用于制备５－卤代烷基－４，５－二氢异＊唑衍生物的方法技术

本发明专利技术公开了用于制备式（１）的化合物的方法其中Ｒ１为ＣＨＸ２、ＣＸ３、ＣＸ２ＣＨＸ２或ＣＸ２ＣＸ３；Ｘ各自独立地为Ｃｌ或Ｆ；Ｚ为任选被取代的苯基；并且Ｑ为如公开中所定义的各自任选被取代的苯基或１－萘基；所述方法包括与式（２）的化合物接触。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】,5-二氢异*唑衍生物的方法
本专利技术涉及，5-二氢异噁唑衍生物的方法。本专利技术还涉 及可作为原料用于上述方法中的新型烯酮。专利技术概述本专利技术涉及制备具有式1结构的化合物的方法 其中R1 为 CHX2、CX3、CX2CHX2 或 CX2CX3 ；X各自独立地为C1或F;Z为任选被取代的苯基；Q 为 Qa 或 Qb ；Qa为被一个Q1取代且任选被一至四个取代基取代的苯基，所述取代基独立地选自 R3； Q1为苯环或5元或6元饱和或不饱和杂环，每个环任选被一个或多个取代基取代， 所述取代基独立地选自卤素、crc6烷基、crc6卤代烷基、c3-c6环烷基、c3-c6卤代环烷基、 crc6烷氧基、crc6卤代烷氧基、crc6烷硫基、crc6卤代烷硫基、crc6烷基亚磺酰基、crc6 卤代烷基亚磺酰基、CfCe烷基磺酰基、CfCe卤代烷基磺酰基、-CN、-N02、-N(R4)R5、-C( = ff) N(R4)R5、-C( = 0) OR5 和 R7 ；Qb为任选被取代的1-萘基；R3各自独立地为卤素、CfC；烷基、CfC；卤代烷基、C2-C6烯基、C2_C6卤代链烯基、 c2-c6炔基、c3-c6卤代炔基、c3-c6环烷基、c3-c6卤代环烷基、crc6烷氧基、crc6卤代烷氧 基、crc6烷硫基、c2-c7烷基羰基、c2-c7卤代烷基羰基、crc6卤代烷硫基、crc6烷基亚磺酰 基、Ci-Ce卤代烷基亚磺酰基、Ci-Ce烷基磺酰基、Ci-Ce卤代烷基磺酰基、_N (R4) R5、_C ( = ff) N(R4)R5、-c( = ff) OR5, -CN、-OR11或-N02 ；或苯环或5元或6元饱和或不饱和杂环，每个环 任选被一个或多个取代基取代，所述取代基独立地选自商素、(「(；烷基、Ci-C；商代烷基、 C3-C6环烷基、C3-C6商代环烷基、CfCe烷氧基、&-(；商代烷氧基、CfCe烷硫基、&-(；商代烷 硫基、crc6烷基亚磺酰基、crc6商代烷基亚磺酰基、crc6烷基磺酰基、crc6商代烷基磺酰 基、-CN、-N02、-N (R4) R5、-c ( = ff) N (R4) R5、-c ( = 0) OR5 和 R7 ；R4各自独立地为H、CrC6烷基、C2_C6烯基、C2_C6炔基、C3_C6环烷基、C4_C7烷基环 烷基、c4-c7环烷基烷基、c2-c7烷基羰基或c2-c7烷氧羰基；R5各自独立地为H ;或(^-(6烷基、C2_C6烯基、C2_C6炔基、C3_C6环烷基、C4_C7烷基环 烷基或c4-c7环烷基烷基，每个任选被一个或多个取代基取代，所述取代基独立地选自R6 ；R6各自独立地为卤素、Q-C；烷基、CfQ烷氧基、&_(；烷硫基、&_(；烷基亚磺酰基、 crc6烷基磺酰基、crc6烷氨基、c2-c8 二烷基氨基、c3-c6环烷基氨基、c2-c7烷基羰基、c2-c7 烷氧羰基、c2-c7烷氨基羰基、c3-c9 二烷基氨基羰基、c2-c7卤代烷基羰基、c2-c7卤代烷氧基 羰基、c2-c7卤代烷基氨基羰基、c3-c9卤代二烷基氨基羰基、-OH、-NH2、-CN或-N02 ；或Q2 ；R7各自独立地为苯环或吡啶环，每个环任选被一个或多个取代基取代，所述取代 基独立地选自R8;R8各自独立地为卤素、Q-C；烷基、CfQ卤代烷基、Q-C；烷氧基、&_(；卤代烷氧基、 