本发明专利技术涉及用于有机发光器件（１０）的基板，其包括光学指数为ｎ０的透明基板（１），该基板（１）载有在第一主面（１１）上被称为下电极的电极（３）的第一透明或半透明涂层，其中下电极的薄层电阻小于或等于６Ω／ｃａｒｒé，且其包括层叠的以下各层：－具有给定的光学厚度Ｌ１、且有光学指数ｎ１的抗反射子层（２），其数值应能使ｎ１与ｎ０的比率大于或等于６／５；－具有给定厚度ｅ１的第一金属层；－第一隔离层，具有给定的光学厚度Ｌ２；－第二金属层，具有本征的导电性能，并且具有给定的厚度ｅ２；以及－适配逸出功的覆盖层，Ｌ１为２０ｎｍ－１２０ｎｍ，Ｌ２为７５ｎｍ－２００ｎｍ，第一和第二金属层的厚度之和ｅ１＋ｅ２小于或等于４０ｎｍ。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术的主题是用于有机发光器件的基板，以及包括该基板的有机发光器件。
技术介绍
已知的有机发光系统或0LED (有机发光二极管)包括一种或多种有机电致发光材 料，其通过通常以两个导电层形式侧翼包围它或这些材料的电极对其供电。这些的导电层通常包括基于氧化铟的层，其一般为掺杂锡的氧化铟，更多以其缩 写IT0为人所知。IT0层已经有人进行了专门研究。它们可以容易地通过磁控溅射法沉积， 可源自氧化物靶(非反应性溅射)，或源自基于铟和基于锡的靶(氧类氧化剂存在下的反应 性溅射)，且其厚度为约100-150nm。然而，该IT0层有某些缺点。首先，材料及用于改善导 电性的高温(350°C )沉积法会带来额外成本。薄层电阻保持相对较高(大约10Q/Carr6)， 除非层的厚度增加到大于150nm，因而会导致透明度降低及表面粗糙度增加，这对于0LED 是关健的。此外，对于大面积的均勻照明，需要形成不连续的下电极，其典型地通过形成几 mm2的电极区，并且需要大幅减少每个电极区间的距离，典型地是减少约十微米。并且，为了 做到这一点，尤其要使用昂贵且复杂的光刻方法和钝化技术。因此，开发了使用金属薄膜代替IT0的新型电极结构，以便能制造用于照明的发 射基本上为白色的光的0LED器件。例如，从文献US 2005/0073228A1已知了一种能发出基本上为白色光的有机发光 器件，该器件配备有电极，通常称为下电极或底电极，所述电极由以下各层层叠组成-吸收-还原子层；-薄的半反射金属层，例如，22.5nm的银层；-诸如IT0的透明导电材料的覆盖层。上电极本身由薄的反射且不透明的金属层组成，例如75. 5nm的银层。这两种金属层形成了 Fabry-P6r0t类型的微隙，能诱导0LED器件的发射光谱，其 中心大约位于给定谐振的波长附近。由于该发射光谱严重依赖于观测角度，所以该0LED器件还包括光学元件，该元件 能够通过在可见光形成单一的宽带发射光谱来降低角相关性。该光学元件是全内反射型阻挠系统(“TIRF”或全内反射型阻挠器)，布置在下电 极的下面或基板的反面上。例如，其为特氟隆箔的形式。本专利技术自身设定的目的是提供一种0LED器件，该器件能限制可见光谱区内多色 发射光谱的角相关性，而其设计更简单和/或更有效。尤其是，关键在于开发一种0LED器件，该0LED器件特别适合于一般的(建筑和/ 或装饰)照明应用，和/或背光应用，和/或标志应用，并且其具有任何尺寸。
技术实现思路
为此，本专利技术的第一主题是一种用于有机发光器件的基板，其包括光学指数为nO 的透明基板(1)，该基板(1)载有在第一主面(11)上被称为下电极的电极(3)的第一透明 或半透明涂层，并且该下电极包括层叠的以下各层_具有给定的光学厚度L1、且具有光学指数nl的抗反射子层，使得nl与nO的比 率大于或等于6/5 ；-具有给定厚度el的第一金属层，(这样形成第一反射板)；_第一隔离层，具有给定的光学厚度L2，布置在第一金属层之上；-第二金属层，具有本征的导电性能(这样形成第二反射板)，并且具有给定的厚 度e2，此第二金属层布置在第一隔离层之上；以及-适配逸出功的覆盖层，此覆盖层布置在第二金属层之上，并且具有给定的厚度 e30此外，根据本专利技术-L1 为 20nm_120nm ；-L2 为 75nm-200nm，尤其是 160nm_200nm ；-第一和第二金属层的厚度之和el+e2小于或等于40nm，并且优选小于或等于 25nm,以便减少吸收。-下电极的薄层电阻小于或等于6Q/carr6。这样，通过选择包括至少两个金属层的电极结构，并结合明智地选择光学厚度L1 和L2，使得可以明显地降低与观测角有关的色差。更确切地说，在第一电极(下电极，即最靠近基板的电极)中存在的两个金属层使 得一旦完成0LED器件，就可以形成微隙，所述微隙能在可见光谱区充分隔开(优选间隔至 少lOOnm，甚至200nm)的两个不同波长上产生谐振(分别地在第一薄金属层和第二电极之 间，以及在第二薄金属层和第二电极之间)，例如一个在450nm而另一个在650nm。