抗体制剂制造技术

本发明专利技术涉及剪切且温度稳定的抗体制剂，其比常规制剂（如３０ｍＭ柠檬酸盐，１００ｍＭ?ＮａＣｌ，ｐＨ?６．５）更加稳定。当经受应激条件时，本发明专利技术的剪切且温度稳定的抗体制剂显示出沉淀减少，而常规制剂则发生聚集。该结果出人意料，因为通过观察这两种制剂的ＤＳＣ（差示扫描量热计）曲线可见它们在热力学上是相似的。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】
一种抗ＣＤ２０抗体制剂，其包含治疗有效量的抗ＣＤ２０抗体，其中该制剂还包含１０至１００ｍＭ乙酸钠、２５至１００ｍＭ氯化钠、０．５至５％精氨酸游离碱、０．０２至０．２ｍＭＥＤＴＡ、０．０１至０．２％聚山梨醇酯８０，且调节至ｐＨ５．０至７．０。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：查伦E布里斯班，阿莫尔S凯特卡，厄拉T拉什马，
申请(专利权)人：葛兰素史密斯克莱有限责任公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]