【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
【技术保护点】
一种形成微电子结构的方法,所述方法包括: 提供具有表面的基材; 向所述表面施用组合物,所述组合物包含包括支化聚合物、支化低聚物或其混合物的化合物,所述化合物具有第一分子量; 使所述组合物中的化合物交联;和 对所述组合物进行曝光,烘焙所述组合物,从而使所述化合物解交联,并使所述化合物断裂成各部分,这些部分中至少约80%具有小于所述第一分子量的相应的分子量。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员:徐浩,RML梅尔卡多,DJ格雷罗,JD米多尔,
申请(专利权)人:布鲁尔科技公司,
类型:发明
国别省市:US[美国]
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