非接触式吸嘴制造技术

一种非接触式吸嘴，其包括一吸嘴座及一设置于吸嘴座中的锥体，于锥体的锥面与吸嘴座间形成气流通道，于该吸嘴座作用面周缘设置数个抵压块，该数个抵压块形成水滴形柱杆状，该数个水滴形柱杆状的抵压块一端形成宽弧面，该宽弧面是面向于吸嘴座的作用面中间处，借此设计，使喷出的气流能顺畅的流经该抵压块，而不会产生乱流牵引的压差抵减，故能达到稳定吸附光电半导体薄片形工件的实用功效。（*该技术在2019年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

非接触式吸嘴
本技术是关于一种非接触式吸嘴，特别是关于一种应用于压差吸附领域的非接触式吸嘴结构。
技术介绍
在电子产业或光学产业中，对于半导体晶圆或太阳能光电板的制造过程中所必需进行的移位活动，可借由真空吸嘴进行吸取、移位及放置等连续动作，而能对于上述光电半导体薄片形工件进行移位活动，而由于真空吸嘴是以吸引空气所形成的真空状态，使光电半导体薄片形工件能被真空吸嘴所吸附，故其容易因为完全接触抵压而损坏光电半导体薄片形工件所蚀刻布设的电路，故于目前业界，已逐渐朝向非接触式吸嘴进行研究。 该非接触式吸嘴，对于光电半导体薄片形工件的吸附作用，是利用白努力原理(Bernoulli)，将气体由吸嘴处向外喷出，使吸嘴与其下方的光电半导体薄片形工件间形成负压，而与周围外界空气压力形成压差，使光电半导体薄片形工件能向上引动，且令光电半导体薄片形工件周缘能抵压于该非接触式吸嘴周缘所设置的数个抵压块底面，而能吸附光电半导体薄片形工件进行移位操作。 如图6所示，上述非接触式吸嘴的数个抵压块皆为圆形柱杆，而当非接触式吸嘴所喷出的气流撞及该数个抵压块表面时，于该数个抵压块的迎风面背侧会形成半真空状态，而对于流过抵压块表面的气流会形成牵引作用，导致该处压差抵减破坏，而必需喷出更强的气流才能弥补，造成喷出气体的装置，必需耗费更大的功率，消耗更多的能源，才能达到较佳的定位吸附效果。
技术实现思路
本技术设计目的在于，提供一种「非接触式吸嘴」结构，而能解决现有非接触式吸嘴于操作上的压差易遭破坏的缺点，以达到稳定吸附光电半导体薄片形工件的实用功效。 为达成上述目的的结构特征及
技术实现思路
，本技术「非接触式吸嘴」，其包括 —吸嘴座，该吸嘴座包含一作用面，该吸嘴座于作用面处形成一锥形槽，该锥形槽于作用面处形成扩大开口及相对于扩大开口端形成縮小部，于该縮小部处设置一喷气道与外界连通； —锥体，其包含一平面及位于该平面周围的锥面，该锥体设置于上述吸嘴座的锥形槽中，是以平面位于该锥形槽扩大开口下缘，而在该锥面与锥形槽面之间形成气流通道； 数个抵压块，该数个抵压块形成水滴形柱杆状，该数个抵压块一端设置于上述吸嘴座的作用面周缘，且该数个水滴形柱杆状的抵压块周围一侧形成宽弧面，该宽弧面是面向于上述吸嘴座的作用面中间处。 借此设计，使喷出的气流能顺畅的流经抵压块，而不会产生乱流，造成压差状态的破坏，因此，本技术设计，可产生较佳的压差状态，而能对于光电半导体薄片形工件进 行稳定的吸附操作。附图说明图1 :本技术外观示意图。 图2:本技术组合剖视图。 图3:本技术仰视图。图4 :本技术抵压块的宽弧面迎向喷气端的流体流动示意图。 图5 :本技术吸附光电半导体薄片形工件的实施例示意图。图6 :现有非接触式吸嘴的抵压块为圆形柱杆状，而对于喷气的气体流经该处的示意图(10)吸嘴座 (12)锥形槽 (14)气流通道 (151)宽弧面 (21)平面 (23)支撑块 (40)载台(11)作用面 (13)喷气道 (15)抵压块 (20)锥体 (22)锥面(30)光电半导体薄片形工件具体实施方式本技术设计，在非接触式吸嘴的气流通道上设置水滴形柱杆状的抵压块，使 喷出的气流能顺畅的流经该抵压块，而不会产生乱流牵引的压差抵减，达到稳定吸附光电 半导体薄片形工件的实用功效。 