CrC6烷硫基、&-(；卤代烷硫基、CfCe烷基亚磺酰基、&-(；卤代烷基亚磺酰基、CfCe烷基磺 酰基、crc6卤代烷基磺酰基、crc6烷氨基、c2-c6 二烷基氨基、c2-c4烷基羰基、c2-c4烷氧羰 基、c2-c7 烷氨基羰基、c3-c7 二烷基氨基羰基、-OH、-NH2、-c( = 0)OH、-CN 或 _N02 ；Q2各自独立地为苯环或5元或6元饱和或不饱和杂环，每个环任选被一个或多个 取代基取代，所述取代基独立地选自卤素、crc6烷基、crc6卤代烷基、c3-c6环烷基、c3-c6 卤代环烷基、crc6烷氧基、crc6卤代烷氧基、crc6烷硫基、crc6卤代烷硫基、crc6烷基亚 磺酰基、crc6卤代烷基亚磺酰基、crc6烷基磺酰基、crc6卤代烷基磺酰基、crc6烷氨基、 c2-c6 二烷基氨基、-CN、-N02、-c ( = ff) N (R9) R10 和-c ( = 0) OR10 ；R9各自独立地为H、CrC6烷基、CrC6卤代烷基、c2-c6烯基、C2_C6炔基、C3_C6环烷 基、c4-c7烷基环烷基、c4-c7环烷基烷基、c2-c7烷基羰基或c2-c7烷氧羰基；R10各自独立地为H ；或CfQ烷基、Ci-Q卤代烷基、c2-c6烯基、c2-c6炔基、C3_C6环 烷基、c4-c7烷基环烷基或c4-c7环烷基烷基；R11各自独立地为H ；或C2_C6烯基、C2-C6炔基、C3_C6环烷基、C4_C7烷基环烷基、C4_C7 环烷基烷基、C2-C7烷基羰基、C2-C7烷氧羰基、CfCe烷基磺酰基或CfCe商代烷基磺酰基；并 且W各自独立地为0或S ；所述方法包括，在碱的存在下，使式2化合物与羟胺接触， 其中R\Q和Z如上文式1中定义。本专利技术还涉及作为原料用于上述方法中的式2新型化合物。专利技术详述如本文所用，术语“包含”、“包括”、“具有”或它们的任何其他变型均旨在涵盖非 排他性的包括。例如，包含一系列元素的组合物、步骤、方法、制品或设备不必仅限于那些 元素，而可以包括其他未明确列出的元素，或此类组合物、步骤、方法、制品或设备固有的元 素。此外，除非有相反的明确说明，“或”是指包含性的“或”，而不是指排他性的“或”。例 如，以下任何一种情况均满足条件A或B :A是真实的(或存在的)且B是虚假的(或不存 在的)，A是虚假的(或不存在的)且B是真实的(或存在的)，以及A和B都是真实的(或 存在的)。同样，涉及元素或组分实例(即出现的事物)的数目在本专利技术元素或组分前的不 定冠词“一个”或“一种”旨在是非限制性的。因此，应将“一个”或“一种”理解为包括一个 或至少一个，并且元素或组分的单数形式也包括复数，除非有数字明显表示单数。本文中的比率一般表述为相对于数值1的单一的数；例如比率为4是指4 1。术 语“当量比率”是指一种组分(例如碱)相对于加入到反应混合物中的另一种组分的当量 数，认识到，某些化合物每摩尔可提供两当量或更多当量。在本专利技术公开和权利要求中，基团“S02”表示磺酰基，“-CN”表示氰基，“_N02”表 示硝基，而“-0H”表示羟基。在上述表述中，单独使用或在复合词诸如“烷硫基”或“卤代烷基”中使用的术语 “烷基”包括直链或支链烷基，诸如甲基、乙基、正丙基、异丙基，或不同的丁基、戊基或己基 异构体。“烯基”包括直链或支链烯烃，如乙烯基、1-丙烯基、2-丙烯基、以及不同的丁烯基、 戊烯基和己烯基异构体。“烯基”还包括多烯如1，2_丙二烯基和2，4_己二烯基。“炔基”包 括直链或支链的炔烃，如乙炔基、1-丙炔基、2-丙炔基，以及不同的丁炔基、戊炔基和己炔 基异构体。“炔基”还可包括由多个三键构成的部分，如2，5-己二炔基。“烷氧基”包括例如甲本文档来自技高网...

