分离偏光板工艺中有机酸的分离装置制造方法及图纸

技术编号:5532611 阅读:252 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本实用新型专利技术提供了一种偏光板工艺中有机酸的分离装置,包括:槽体,其中该槽体用于装载含有该有机酸的待处理液及作为萃取液的有机溶剂;入料端,与该槽体相连,其中该待处理液从目标槽通过该入料端导入该槽体;搅拌单元,配置于该槽体内,用于混合该有机酸的待处理液及该有机溶剂;加热单元,通过水相出料端与该槽体相连,其中在该槽体分层所得的水相溶液导入该加热单元;以及,蒸馏单元,通过油相出料端与该槽体相连,其中在该槽体分层所得的油相溶液导入该蒸馏单元。(*该技术在2018年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种偏光4反工艺所<吏用的装置,特别涉及一种 分离偏光板工艺中有机酸的分离装置
技术介绍
、液晶显示器(liquid crystal display、 LCD)是目前发展4交完全及4吏 用较广泛的平面显示器之一。液晶显示器一4殳具有液晶单元及配置 在液晶单元两俯'J的两片Y扁光4反。在偏光板的制造中, 一般通过将聚乙烯醇(Polyvinyl Alcohol、 PVA)薄膜用具有双色性的石典或染料施以染色后,用硼S臾进行交联, 以形成^扁光4反。然而在偏光板制造过程中,会在湿式工艺里添加己二酸,增加 延伸的倍率,以增加偏光^反的光学对比度,^旦由于在湿式工艺中移 动的巻料膜材,会将添加己二酸的槽体药液运送到后续的工艺槽体 中,使得偏光4反的后续工艺中,原本无己二酸药液的槽体中的己二 酸浓度增加,而使得后续工艺槽体药液的pH值下降,槽体药液随 着时间增加会逐渐酸化,加速槽体药液的不适用性。此外,酸化的 药液会进一步造成槽体及管路的腐蚀。因此,能将后续工艺中的己二酸药液从槽体中分离去除,避免 以上所述的问题,是目前偏光板己二酸湿式工艺重要的议题。
技术实现思路
由此,本技术的目的是提供分离偏光板工艺中有机酸的装 置,将后续工艺槽体药液中的有才几酸成分去除,避免后续工艺槽体药液的pH值下降,如此一来经处理后的后续工艺槽体药液即可重 复使用,且分离的有机酸也可回收再利用,达到节省成本、资源再 利用、以及环境保护等要求。为达成本技术的上述目的,该分离偏光板工艺中有机酸的 分离装置,可包括槽体,其中该槽体用于装载含有该有机酸的待 处理液及作为萃取液的有机溶剂;入料端,与该槽体相连,其中该 待处理液从目标槽通过入料端导入该槽体;搅拌单元,配置于该槽 体内,用于混合该有才几酸的4寺处理液及有才几溶剂;力卩热单元,通过 水相出料端与该槽体相连,其中在该槽体分层所得的水相溶液导入 该力口热单元;以及,蒸^留单元,通过油相出泮+端与该冲曹体相连,其 中在该槽体分层所得的油相溶液导入该蒸馏单元。根据本技术的分离偏光板工艺中有机酸的分离装置,其中 该目标槽为偏光板工艺中所使用的线上槽体,该线上槽体是偏光板 制造设备中用于容纳药液(溶液)的槽体,其与其他管线、组件和 槽体相连接。根据本技术的分离偏光板工艺中有机酸的分离装置,其中 有机酸经搅拌单元搅拌后溶于有机溶剂内,构成油相溶液。根据本技术的分离偏光板工艺中有机酸的分离装置,其中 该蒸馏单元用于回收该油相溶液内所包含的有机溶剂,并残留含有 才几酸的废液。根据本技术的分离偏光板工艺中有机酸的分离装置,其中 该加热单元用于去除水相溶液内的有机溶剂。根据本技术的分离偏光板工艺中有机酸的分离装置,其中 还包含管路,将经该加热单元分离出有机溶剂的水相溶液导回该目 标槽。根据本技术的分离偏光板工艺中有机酸的分离装置,其中 还包含纯4匕单元,与该蒸《留单元相连,用于回收有才几酸。根据本技术的分离偏光板工艺中有机酸的分离装置,其中 该有才几溶剂包含醚类、酮类、醇类、酯类、醛类、烷类、芳香烷类、 或其混合。此外,根据本技术另一优选实施例,该分离偏光板工艺中己二酸的分离装置,包括槽体,其中该槽体用于承载含有己二酸的待处理液及作为萃取液的有机溶剂;入料端,与该槽体相连,其 中该待处理液从目标槽通过该入料端导入该槽体;搅拌单元,配置 于该槽体内,用以混合该己二酸的待处理液及该有机溶剂;加热单 元,通过水相出料端与该槽体相连,其中在该槽体分层所得的水相 溶-液导入该力卩热单元;以及,蒸4留单元,通过油冲目出#+端与该才曹体 相连,其中在该槽体分层所得的油相溶液导入该蒸馏单元;以及, 纯化单元,与该蒸镏单元相连,用于回收该己二酸。