配合参看图1、图2及图3所示，本技术「非接触式吸嘴」包括一吸嘴座10、一 设置于吸嘴座10中的锥体20，该吸嘴座10与该锥体20间形成气流通道14，该吸嘴座10中 设置一喷气道13，该喷气道13 —端与气流通道14连通，该喷气道13另端连通外界，而可与 外界喷气装置的喷气元件相连接，使喷气装置喷出的气流可经由喷气道13及气流通道14 向外喷出，其中 该吸嘴座IO包含一作用面ll，该吸嘴座10于作用面11处形成一锥形槽12，该锥 形槽12于作用面11处形成扩大开口及相对于扩大开口端形成縮小部，于该縮小部处设置 一喷气道13与外界连通。 锥体20包含一平面21及位于该平面21周围的锥面22，该锥体20设置于上述吸 嘴座10的锥形槽12中，是以平面21位于该锥形槽12扩大开口下缘，而在该锥面22与锥 形槽12面之间形成气流通道14。 于上述吸嘴座10作用面11周缘设置数个抵压块15，该数个抵压块15形成水滴形 柱杆状，其是以该数个抵压块15 —端设置于上述吸嘴座10作用面11，且该数个水滴形柱杆 状的抵压块15周围一侧形成宽弧面151，该宽弧面151是面向于上述吸嘴座10的作用面 11中间处。 上述数个支撑块23亦形成水滴形柱杆状，且其一端亦形成宽弧面，该宽弧面则面向上述喷气道13方向。 所述的锥体20设置于吸嘴座10的锥形槽12中，是形成该锥体20平面21与该吸 嘴座10作用面11具有数微米高度差，即锥体20平面21深入锥形槽12中，使吸嘴座10作 用面11于锥形槽12处形成微凹入状态。 配合参看图4所示，由于吸嘴座10的作用面11周缘所设置的数个抵压块15是形 成水滴形柱杆状，且该数个抵压块15周围一侧所形成的宽弧面151是迎向气流通道14，使 喷出的气体经由宽弧面151后，能同时沿着宽弧面151两侧流至抵压块15末端顺畅接续， 故本技术设计符合流体力学原理，使气流能顺畅的流经抵压块15，以确保该处气流不 会产生乱流牵引的压差抵减。 配合参看图5所示，本技术设计的操作使用，是将喷嘴座10的喷气道13与外 界喷气装置相连接，并将喷嘴座10设置于载台40上所摆置的光电半导体薄片形工件30上 方，而可将喷气装置所喷出的喷气喷入喷气道13中，且经由连通的气流通道14而朝喷嘴座 IO作用面11与光电半导体薄片形工件30之间朝四面八方而向外喷出，使光电半导体薄片 形工件30可因压差而向上引动且抵于抵压块15底面，而能稳定的吸附该光电半导体薄片 形工件30进行移位操作。 综上所述，本技术可借由该数个抵压块15所形成的水滴形柱杆状，而能达到 符合流体力学流动的设计效应，使喷出的流体于接触到宽弧面151后，可顺畅的沿着周面 而向后流动接续向后流出，能使喷出的气流能达到顺畅的向外流动功效，而能避免所形成 的压差造成抵减，故能产生稳定的压差，以达到稳定吸附光电半导体薄片形工件30的实用 功效。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种非接触式吸嘴，其特征在于：包括：一吸嘴座，该吸嘴座包含一作用面，该吸嘴座于作用面处形成一锥形槽，该锥形槽于作用面处形成扩大开口及相对于扩大开口端形成缩小部，于该缩小部处设置一喷气道与外界连通；一锥体，其包含一平面及位于该平面周围的锥面，该锥体设置于上述吸嘴座的锥形槽中，是以平面位于该锥形槽扩大开口下缘，而在该锥面与锥形槽面之间形成气流通道；数个抵压块，该数个抵压块形成水滴形柱杆状，该数个抵压块一端设置于上述吸嘴座的作用面周缘，且该数个水滴形柱杆状的抵压块周围一侧形成宽弧面，该宽弧面是面向于上述吸嘴座的作用面中间处。

【技术特征摘要】
一种非接触式吸嘴，其特征在于包括一吸嘴座，该吸嘴座包含一作用面，该吸嘴座于作用面处形成一锥形槽，该锥形槽于作用面处形成扩大开口及相对于扩大开口端形成缩小部，于该缩小部处设置一喷气道与外界连通；一锥体，其包含一平面及位于该平面周围的锥面，该锥体设置于上述吸嘴座的锥形槽中，是以平面位于该锥形槽扩大开口下缘，而在该锥面与锥形槽面之间形成气流通道；数个抵压块，该数个抵压块形成水滴形柱杆状，该数个抵压块一端设置于上述吸嘴座的作用面周...

【专利技术属性】
技术研发人员：罗文保，
申请(专利权)人：友上科技股份有限公司，
类型：实用新型
国别省市：71[中国|台湾]