压力平衡的低摩擦密封件制造技术

本发明专利技术涉及压力平衡的低摩擦密封件，具体而言，一种压力平衡密封件（１１０）包括面朝向内的径向方向的密封面（１１６）和包括与定子交界的至少一个表面的定子界面。该压力平衡密封件（１１０）还包括摩擦减少特征（１２０）。该摩擦减少特征（１２０）包括在密封面（１１６）上的腔。该腔（１２０）被构造为接受流体，使得作用在压力平衡密封件（１１０）上的法向力被由流体的压力所产生的力所平衡。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种压力平衡密封件（１１０），其位于包括第一定子元件（１０２）和第二定子元件（１０４）的定子的环形腔（１０６）内，所述压力平衡密封件（１１０）包括：面向向内的径向方向的密封面（１１６）；包括与所述定子交界的至少一个表面的定子界面；以及包括在所述密封面（１１６）上的腔的摩擦减少特征（１２０），所述腔被构造为沿着所述密封面（１１６）的槽（１２０），以允许流体从邻近所述定子界面的至少一部分的至少一个更高压力的区域移动至邻近所述密封面（１１６）的至少一个更低压力的区域，使得作用在所述压力平衡密封件（１１０）上的法向力被由所述流体的压力产生的力平衡，从而减少所述压力平衡密封件（１１０）和在轴向方向（１６０）上运动的活塞之间的摩擦。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：NA特恩奎斯特，KM帕克，郑小清，RR埃尔德蒙格，RC潘内基特，AK辛普森，方飙，
申请(专利权)人：通用电气公司，
类型：发明
国别省市：US