根据本技术的分离偏光板工艺中己二酸的分离装置,其中 该目标槽为偏光板工艺中所使用的线上槽体。根据本技术的分离偏光板工艺中己二酸的分离装置,其中 有机酸经搅拌单元搅拌后溶于有机溶剂内,构成油相溶液。7根据本技术的分离偏光板工艺中己二酸的分离装置,其中 该蒸馏单元用于回收该油相〉容液内所包含的有才几溶剂,并残留含有机酸的废液。根据本技术的分离偏光板工艺中乙二酸的分离装置,其中 该加热单元用于去除水相溶液内的有才几溶剂。根据本技术的分离偏光板工艺中乙二酸的分离装置,其中 还包含管^各,将经该加热单元分离出有才几溶剂的水相溶液导回该目 标槽。根据本技术的分离偏光板工艺中乙二酸的装置,其中该有 机溶剂包含醚类、酮类、醇类、酯类、醛类、烷类、芳香烷类、或其混合D另外,根据本技术其它的优选实施例,本新型还才是供了一种连续式分离偏光板工艺中有机酸的装置,可包括多个槽体, 彼此以水相管路及油相管路相连,每一槽体包含搅拌单元;入料端, 与其中的槽体相连,用于将含有该有才几酸的;f寺处理液乂人目标槽通过该入料端导入该槽体;加热装置,通过水相出料端与其中的槽体相 连,其中在该等槽体分层所得的水相溶液导入该加热装置;以及, 蒸馏装置,通过油相出料端与其中的槽体相连,其中在这些槽体分 层所得的油相溶液导入该蒸馏装置。根据本技术的连续式分离偏光板工艺中己二酸的分离装 置,该目标槽为偏光板工艺中所使用的线上槽体。根据本技术的连续式分离偏光板工艺中己二酸的分离装 置,该有机酸经这些搅拌单元搅拌后溶于有机溶剂内,构成油相溶根据本技术的连续式分离偏光板工艺中己二酸的分离装 置,该蒸馏装置用于回收油相溶液内所包含的有机溶剂,并残留含 有才几酸的废液。根据本技术的连续式分离偏光板工艺中己二酸的分离装 置,还包含纯4t单元,与该蒸^留装置相连,用于/人含有才几酸的废液 回收有才几酸。根据本技术的连续式分离偏光板工艺中己二酸的分离装 置,该加热装置用于去除水相溶液内的有枳》容剂。才艮据本技术的连续式分离偏光^反工艺中己二酸的分离装 置,还包含管路,将经加热装置去除有机溶剂的水相溶液导回目标槽。根据本技术的连续式分离偏光板工艺中己二酸的分离装 置,该有积"容剂包含醚类、酮类、醇类、酯类、醛类、烷类、芳香 烷类、或其混合为《吏本技术的上述目的、特4t能更明显易懂,下文特举优选实施例,并配合所附图式,作-洋细i兑明如下附图说明图1为本技术的优选实施例所述的分离偏光板工艺中有机 酸的装置的示意图(有^U容剂比重小于水时)。图2为本技术的另 一优选实施例所述的分离偏光板工艺中 有才几酸的装置的示意图(有枳二容剂比重大于水时)。图3为本技术的伊乙选实施例所述的连续式分离偏光才反工艺 中有机酸的装置的示意图(有机溶剂比重小于水时)。图4为本技术的另一优选实施例所述的连续式分离偏光板 工艺中有机酸的装置的示意图(有才几溶剂比重大于水时)。具体实施方式请参考图1,示出了符合本技术所述的分离偏光板工艺中有机酸的装置100的优选实施例的装置示意图。该分离偏光板工艺 中有才几酸的装置,包括槽体10,该槽体10用于承载偏光板工艺目标槽20所排出的含 有才几酸(例如己二酸)的待处理液15及作为萃耳又液的有枳』溶剂l7。 该作为萃耳又液的有才几〉容剂17可包含醚类、酮类、醇类、酯类、醛 类、烷类、芳香本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种分离偏光板工艺中有机酸的分离装置,包括: 槽体,其中所述槽体用于装载含有所述有机酸的待处理液及作为萃取液的有机溶剂; 入料端,与所述槽体相连,其中所述待处理液从目标槽通过所述入料端导入所述槽体; 搅拌单元,配置于所述槽 体内,用于混合所述有机酸的待处理液及所述有机溶剂; 加热单元,通过水相出料端与所述槽体相连,其中在所述槽体分层所得的水相溶液导入所述加热单元;以及 蒸馏单元,通过油相出料端与所述槽体相连,其中在所述槽体分层所得的油相溶液导入所述 蒸馏单元。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:杨昆炫李信兴王传圣
申请(专利权)人:达信科技股份有限公司
类型:实用新型
国别省市:71[中国|台湾]

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