【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种壳体的制作方法及由该方法制得的壳体。
技术介绍
现有电子产品的外壳通常由塑料或金属制成。因金属外壳具有强度高、外观高贵 的特性，具有金属外壳的电子产品更受消费者青睐。通常，以单一的金属材料制成的外壳若 不辅以烤漆、电泳涂装等表面处理，则该外壳的颜色及视觉效果就会比较单一，难以提高产 品的外观竞争力及附加价值。若对金属外壳辅以烤漆、电泳涂装等表面处理，则该外壳的金 属质感又会降低。
技术实现思路
鉴于此，有必要提供一种视觉效果丰富的具金属质感的壳体的制作方法。另外，还有必要提供一种由上述方法所制得的壳体。一种壳体的制作方法，其包括如下步骤提供一金属基体；在该金属基体的部分区域蚀刻凹槽；在所述基体及其凹槽的表面覆盖一金属层；去除所述形成于基体表面的金属层。一种壳体，其包括一金属基体，该金属基体的一表面上形成有凹槽，所述凹槽的表面覆盖有一金属层。相较于现有技术，本专利技术壳体的制作方法通过先在金属基体的表面蚀刻凹槽，再 于凹槽的表面覆盖一金属层，可使壳体实现金属镶嵌的外观，可增强壳体的视觉效果及外 观吸引力附图说明图1是本专利技术一较佳实施方式壳体的剖视示意图。 具体实施例方式本专利技术一较佳实施方式的壳体的制作方法包括如下步骤提供一金属基体。该金属基体可由不锈钢制成。在该金属基体一表面的部分区域蚀刻若干凹槽。该若干凹槽可为具有规则形状的 图案或任意花纹。该若干凹槽的深度可在0. 1-0. 12_之间。蚀刻若干凹槽的方法可为化 学蚀刻，如可将所述金属基体浸渍于含铜离子、铁离子、氯离子、硫酸根离子及硝酸根离子 等离子的蚀刻液中，该蚀刻液中的金属离...
【技术保护点】
一种壳体的制作方法，其包括如下步骤： 提供一金属基体； 在该金属基体的部分区域蚀刻凹槽； 在所述基体及其凹槽的表面覆盖一金属层； 去除所述形成于基体表面的金属层。
【技术特征摘要】
1.一种壳体的制作方法，其包括如下步骤提供一金属基体；在该金属基体的部分区域蚀刻凹槽； 在所述基体及其凹槽的表面覆盖一金属层； 去除所述形成于基体表面的金属层。2.如权利要求1所述的壳体的制作方法，其特征在于所述金属基体的材质为不锈钢、 铝、铝合金、锌、锌合金、钛或钛合金。3.如权利要求1所述的壳体的制作方法，其特征在于所述蚀刻凹槽的方法为化学蚀刻。4.如权利要求3所述的壳体的制作方法，其特征在于所述凹槽的深度在0.1-0. 12mm 之间。5.如权利要求1所述的壳体的制作方法，其特征在于所述金属层的材...
【专利技术属性】
技术研发人员：朱永刚，丁大伟，关辛午，林兆焄，
申请(专利权)人：深圳富泰宏精密工业有限公司，
类型：发明
国别省市：94[中国|深圳]
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