【技术实现步骤摘要】
本专利技术总地涉及具有图案化伺服扇区的图案化介质磁记录盘,且涉及制造用于纳米压印该图案化介质盘的母模(master mold)的方法。
技术介绍
已经提出了具有图案化磁记录介质的磁记录硬盘驱动器以增大数据密度。在图案 化介质中,盘上的磁记录层被图案化成布置于同心数据道中的小的隔离的数据岛。为了制 造图案化数据岛的所需磁隔离,岛之间的空间的磁矩必须被消灭或者基本减小以使这些空 间实质上为非磁的。在一类图案化介质中,数据岛是拔高的区域或者柱,其延伸得高出“沟 槽”且磁材料覆盖柱和沟槽两者,通常通过用诸如硅(Si)的材料“毒化”而使沟槽中的磁材 料呈非磁性。在另一类图案化介质中,磁材料首先沉积在平的盘衬底上。然后通过研磨、蚀 刻或离子轰击数据岛周围的区域来形成磁数据岛。类似于常规的非图案化或连续介质盘,图案化介质盘也需要具有非数据伺服区 域,其用于读/写头定位。具有拔高的间隔开的数据柱的提前蚀刻型图案化介质盘中的伺 服区域也可以被图案化且因此包含通过沟槽分隔开的拔高的非数据伺服岛或柱。伺服柱通 常在制造工艺期间被伺服写入或者预磁化,并且在盘驱动器的正常操作期间无意被重写。 提出的用于伺服写入此类盘的方法是在制造期间用大磁体DC “擦除(erase) ”盘,留下全部 伺服柱沿相同方向磁化。这样,对于图案化介质垂直磁记录盘,全部伺服柱将具有相同的磁 化方向,即或者“进入”盘表面或者“离开”盘表面。然而,与基本是线或点的周期性图案的 数据柱图案不同,伺服柱图案通常具有不同的形状且不形成周期性图案,而是基本任意的。一种提出的制造图案化介质盘的方法是用模板或模具(有时 ...
【技术保护点】
一种图案化介质垂直磁记录盘,包括:盘衬底;多个同心基本圆形的数据道,在该衬底上且被图案化成可磁化材料的离散数据岛,所述道具有跨道方向的道节距TP;以及多个角间隔开的伺服扇区,在该衬底上且跨越多个数据道基本径向延伸,每个伺服扇区包括相对于数据道倾斜的磁化伺服条纹的第一和第二圆周向相邻的场区,所述伺服条纹的在跨条纹方向上的条纹节距基本等于TP。
【技术特征摘要】
US 2009-10-22 12/604,3331.一种图案化介质垂直磁记录盘,包括 盘衬底;多个同心基本圆形的数据道,在该衬底上且被图案化成可磁化材料的离散数据岛,所 述道具有跨道方向的道节距TP ;以及多个角间隔开的伺服扇区,在该衬底上且跨越多个数据道基本径向延伸,每个伺服扇 区包括相对于数据道倾斜的磁化伺服条纹的第一和第二圆周向相邻的场区,所述伺服条纹 的在跨条纹方向上的条纹节距基本等于TP。2.如权利要求1所述的盘,其中该第一场区中的条纹和该第二场区中的条纹沿不同方 向倾斜。3.如权利要求2所述的盘,其中所述数据道和所述第一场区中的条纹之间的锐角与所 述数据道与所述第二场区中的条纹之间的锐角基本相同。4.如权利要求1所述的盘,其中每个所述磁化条纹包括通过非磁空间分隔开的磁化片段。5.如权利要求4所述的盘,其中所述磁化片段基本垂直于所述跨道方向取向。6.如权利要求5所述的盘,其中所述离散数据岛具有沿道方向的位节距BP,所述伺服 条纹中的磁化片段的沿道方向的片段节距基本等于BP。7.如权利要求4所述的盘,其中所述磁化片段基本垂直于所述跨条纹方向取向。8.如权利要求1所述的盘,其中所述离散数据岛具有比所述磁化条纹的跨条纹宽度更 大的跨道宽度。9.如权利要求1所述的盘,其中所述多个同心数据道布置成多个环形区带。10.如权利要求1所述的盘,其中所述数据岛和伺服条纹是从衬底延伸的柱。11.如权利要求10所述的盘,还包括在该数据岛和伺服条纹的柱之间的衬底上的平坦化层。12.一种制造用于压印磁记录盘的母模的方法,包括在具有中心的衬底上形成以环形区带布置的基本径向的径迹的图案,该径迹具有约为 nLrad的圆周向间隔,其中η是等于或大于2的整数;在径向径迹的图案上形成包括第一嵌段共聚物的材料层,第一嵌段共聚物具有体周期 Lrad,由此第一共聚物材料被所述径迹引导以自组装成第一共聚物的第一和第二组分交替 的基本径向的线,第一共聚物的第一组分的基本径向的线具有约Lrad的圆周向间隔;在该衬底上形成同心环的图案和与该同心环的图案角间隔开的平行的非径向的带的 图案,该同心环具有约IiLeirc的径向间隔,该带具有约IiLeirc的带间隔,其中η是等于或大于 2的整数;以及在环和带的图案上形成包括第二嵌段共聚物的材料层,该第二嵌段共聚物具有体周期 Lcdrc,其中Lcto等于或大于2LMd,由此该第二共聚物材料被所述环和带引导以自组装成第二 共聚物的第一和第二组分交替的基本同心的环和该第二共聚物的第一和第二组分交替的 平行非径向的条纹。13.如权利要求12所述的方法,其中在衬底上形成包括第一嵌段共聚物的材料层包括 沉积第一嵌段共聚物材料层及退火所沉积的第一嵌段共聚物材料从而导致所述第一嵌段 共聚物的所述第一和第二组分的相分离,且其中在所述衬底上形成包括第二嵌段共聚物的材料层包括沉积第二嵌段共聚物材料层及退火所沉积的第二嵌段共聚物材料从而导致所 述第二嵌段共聚物的所述第一和第二组分的相分离。14.如权利要求12所述的方法,还包括,在形成所述同心环的图案和所述平行的非径 向的带的图案之前,去除所述第一...
【专利技术属性】
技术研发人员:托马斯R阿尔布雷克特,乔纳森D科克尔,里卡多鲁伊斯,布鲁斯A威尔逊,
申请(专利权)人:日立环球储存科技荷兰有限公司,
类型:发明
国别省市:NL[荷兰]
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