用于制造其上以凹坑图案记录信息的介质的方法技术

本发明专利技术提供一种在无机物质制成的基板上直接且容易地形成凸凹（凹坑图案）的方法。用于制造其上以凹坑图案记录信息的介质的方法包括以下步骤：在由无机材料制成的基板（１１）上形成记录材料层（２１），所述记录材料层能够进行热模式热变形；通过向所述记录材料层（２１）照射会聚光，形成多个孔（１５）；以及在所述基板中形成与所述多个孔（１５）对应的多个凹坑（１６），其中所述多个凹坑（１６）是通过使用其中形成所述多个孔的所述记录材料层（２１）作为掩模蚀刻而形成的。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种。
技术介绍
在常规已知的用于制造其上以可光学重现的方式记录信息的介质如光盘的方法之中，有如在日本公开专利申请出版物(JP-A)3-40244中公开的制造方法。该技术中，首先，使用由金属醇盐、水、盐酸、醇和其它组分制成的溶液，涂布由作为无机物质的玻璃制成的玻璃基板，以形成预定的层。然后，在将由树脂制成的模具施用到该层上时，以60-120°C进行初次过烧操作。 此后，将玻璃基板从模具上分离，并且在250-40(TC进行二次过烧操作，以除去有机组分如溶剂、添加剂等的，使得具有预期的凹凸图案(凹坑图案)的无定形金属氧化物层形成在玻璃基板上。通过遵循上述方法，信息以微细的凹凸图案的形式被记录在玻璃基板上的金属氧化物层中。
技术实现思路
本专利技术要解决的问题 然而，在如上所述常规的制造方法中，在被安置在玻璃基板上的层中形成凹凸。因此，经过长的保存时间，具有凹凸的层可能会变得容易剥落。因此，适宜的是直接在无机物质的基板中形成微细的凹凸图案使得可以实现长的保存时间。还应指出，常规的制造方法需要涂布溶液、施用模具、初次过烧操作和二次过烧操作以及除去有机组分的数个步骤，这使得制造过程变得复杂。 考虑到这些，完成了本专利技术，目的在于提供了一种其中可以在无机物质的基板中容易且直接地形成凹凸图案(凹坑图案)的方法、以及藉此可以制造能够更长时间保存所记录的信息的介质的方法。 解决问题的手段 在本专利技术的一个实施方案中，提供一种。该方法包括以下步骤在无机物质的基板的上方形成记录材料层，其中所述记录材料层具有热变形性热模式记录材料；通过向所述记录材料层照射会聚光，形成多个孔；以及在所述基板中形成多个凹坑，其中与所述多个孔对应的多个凹坑是通过使用其中形成所述多个孔的所述记录材料层作为掩模而蚀刻的。 此处，"？L"不仅可以指例如各自具有底部，即不贯穿其面向基板的相反侧的孔，而且指贯穿记录材料层而使基板露出的孔。 根据本专利技术的上述实施方案，首先，在基板的上方形成记录材料层，然后对该记录材料层照射会聚光，在记录材料层中形成多个孔。然后，将其中形成有多个孔的记录材料层用作用于蚀刻处理的掩模，从而直接形成与多个孔对应的凹坑。使用该构造，仅仅通过遵循形成记录材料层、照射光和蚀刻的步骤，就可以容易地在基板的表面上形成凹凸图案。 记录材料层可含有机染料。使用该特征，可在记录材料层中良好地形成孔。 本专利技术的另一实施方案中，可以设计该方法使得形成记录材料层的步骤包括在所述基板上形成掩模层；以及在所述掩模层上形成所述记录材料层；并且形成多个凹坑的步骤包括在所述掩模层中形成与多个通孔，其中与多个孔对应的多个通孔是通过使用其中形成所述多个孔的所述记录材料层作为掩模而蚀刻的；以及形成所述多个凹坑，其中与所述多个通孔对应的所述多个凹坑是在所述基板中通过使用其中形成所述多个通孔的所述掩模层作为掩模而蚀刻的。 上述两个实施方案中，优选但是不必要地，可以包括从其中形成所述多个凹坑的基板除去所述记录材料层或者所述掩模层的步骤。此外，可以在该基板的上方安置保护层。可在该基板的上方安置反射层，并可在该反射层的上方安置保护层。使用这些特征，可提供其上以可光学重现的方式记录信息的介质，包括例如CD (compact disc，光盘)、DVD(digital versatiledisc，数字激光视盘)、BD(Blu-ray disc，蓝光光盘)等。此处，应指出"保护层"可以被认为包括宽范围的保护层，其不仅包括CD中的保护层，而且包括DVD或BD中的覆盖层。还应指出，在(基板或层)的"上方(over)"或"上(on)"可以被认为不仅指它直接与该基板或层接触，而且指它在其中插入任何其它层的情况下被放置在上面。 