光学相干断层摄像装置制造方法及图纸

技术编号:545692 阅读:202 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术涉及一种光学相干断层摄像装置,其中基准光路至少包括第一基准光路和第二基准光路,所述第二基准光路的光路长度短于所述第一基准光路的光路长度,其中使用所述第一基准光路基于光学干涉获取在第一检查位置处的所述对象的第一断层信息,并且使用所述第二基准光路基于光学干涉获取在第二检查位置处的所述对象的第二断层信息,所述第二检查位置关于所述对象的深度方向比所述第一检查位置浅;并且使用所述第二断层信息,校正基于所述第一断层信息获得的在所述第一检查位置处的断层图像的位置偏离。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种光学相干断层摄像装置,其中来自光源的光被分离成测量光和基准光,其中所述测量光通过测量光路被投射到要被检查的对象上,其中从所述要被检查的对象返回的所述测量光的返回光被朝检测位置引导,其中所述基准光被通过基准光路朝所述检测位置引导,以便所述基准光与被引导到所述检测位置的所述返回光光学干涉,并且其中使用基于光学干涉的信号获得所述要被检查的对象的断层图像,其特征在于: 所述基准光路至少包括第一基准光路和第二基准光路,所述第二基准光路的光路长度短于所述第一基准光路的光路长度;所述装置配置成使用所述第一基准光路基于光学干涉获取在第一检查位置处的所述对象的第一断层信息,并且使用所述第二基准光路基于光学干涉获取在第二检查位置处的所述对象的第二断层信息,所述第二检查位置关于所述对象的深度方向比所述第一检查位置浅;并且 所述装置配置成使用所述第二断层信息,校正基于所述第一断层信息获得的在所述第一检查位置处的断层图像的位置偏离。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:广濑太
申请(专利权)人:佳能株式会社
类型:发明
国别省市:JP[日本]

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