层和底坯层,面料层设置在底坯层上方,所述的面料层上设有面料底花、正面线条纹理和侧面线条纹理,面料层周边设有倒角,所述的底坯层由背纹加强筋、凹槽和底坯料组成。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:李慈雄
申请(专利权)人:上海斯米克建筑陶瓷股份有限公司
类型:实用新型
国别省市:31[中国|上海]

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