基于散射辐射分数的X-射线探测器增益校准制造技术

本发明专利技术公开一种用于二维Ｘ－射线探测器（３１５）的增益校准，其中单独地测量或估计用于散射辐射（３０７ｂ）和直射辐射（３０７ａ）的增益系数。可以将加权平均应用到适当的散射分数。依赖于散射分数的增益校准方法与公知的增益校准方法相比，在Ｘ－射线图像中产生了更少的环型伪影，该公知的增益校准方法没有考虑到达所述Ｘ－射线探测器（３１５）的散射辐射的所述分数。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】
一种用于确定表示二维Ｘ－射线探测器（１１５，２１５，３１５）的增益系数的增益数据集的方法，所述二维Ｘ－射线探测器（１１５，２１５，３１５）特别是用于医学Ｘ－射线成像的二维Ｘ－射线探测器阵列（１１５，２１５，３１５），所述方法包括以下步骤：　　提供表示第一Ｘ－射线图像（Ｇ（ｘ，ｙ））的第一增益数据集，所述第一Ｘ－射线图像（Ｇ（ｘ，ｙ））由直射的Ｘ－辐射（３０７ａ）产生，所述直射的Ｘ－辐射（３０７ａ）从Ｘ－射线源（１０５，２０５，３０５）发射并且在不存在感兴趣的对象（１１０， ２１０，３１０）的情况下由所述Ｘ－射线探测器（１１５，２１５，３１５）探测；　获得表示第二Ｘ－射线图像的第二增益数据集，所述第二Ｘ－射线图像基于散射的Ｘ－辐射（３０７ｂ），所述散射的Ｘ－辐射（３０７ｂ）从所述Ｘ－射线源（１０５，２０５ ，３０５）发射并且在存在预定对象（１１０，２１０，３１０）的情况下由所述Ｘ－射线探测器（１１５，２１５，３１５）探测；以及　使所述第一增益数据集与所述第二增益数据集结合以给出所述增益数据集。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：J蒂默，PG范德哈尔，
申请(专利权)人：皇家飞利浦电子股份有限公司，
类型：发明
国别省市：NL[荷兰]