液晶显示装置的制造方法和液晶显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及不会产生不良现象而能够提高边框区域附近的显示质量的液晶显示装置的制造方法和液晶显示装置。本发明专利技术提供一种液晶显示装置的制造方法，该液晶显示装置包括一对相对的基板、在基板间设置的液晶层和设置在至少一个基板的液晶层侧的表面的取向膜，并且在像素内具有两个以上的畴，所述液晶显示装置的制造方法包括：使用设置有在遮光区域内形成有多个透光部的第一掩模部和按照与第一掩模部的透光部的形态不同的形态在遮光区域内形成有多个透光部的第二掩模部的光掩模，隔着第二掩模部对边框区域的取向膜进行曝光，并且隔着第一掩模部对显示区域的取向膜进行曝光的曝光工序。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及液晶显示装置的制造方法和液晶显示装置。更详细而 言，涉及能够实现优异的显示品质的有源矩阵型液晶显示装置及其制 造方法。
技术介绍
液晶显示装置是低电耗的显示装置，能够实现轻量化及薄型化， 所以，被广泛地利用于电视、个人计算机用监视器等。液晶显示装置 为非自发光型的显示装置，通常，对夹持在一对基板(有源矩阵基板 及彩色滤光片基板)之间的液晶分子的取向进行电控制，通过调节从 背光源供给的光量能够进行显示。但是，液晶显示装置一般存在视野 角特性较差的缺点，所以，在提高视野角特性方面存在改善的余地。相对于此，研发有在像素内将液晶分子的倾斜方向分割为2以上 的区域的取向分割的技术。根据该技术，在向液晶层施加电压的情况 下，液晶分子在像素内向不同的方向倾斜，所以能够改善视野角特性。 此外，液晶分子的取向(倾斜)方向不同的各区域也被称为畴，取向 分割也被称为多畴。作为进行取向分割的液晶模式，在水平取向模式中，可列举多畴 扭转向列(TN; Twist Nematic)模式、多畴双折射控制(ECB; Electrically Controlled Birefringence)模式、多畴光学补偿双折射(OCB; Optically Compensated Birefringence)模式等。另一方面，在垂直取向模式中， 可列举多畴垂直取向(MVA; Multi-Domain Vertical Alignment)模式、 PVA (Patterned Vertical Alignment)模式、多畴VAECB (Vertical Alignment ECB)模式、多畴VAHAN (Vertical Alignment Hybrid-aligned Nematic)模式、多畴VATN (Vertical Alignment Twisted Nematic)模式 等，在各模式的液晶显示装置中，完成了用于实现更加广视野角化的 各种改良。作为进行取向分割的方法，可列举研磨法、光取向法等。作为研 磨法，提案有将研磨区域和非研磨区域在利用形成有图案的抗蚀剂分 离的状态下进行取向膜的研磨处理的方法。但是，研磨法通过用巻绕 在辊上的布摩擦取向膜表面来进行取向处理。因而，在研磨法中，可 能会产生布毛、削片等垃圾，或产生由静电引起的开关元件的破坏、 特性转变、劣化等不良现象。另一方面，光取向法是使用光取向膜作为取向膜材料，向光取向 膜照射(曝光)紫外线等的光，由此使取向膜产生取向限制力和/或使 取向膜的取向限制方向变化的取向方法。因而，由于光取向法能够以 非接触的方式进行取向膜的取向处理，所以能够抑制在取向处理中的 污垢、垃圾等的产生。此外，通过使用形成有具有所期望的图案的透 光部的图案光掩模进行取向膜的曝光，能够在不同的条件下对取向膜 面内的所希望的区域进行光照射，因此能够容易地形成具有所希望的 设计的畴。作为与光取向法相关的技术，例如公开有下述的技术，沿着通过 取向分割形成的分割区域之间的边界形成开口部的技术(例如，参照 专利文献1)，在分割取向区域的边界部设置与该分割取向区域的液晶分子的取向状态不同的区域的技术(例如，参照专利文献2)。另外，液晶显示装置， 一般在位于进行图像(视频)显示的显示 区域的周围的边框区域(显示外区域)配置用于对背光源的光进行遮 光的遮光层。作为遮光层，通常使用形成在彩色滤光片基板上的树脂 制的黑矩阵(BM: blackmatrix)。但是，近年来，从縮小基板间的间隔(单元厚度)、提高液晶显示 装置的响应速度的观点出发，BM要求形成为非常薄。