【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
【技术保护点】
一种系统,包含: 其尺寸和构型适于放置在舌之内或之上的第一结构,所述第一结构包括铁磁材料, 其尺寸和构型适于放置在软腭或腭垂区之内或之上的第二结构,所述第二结构包括铁磁材料,以及 其尺寸和构型适于以期望关系放置在所述第一和 第二结构前部的组织之内或之上的第三结构,所述第三结构包括通过吸引所述第一和第二铁磁材料这两者而与所述第一和第二铁磁材料两者进行磁相互作用的磁性材料。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员:J帕拉斯查克,RP鲍彻,EM吉利斯,AW克雷默,SA麦吉尔,LM纳尔逊,AD托马斯,
申请(专利权)人:皇家飞利浦电子股份有限公司,
类型:发明
国别省市:NL[荷兰]
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