根据本专利技术，仅仅通过使用已经照射光的记录材料层作为掩模以在基板上进行蚀刻操作，可直接地在无机物质的基板中形成凹凸图案。 通过参考附图详细描述本专利技术的示例性、非限制性的实施方案，本专利技术的上述方面和优点、其它优点和另外的特征。 附图简述 附图说明图1显示了 (a)通过根据本专利技术的一个实施方案的制造方法制造的光盘的透视图，和(b)光盘的主要部分的放大截面图。 图2是显示根据本专利技术的第一实施方案的光盘的制造方法的图，其中(a)是表示未加工基板的截面图，(b)是显示在基板的上方形成记录材料层以及阻挡层的步骤的截面图，(c)是显示在记录材料层以及阻挡层中形成孔的步骤的截面图。 图3是显示根据本专利技术的第一实施方案的光盘的制造方法的图，其中(a)是显示在其整个表面的上方形成有孔的基板的截面图，(b)是显示使用记录材料层以及阻挡层作为掩模蚀刻的步骤的截面图，(c)是显示从上除去记录材料层以及阻挡层的基板的截面图。 图4是显示(a)基板表面的一个实例和(b)其另一个实例的平面图。 图5(a)是显示孔的长度与间距的关系的图，并且图5(b)是显示激光束发射的脉冲持续时间与周期的关系的图。 图6是显示从基板的背面侧照射激光束形成孔的方法的截面图。 图7是显示根据本专利技术的第二实施方案的光盘的制造方法的图，其中(a)是显示具有在记录材料层与基板表面之间形成的掩模层的基板的截面图，7(b)是显示使用记录材料层以及阻挡层作为掩模对掩模层蚀刻的步骤的截面图，(c)是显示主要使用掩模层作为掩模对基板蚀刻的步骤的截面图，(d)是显示从上已经除去掩模层的基板的截面图。 实施本专利技术的最佳方式 在适合的情况下，将参考附图对本专利技术的实施方案给出详细说明。 如图l(a)以及(b)所示，作为通过根据本专利技术的第一实施方案的制造方法所制造4的信息记录介质的一个实例的光盘1包括无机物质制成的基板11和安置在基板11上方 的保护层12。在基板11的面向保护层12的表面18上，形成多个凹坑16作为携带信息的 手段。 基板11的材料可以优选选自含Si或Al的那些材料；例如可以优选采用例如Si 、 Si02和A1203。保护层12的材料可以优选选自无机材料如Si02或其它无机氧化物和Si3N4 或其它无机氮化物，和有机材料如UV固化树脂，它们可以单独或组合使用。但是，为了延长 光盘1的寿命，适宜的是保护层12也由无机材料形成。 接着，参照图2-5，说明根据本专利技术的第一实施方案的光盘1的制造方法。 根据本专利技术的第一实施方案的光盘1的制造方法中，如图2(c)所示，将记录材料层21以及阻挡层22作为蚀刻用的掩模，在所述记录材料层21以及阻挡层22中，可以在适当时形成孔15。以下，在详细说明制造方法之前，首先详细说明用作蚀刻用掩模的记录材料层21以及阻挡层22、以及在这些记录材料层21以及阻挡层22中形成的孔15。 记录材料层21是其中通过照射强光束，经由照射光的转化产生的热引起的材料热变形而可以形成孔的层，即，所谓的热模式记录材料的层。此类记录材料迄今通常用于光盘等的记录层中，例如可将记录材料如花青系、酞菁系、醌系、方鎗(squarylium)系、奧鎗(azulenium)系、硫醇配盐系、部花青系的记录材料用于本专利技术目的。 记录材料层21可以优选是含有染料作为记录材料的染料型记录材料层。 因此，记录材料层21中所含的记录材料可选自染料或其它有机化合物。应理解，可以用于记录材料层21的材料并不限于有机物质；即，还可使用无机材料或本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于制造其上以凹坑图案记录信息的介质的方法，该方法包括以下步骤：在无机物质的基板的上方形成记录材料层，其中所述记录材料层具有热变形性热模式记录材料；通过向所述记录材料层照射会聚光，形成多个孔；以及在所述基板中形成多个凹坑，其中与所述多个孔对应的多个凹坑是通过使用其中形成所述多个孔的所述记录材料层作为掩模而蚀刻的。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：宇佐美由久，渡边哲也，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]