其结果，BM中 的光透过率增加，在边框区域产生漏光，会对在显示区域显示的图像 带来不良影响。因此，在现有技术的液晶显示装置中，在提高边框区 域附近的显示质量方面还有进一步改善的余地。相对于此，公开了下述技术，通过在形成于边框区域的引出配线 间设置遮光罩(Light shield device:遮光器件)，能够抑制在显示区域 的边缘产生漏光(例如，参照专利文献3)。但是，在配置遮光罩以覆 盖邻接的引出配线的情况下，在一方的引出配线和遮光罩的层间设置的绝缘膜存在成膜不良，在其之间产生漏电的时候，遮光罩成为覆盖 不同的信号流入的另一方的引出配线的结构，导致邻接的引出配线受 到相互的信号的影响。另外，在邻接的两根引出配线和遮光罩之间的 两处产生绝缘膜的成膜不良时，在邻接的引出配线间经由遮光罩产生 配线漏电。因此，引出配线和遮光罩有必要分离配置。但是，如果引 出配线和遮光罩的间隔离的过远，则遮光罩就不能够对来自背光源的 光进行充分的遮光，会产生漏光，显示质量下降。另一方面，如果引 出配线和遮光罩的间隔过小，则在制造工序中，在引出配线的金属膜 上产生膜残留，在该膜残留与邻接的引出配线漏电的情况下，存在不 能够修正该漏电的情况。即，即使通过利用激光切离该部(膜残留) 以修正漏电，还存在遮光罩也熔接的可能性，所以这种情况下，会出 现修正不当。专利文献1:日本特开2000-257646号公报 专利文献2:日本特开2002-31804号公报 专利文献3:美国专利第6975377号说明书
技术实现思路
本专利技术就是鉴于上述现状而提出的，其目的在于提供一种不会产 生不良现象而能够提高边框区域附近的显示质量的液晶显示装置的制 造方法以及液晶显示装置。本专利技术的专利技术者们，对于不会产生不良现象而能够提高边框区域 附近的显示质量的液晶显示装置的制造方法以及液晶显示装置进行了 各种研究，着眼于在进行了基于光取向法的取向分割的情况下在各畴 间产生的暗线、即暗的线。在现有技术中，通过在面内具有一样的透 光部的图案的光掩模，对与显示区域和边框区域对应的取向膜进行曝 光，所以，发现在显示区域中各畴间产生的暗线与在边框区域中各畴 间产生的暗线的形态(平面形状、间距等)是相同的，并且，使用设 置有第一掩模部和第二掩模部的光掩模，其中，上述第一掩模部形成 有适于形成显示区域的畴的透光部的图案，上述第二掩模部形成有与 掩模部的透光部的图案不同的透光部的图案，通过隔着第二掩模部对 边框区域的取向膜进行曝光，并且隔着第一掩模部对显示区域的取向膜进行曝光，由此，设定显示区域的所希望的畴形式(畴和在畴间产 生的暗线的配置形式)，并使得边框区域中在畴间产生的暗线的数量和 /或暗线的面积与现有技术相比不同，更加优选使之变大，结果，发现 能够抑制边框区域附近产生漏光，能够很好的解决上述课题，从而达 成本专利技术。艮P，本专利技术涉及一种液晶显示装置的制造方法，该液晶显示装置 包括一对相对的基板、在基板间设置的液晶层和设置在至少一个基板 的液晶层侧的表面的取向膜，并且在像素内具有两个以上的畴，上述 制造方法包括使用设置有在遮光区域内形成有多个透光部的第一掩 模部和按照与第一掩模部的透光部的形态不同的形态在遮光区域内形 成有多个透光部的第二掩模部的光掩模，隔着第二掩模部对边框区域 的取向膜进行曝光，并且隔着第一掩模部对显示区域的取向膜进行曝 光的曝光工序。由此，能够适当地规定畴和在畴间产生的暗线的配置 形态，在显示区域实现所希望的显示特性，另一方面，能够使得边框 区域中在畴间产生的暗线的数量和/或暗线的面积与现有技术不同。即， 能本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种液晶显示装置的制造方法，该液晶显示装置包括一对相对的基板、在基板间设置的液晶层和设置在至少一个基板的液晶层侧的表面的取向膜，并且在像素内具有两个以上的畴，该液晶显示装置的制造方法的特征在于：　该制造方法包括：使用设置有在遮光区域内形成有多个透光部的第一掩模部和按照与第一掩模部的透光部形态不同的形态在遮光区域内形成有多个透光部的第二掩模部的光掩模，隔着第二掩模部对边框区域的取向膜进行曝光，并且隔着第一掩模部对显示区域的取向膜进行曝光的曝光工序。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：中川英俊，
申请(专利权)人：夏普株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]