通过根 据本专利技术正确调节L1和L2值的范围(相当于调节两个微隙间的光学距离)，这两个峰可以 变宽至在可见光谱区形成单一的宽带光谱。目标光谱既可以是在可见光谱区中基本上“平的(flat)”光谱，生成(准的)纯 白光，也可以是任何其它光谱，特别是对应于背光和照明领域要求的光谱在CIE XYZ 1931 色度图中在0°时用坐标(0.45;0.41)定义的光源A( “黄”光)的光谱，在CIE XYZ 1931 色度图中在0°时用坐标(0. 33 ;0. 33)定义的光源E(“白”光)的光谱，等等。优选地，为了具有最佳的色彩表现，通过选择L1和L2，使得到的谐振不会通过干 涉效应严重衰减0LED系统发射层发射光谱的一种或多种色彩。例如，衰减可小于70%，甚 至小于或等于50%。有利地，为了尽可能多地限制角相关性-L1小于或等于lOOnm，更优选小于或等于80nm ；并且/或者-L1大于或等于40nm，更优选大于或等于50nm ；并且/或者-L2小于或等于160nm，或甚至130nm ；并且/或者-L2大于或等于90nm ；并且/或者-L1小于L2，尤其是L1至少大于或等于1. 5L1或甚至1. 65L1，优选小于2. 5L1，或甚至小于2L1。电极不是为了尽可能透明而优化，而是为了产生适合于宽带发射体的微隙而优 化。此外，令人惊讶地，加入第二银层很少会损害进入0LED器件发射的光辐射空气的 提取效率，即，离开后进入空气的光功率相对于源所发射的总光功率之比。配备此类电极的0LED器件简单、紧凑、可靠、耐用，并且不取决于其它的 功能元件，如文献US 2005/0073228A1中描述的解决方案。然而，通过增加文献US 2005/0073228A1所描述的该功能元件(体积或表面散射层、特氟隆箔等)，可以进一步提高 本专利技术的0LED器件的光提取。根据本专利技术的电极可以覆盖大的面积，例如0. 02m2或更大的表面积，或甚至大于 或等于0. 5m2，或大于或等于lm2。根据本专利技术的电极可保持满意的导电性能，或者甚至当第一隔离层不绝缘时可以 改善导电性能。术语“层”在本专利技术的含义中应该理解为指可能由单一材料制成的层(单层)，或 若干个层(多层)，每层可由不同的材料制成。在本专利技术的含义中，除非另有所指，厚度对应于几何厚度。在本专利技术的含义中，词语“基于”通常可理解为指主要含所讨论材料的层，也就是 说，整体中含有至少50%的所述材料。在本专利技术的含义中，词语“在...之间”可自然理解为意指所指出的限定值。在本专利技术中，提到了下近邻(subjacent)层“X”，或在另一个层“y”之下的层“X”， 这自然表示层“X”比层“y”更接近基板。对于光学指数n0、nl，可以选择550nm时的值。抗反射子层(类似于第一隔离层)可以是多层，光学厚度L1 (或L2)自然为所讨 论的每个层的光学厚度之和，而光学指数nl则为多层的指数。因此，所述和是对全部层所 取的乘积层厚度乘以层光学指数。自然，抗反射子层(任选的基层和/或任选的平滑层，和/或接触层)以及第一隔 离层(任选的附加层和/或任选的平滑层本文档来自技高网...
【技术保护点】
用于有机发光器件（１０）的基板，其包括光学指数为ｎ０的透明基板（１），该基板（１）载有在第一主面（１１）上被称为下电极的电极（３）的第一透明或半透明涂层，并且该下电极包括层叠的以下各层：－具有给定的光学厚度Ｌ１、且具有光学指数ｎ１的抗反射子层，使得ｎ１与ｎ０的比率大于或等于６／５；－具有给定厚度ｅ１的第一金属层（３０），其布置在抗反射子层上；－适配逸出功的覆盖层（３５），其具有给定的厚度ｅ３，并布置在第一金属层上；其特征在于，下电极（３）还包括：－第一隔离层，其具有给定的光学厚度Ｌ２，并布置在第一金属层之上且在覆盖层之下；－第二金属层（３０′），其具有本征的导电性能，并具有给定的厚度ｅ２，此第二层布置在第一隔离层与覆盖层之间；其特征在于，Ｌ１为２０ｎｍ－１２０ｎｍ，Ｌ２为７５ｎｍ－２００ｎｍ，第一和第二金属层的厚度之和ｅ１＋ｅ２小于或等于４０ｎｍ；并且其特征在于，下电极的薄层电阻小于或等于６Ω／ｃａｒｒ＊。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：G勒康，FJ维尔默施，S恰库罗夫，H热拉尔丹，A贾斯，
申请(专利权)人：法国圣戈班玻璃公司，
类型：发明
国别省市：FR[法国]
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。