可光成像的支化聚合物制造技术

技术编号:5432335 阅读:129 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
提供了可溶于显影剂的新颖抗反射涂料组合物以及这些组合物的使用方法。所述组合物包含多官能酸,所述多官能酸与多官能乙烯基醚反应以形成支化聚合物或低聚物。在使用中,将所述组合物施用于基材并进行热交联。用曝光并在曝光后进行烘焙之后,固化的聚合物/低聚物将解交联和解聚,使得该层可溶于典型的光刻胶显影溶液(如碱性显影剂)中。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】
一种形成微电子结构的方法,所述方法包括:  提供具有表面的基材;  向所述表面施用组合物,所述组合物包含包括支化聚合物、支化低聚物或其混合物的化合物,所述化合物具有第一分子量;  使所述组合物中的化合物交联;和  对所述组合物进行曝光,烘焙所述组合物,从而使所述化合物解交联,并使所述化合物断裂成各部分,这些部分中至少约80%具有小于所述第一分子量的相应的分子量。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:徐浩RML梅尔卡多DJ格雷罗JD米多尔
申请(专利权)人:布鲁尔科技公司
类型:发明
国别省市:US[美国]

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