【技术保护点】
用于制备式１的化合物的方法＊＊＊１其中Ｒ↑［１］为ＣＨＸ↓［２］、ＣＸ↓［３］、ＣＸ↓［２］ＣＨＸ↓［２］或ＣＸ↓［２］ＣＸ↓［３］；Ｘ各自独立地为Ｃｌ或Ｆ；Ｚ为任选被取代的苯基；Ｑ为Ｑ↑［ａ］或Ｑ↑［ｂ］；Ｑ↑［ａ］为被一个Ｑ↑［１］取代且任选被一至四个取代基取代的苯基，所述取代基独立地选自Ｒ↑［３］；Ｑ↑［１］为苯环或５元或６元饱和或不饱和杂环，每个环任选被一个或多个取代基取代，所述取代基独立地选自卤素、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］烷基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］卤代烷基、Ｃ↓［３Ｃ↓［６］烷基、Ｃ↓［２］－Ｃ↓［６］烯基、Ｃ↓［２］－Ｃ↓［６］炔基、Ｃ↓［３］－Ｃ↓［６］环烷基、Ｃ↓［４］－Ｃ↓［７］烷基环烷基、Ｃ↓［４］－Ｃ↓［７］环烷基烷基、Ｃ↓［２］－Ｃ↓［７］烷基羰基或Ｃ↓［２］－Ｃ↓［７］烷氧羰基；Ｒ↑［５］各自独立地为Ｈ；或Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］烷基、Ｃ↓［２］－Ｃ↓［６］烯基、Ｃ↓［２］－Ｃ↓［６］炔基、Ｃ↓［３］－Ｃ↓［６］环烷基、Ｃ↓［４］－Ｃ↓［７］烷基环烷基或Ｃ↓［４］－Ｃ↓［７］环烷基烷基，每个任选被一个或多个取代基取代，所述取代基独立地选自Ｒ↑［６］；Ｒ↑［６］各自独立地为卤素、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］烷基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］烷氧基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］烷硫基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］烷基亚磺酰基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］烷基磺酰基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］烷氨基、Ｃ↓［２］－Ｃ↓［８］二烷基氨基、Ｃ↓［３］－Ｃ↓［６］环烷基氨基、Ｃ↓［２］－Ｃ↓［７］烷基羰基、Ｃ↓［２］－Ｃ↓［７］烷氧羰基、Ｃ↓［２］－Ｃ↓［７］烷氨基羰基、Ｃ↓［３］－Ｃ↓［９］二烷基氨基羰基、Ｃ↓［２］－Ｃ↓［７］卤代烷基羰基、Ｃ↓［２］－Ｃ↓［７］卤代烷氧基羰基、Ｃ↓［２］－Ｃ↓［７］卤代烷基氨基羰基、Ｃ↓［３］－Ｃ↓［９］卤代二烷基氨基羰基、－ＯＨ、－ＮＨ↓［２］、－ＣＮ或－ＮＯ↓［２］；或Ｑ↑［２］；Ｒ↑［７］各自独立地为苯环或吡啶环，每个环任选被一个或多个取代基取代，所述取代基独立地选自Ｒ↑［８］；Ｒ↑［８］各自独立地为卤素、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］烷基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］卤代烷基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］烷氧基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］卤代烷氧基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］烷硫基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］卤代烷硫基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］烷基亚磺酰基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］卤代烷基亚磺酰基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］烷基...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：GD安尼斯，BT史密斯，
申请(专利权)人：杜邦公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]