【技术实现步骤摘要】
一种提高膜层损伤阈值的坩埚
本专利技术专利涉及光学镀膜领域，尤其是一种提高膜层损伤阈值的坩埚。技术背景目前电子枪镀膜工艺中采用电子枪产生的电子束加热金属坩埚中的膜料使之蒸 发并沉积在基片上形成薄膜，现有技术的缺点是如果加热温度非常高或者膜料被打穿使得 部分电子束对坩埚直接加热，导致微量的坩埚成份随膜料一起参与蒸发成膜，从而影响膜 层的纯度，进而影响膜层损伤阈值，本专利技术时选用与镀制膜料一样的物质通过特殊工艺制 造成的坩埚。该坩埚只装载与其为统一物质的材料作为膜料，这样能够保证镀制膜层的纯 度。由于坩埚的物质成份与膜料一致，及时出现坩埚的成份随膜料一起蒸发，生成的膜层的 纯度也不会被破坏，从而能有效提高镀制膜层抗损伤能力。
技术实现思路
本专利技术采用与镀膜膜料一样的材料加工成坩埚，材料可以是Pa2O5，HFO2或SiO2，制 成的坩埚只装载与坩埚材料一样的膜料进行镀膜，保证镀制膜层的纯度。具体实施方式实施例一采用Si02材料制成坩埚，将Si02膜料放入坩埚中，再将坩埚放入电子 枪镀膜机中蒸镀，得到的镀制膜层损伤阈值较采用普通坩埚大幅提高。权利要求1.一种提高膜层损伤阈值的坩埚，采用与镀制膜料一样的物质通过特殊工艺制造成的 坩埚。其特征在于该坩埚只装载与坩埚材料一样的物质作为膜料。2.根据权利要求1所述的一种提高膜层损伤阈值的坩埚，其特征在于所述坩埚的材 料可以是 ρει205，HFO2 或 SiO2。全文摘要本专利技术涉及一种提高膜层损伤阈值的坩埚，本专利技术选用与镀制膜料一样的物质通过特殊工艺制造成的坩埚。该坩埚只装载与其为统一物质的材料作为膜料，这样...
【技术保护点】
一种提高膜层损伤阈值的坩埚，采用与镀制膜料一样的物质通过特殊工艺制造成的坩埚。其特征在于：该坩埚只装载与坩埚材料一样的物质作为膜料。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：韩剑锋，
申请(专利权)人：福建福晶科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：35
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